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公开(公告)号：CN104119466B
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201410335922.8
申请日：2014-07-15
申请人： 南京大学
IPC分类号： C08F212/08 , C08F212/32 , C08F8/44 , C08F8/32
CPC分类号： B01J41/13 , B01J41/05 , B01J41/07 , C08F8/32 , C08F8/44 , C08F12/24 , C08F12/28 , C08F212/36 , C08F12/18 , C08F8/12 , C08F8/02
摘要： 本发明公开了一种高交换容量双功能基阴离子交换树脂及其合成方法，属于环境功能材料合成与应用领域。该树脂使用氯甲基化聚苯乙烯-二乙烯苯聚合物为基体，通过伯胺化与季铵化反应，制得同时具有弱碱型和强碱型阴离子基团的双功能基的阴离子交换树脂。该阴离子交换树脂不仅对水中硝酸根离子有较高的吸附容量，还能有效吸附水中植酸类天然有机酸；可同时去除水中硝酸根离子和植酸类有机质，因此在饮用水处理、地下水修复、城市生活污水深度处理领域具有广阔应用前景。
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公开(公告)号：CN103168274B
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201180050223.3
申请日：2011-09-15
申请人： 日产化学工业株式会社
IPC分类号： G03F7/11 , C08F212/06 , C08G8/10 , H01L21/027
CPC分类号： C09D5/00 , C08F12/24 , C08G8/08 , C08G8/24 , C08L61/06 , C09D161/06 , G03F7/091 , G03F7/11 , C08F212/32 , C08F212/14 , C08F220/06
摘要： 本发明的课题是提供不与EUV抗蚀剂混合、在EUV曝光时遮挡不优选的曝光光例如UV光和/或DUV光并仅选择性地透射EUV光、而且曝光后能用显影液显影的在EUV光刻工艺中使用的EUV抗蚀剂上层膜形成用组合物。作为本发明的解决问题的方法是，包含主链或侧链含有萘环的树脂和溶剂的在EUV光刻工序中使用的EUV抗蚀剂上层膜形成用组合物，其中，树脂中作为亲水性基团包含：羟基、羧基、磺基、或包含这些基团中的至少一个基团的一价有机基团。
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公开(公告)号：CN105580187A
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201480053192.0
申请日：2014-09-25
申请人： 富士胶片株式会社
IPC分类号： H01M10/0562 , C08F212/06 , C08F220/10 , C08F220/42 , C08F290/12 , H01B1/06 , H01M4/62 , H01M10/0565
CPC分类号： H01M10/056 , C08F12/24 , C08F220/14 , C08F290/12 , H01B1/06 , H01M4/13 , H01M4/622 , H01M10/05 , H01M10/0562 , H01M10/0565 , H01M2300/0068
摘要： 本发明提供一种固体电解质组合物，所述固体电解质组合物包含具有属于元素周期表第1族或第2族的金属的离子的传导性的无机固体电解质(A)、由嵌入有包含数均分子量1000以上的侧链成分的大分子单体(X)的聚合物构成的平均粒径为10nm以上且1000nm以下的粘合剂粒子(B)、及分散介质(C)。
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公开(公告)号：CN101613430B
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN200910150876.3
申请日：2009-06-25
申请人： 日东电工株式会社
IPC分类号： C08F212/00 , C08F212/08 , C08F212/14 , C08F212/36 , C08F220/58 , C08F220/54 , C08F8/12 , C07H21/00 , C07H1/00
CPC分类号： C08F8/12 , C08F12/22 , C08F12/24 , C08F212/08 , C08F2800/10 , C08F220/58 , C08F212/36 , C08F212/14 , C08F220/56
摘要： 本发明涉及多孔树脂珠和利用其制备核酸的方法。本发明提供含有芳香族单乙烯基化合物-二乙烯基化合物-(甲基)丙烯酰胺衍生物共聚物的多孔树脂珠。优选所述共聚物进一步包含第二芳香族单乙烯基化合物作为结构单元，所述第二芳香族单乙烯基化合物具有能够通过脱水缩合反应结合到羧基的官能团。
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公开(公告)号：CN103459437B
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201280016609.7
申请日：2012-03-27
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： C08F12/14 , C07C311/29 , C08F20/58 , C08F20/60 , C08F212/14 , C08F220/58 , C08F220/60 , G03G9/087 , G03G9/097 , G03G15/08
CPC分类号： G03G9/09775 , C07C311/28 , C07C311/29 , C07C311/48 , C07C311/49 , C07C311/51 , C07C311/52 , C08F12/22 , C08F12/24 , C08F12/26 , C08F12/30 , C08F212/08 , C08F212/12 , C08F212/14 , C08F212/32 , C08F220/54 , C08F220/58 , C08F2220/585 , G03G9/08726 , G03G9/08728 , G03G9/08735 , G03G9/08795 , G03G9/08797 , C08F220/06 , C08F2220/1825
