新晶体结构酞菁钴(J-CoPc)纳米线及其制备方法

    公开(公告)号:CN104086555A

    公开(公告)日:2014-10-08

    申请号:CN201410279515.X

    申请日:2014-06-20

    申请人: 昆明学院

    摘要: 本发明涉及一种新晶体结构酞菁钴纳米线及其制备方法领域。提供了一种酞菁钴纳米线,具有J-酞菁钴结构,直径为150nm以下。还提供了一种制备所述的酞菁钴纳米线的方法,包括下列步骤:a)引入酞菁钴源料至管式炉中的加热区域;b)在载气存在下,加热该酞菁钴源料至最高600℃;c)通过该载气,引导该升华的酞菁钴离开该加热区域,至生长区域;d)在该生长区域,得到酞菁钴纳米线。本发明提出利用气相沉积法,生长得到的纳米量级的酞菁钴晶体,提升和改善了酞菁钴的物理和化学性质,如光谱吸收能力和载流子迁移率等,能更好地应用于染料、光电导材料、液晶、电致变色、催化、太阳能电池等领域。

    8-羟基喹啉铝纳米晶的制备方法

    公开(公告)号:CN101270128B

    公开(公告)日:2012-05-23

    申请号:CN200710073648.1

    申请日:2007-03-23

    发明人: 李亚栋 陈伟

    IPC分类号: C07F5/06 B82B1/00

    摘要: 本发明提供一种8-羟基喹啉铝纳米晶的制备方法,其包括以下步骤:将8-羟基喹啉铝粉末溶解于有机溶剂中,得到溶液A;将表面活性剂溶解于水中,得到溶液B;将溶液A与溶液B通过剧烈搅拌或强力超声均匀混合后,得到均一的乳液C;在40℃至90℃的温度下,将乳液C搅拌蒸发或减压蒸馏2至8小时以去除有机溶剂,离心分离后即得到8-羟基喹啉铝纳米晶。该制备方法操作简单、能耗低、适于工业化生产,且该方法制备所得的8-羟基喹啉铝纳米晶易于通过简单的旋涂法形成均一、致密的膜。

    有机半导体元件
    45.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101108783B

    公开(公告)日:2012-04-04

    申请号:CN200710140774.4

    申请日:2002-08-07

    发明人: 南方尚

    摘要: 本发明涉及一种适合于电子学、光学、生物电子学等的有机半导体薄膜及其制造方法。此外,涉及成为该有机半导体薄膜原料的有机半导体溶液。另外,涉及采用该有机半导体薄膜的有机半导体元件。本发明的晶体管,是通过在玻璃基板(5)上依次叠层栅电极(2)、绝缘体层(3)、源电极及漏电极(4,4),进而,在其上面涂布戊省的邻二氯苯溶液(0.05质量%),干燥,形成有机半导体薄膜(1)得到的。可低成本且容易地形成该有机半导体薄膜(1),由于几乎无缺陷,所以本发明能够提供电子特性优良的晶体管。

    有机半导体元件
    47.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100334263C

    公开(公告)日:2007-08-29

    申请号:CN02815611.0

    申请日:2002-08-07

    发明人: 南方尚

    摘要: 本发明涉及一种适合于电子学、光学、生物电子学等的有机半导体薄膜及其制造方法。此外,涉及成为该有机半导体薄膜原料的有机半导体溶液。另外,涉及采用该有机半导体薄膜的有机半导体元件。本发明的晶体管,是通过在玻璃基板(5)上依次叠层栅电极(2)、绝缘体层(3)、源电极及漏电极(4,4),进而,在其上面涂布戊省的邻二氯苯溶液(0.05质量%),干燥,形成有机半导体薄膜(1)得到的。可低成本且容易地形成该有机半导体薄膜(1),由于几乎无缺陷,所以本发明能够提供电子特性优良的晶体管。

    有机半导体元件
    50.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1541288A

    公开(公告)日:2004-10-27

    申请号:CN02815611.0

    申请日:2002-08-07

    发明人: 南方尚

    摘要: 本发明涉及一种适合于电子学、光学、生物电子学等的有机半导体薄膜及其制造方法。此外,涉及成为该有机半导体薄膜原料的有机半导体溶液。另外,涉及采用该有机半导体薄膜的有机半导体元件。本发明的晶体管,是通过在玻璃基板(5)上依次叠层栅电极(2)、绝缘体层(3)、源电极及漏电极(4,4),进而,在其上面涂布戊省的邻二氯苯溶液(0.05质量%),干燥,形成有机半导体薄膜(1)得到的。可低成本且容易地形成该有机半导体薄膜(1),由于几乎无缺陷,所以本发明能够提供电子特性优良的晶体管。