摘要： 提供具有优异电荷赋予特性的高分子化合物，所述高分子化合物包含至少一种由下列通式(5)表示的单元。通式(5)通式(5)中，R1表示氢原子或烷基；R2至R4各自表示氢原子、烷基、烷氧基、羟基或卤素原子，或R3和R4可彼此结合以形成环；且A表示二价连接基团。
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公开(公告)号：CN104119466A
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：CN201410335922.8
申请日：2014-07-15
申请人： 南京大学
IPC分类号： C08F212/08 , C08F212/32 , C08F8/44 , C08F8/32
CPC分类号： B01J41/13 , B01J41/05 , B01J41/07 , C08F8/32 , C08F8/44 , C08F12/24 , C08F12/28 , C08F212/36 , C08F12/18 , C08F8/12 , C08F8/02
摘要： 本发明公开了一种高交换容量双功能基阴离子交换树脂及其合成方法，属于环境功能材料合成与应用领域。该树脂使用氯甲基化聚苯乙烯-二乙烯苯聚合物为基体，通过伯胺化与季铵化反应，制得同时具有弱碱型和强碱型阴离子基团的双功能基的阴离子交换树脂。该阴离子交换树脂不仅对水中硝酸根离子有较高的吸附容量，还能有效吸附水中植酸类天然有机酸；可同时去除水中硝酸根离子和植酸类有机质，因此在饮用水处理、地下水修复、城市生活污水深度处理领域具有广阔应用前景。
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公开(公告)号：CN103168274A
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：CN201180050223.3
申请日：2011-09-15
申请人： 日产化学工业株式会社
IPC分类号： G03F7/11 , C08F212/06 , C08G8/10 , H01L21/027
CPC分类号： C09D5/00 , C08F12/24 , C08G8/08 , C08G8/24 , C08L61/06 , C09D161/06 , G03F7/091 , G03F7/11 , C08F212/32 , C08F212/14 , C08F220/06
摘要： 本发明的课题是提供不与EUV抗蚀剂混合、在EUV曝光时遮挡不优选的曝光光例如UV光和/或DUV光并仅选择性地透射EUV光、而且曝光后能用显影液显影的在EUV光刻工艺中使用的EUV抗蚀剂上层膜形成用组合物。作为本发明的解决问题的方法是，包含主链或侧链含有萘环的树脂和溶剂的在EUV光刻工序中使用的EUV抗蚀剂上层膜形成用组合物，其中，树脂中作为亲水性基团包含：羟基、羧基、磺基、或包含这些基团中的至少一个基团的一价有机基团。
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公开(公告)号：CN101622377A
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：CN200680056474.1
申请日：2006-11-27
申请人： 日本帕卡濑精株式会社
IPC分类号： C23C26/00 , C08F12/14 , C09D125/18 , C09D201/10 , C23C22/05
摘要： 本发明的目的在于提供为无铬系，可获得密合性、耐腐蚀性和耐化学试剂性优异的涂膜的表面处理剂。该表面处理剂含有水溶性化合物(A)，该水溶性化合物(A)具有烷氧基甲硅烷基、芳环、和直接与上述芳环键合的羟基。
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公开(公告)号：CN1282342A
公开(公告)日：2001-01-31
申请号：CN98812234.0
申请日：1998-12-01
申请人： 克拉里安特国际有限公司
摘要： 一种制备去离子树脂的方法,它包括:最少具有一个活性羟基和一个活性螫合部位的有机化合物与最少有一个活生羟基或氨基的有机高分子基体反应;产生螯合的聚合物配合物;用水洗涤此聚合物配合物,再用无机酸溶液洗;再用水洗,以此减小钠、铁和铬离子在聚合物配合物中的含量,使之均低于100ppb。
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公开(公告)号：CN106133606B
公开(公告)日：2019-06-28
申请号：CN201580015088.7
申请日：2015-02-25
申请人： 日产化学工业株式会社
IPC分类号： G03F7/11 , C08F12/22 , C08F220/10 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/11 , C08F12/22 , C08F12/24 , C08F212/14 , C08F220/22 , C08F220/28 , C08F220/38 , C08F2220/282 , C08F2220/382 , C09D7/65 , C09D125/14 , C09D167/02 , G03F7/039 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/325 , G03F7/38 , G03F7/40
摘要： 本发明的课题是提供用于抗蚀剂下层膜形成用组合物的添加剂、以及包含该添加剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物。本发明的解决方法是一种用于抗蚀剂下层膜形成用组合物的添加剂、以及包含前述添加剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物，所述添加剂含有具有下述式(1)～式(4)所示的结构单元的共聚物(式中，R1分别独立地表示氢原子或甲基，Ar表示亚芳基，Pr表示保护基或氢原子，X表示直接结合或‑C(＝O)O‑R2‑基，构成该‑C(＝O)O‑R2‑基的R2表示碳原子数为1～3的亚烷基，该亚烷基与硫原子结合，R3表示氢原子、甲基、甲氧基或卤素，R4表示至少1个氢原子被氟取代了的碳原子数为1～3的烷基，Z表示具有四元环～七元环的内酯骨架、金刚烷骨架或降冰片烷骨架的有机基团。)。
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