-
公开(公告)号：CN111239890A
公开(公告)日：2020-06-05
申请号：CN202010189618.2
申请日：2020-03-18
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B6/02
Abstract: 本发明公开了一种微纳光纤长周期光栅的制备装置及制备方法，包括：用于发射激光光束的激光器；扫描振镜，其位于激光器发出的激光光束的下游，所述激光光束能够照射在扫描振镜上；电控平移台，其上设置有用于固定微纳光纤的光纤夹具，所述电控平移台位于扫描振镜的后端，且经过扫描振镜的激光束能够照射在光纤夹具上；CCD，其位于电控平移台的后端；控制电脑，其分别与激光器、扫描振镜、电控平移台和CCD相连，所述控制电脑能够对激光器、扫描振镜、电控平移台和CCD进行控制。本发明微纳光纤长周期光栅的制备方法，具有制备简单、制备时间短、调制深度高的优点，特别适合长周期光栅器件的批量生产。
-
公开(公告)号：CN111175683A
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN202010181860.5
申请日：2020-03-16
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01R35/00
Abstract: 本发明公开了一种交直流复合磁场-力-热环境下实验测试系统，包括：工作台；一对平行的直流亥姆霍兹线圈，其通过移动单元设置在工作台上；两对平行的交流亥姆霍兹线圈，其通过支撑杆设置在工作台上，且两对平行的交流亥姆霍兹线圈连接在支撑杆的顶部并合围形成容纳腔体；且容纳腔体位于一对平行的直流亥姆霍兹线圈之间的中心处；温控炉，其设置在支撑杆的顶部，且温控炉位于容纳腔体内；测力单元，其设置在工作台上并位于一对平行的直流亥姆霍兹线圈的一端，且测力单元的施力方向与一对平行的直流亥姆霍兹线圈的轴线平行；夹具单元，其设置在工作台上并位于一对平行的直流亥姆霍兹线圈的另一端，且夹具单元与测力单元相对应设置。
-
公开(公告)号：CN105750272B
公开(公告)日：2018-02-06
申请号：CN201610245993.8
申请日：2016-04-20
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供了一种自动化干法清洗装置。所述清洗装置中的高压二氧化碳气体经高压气管顺序通过控压阀、电控阀门、空气过滤器、以及智能喷射探头中的文丘里管喷出，变成固体、液体、气体混合物从而清除工件表面残留颗粒污染物。智能喷射探头兼具监测工件位置状态的功能。五自由度电位移台带动被清洗件完成自动清洗，以及调节被清洗件与文丘里管之间的距离和相对角度。长焦距显微镜的观察范围与文丘里管喷射出的二氧化碳气流在被清洗工件表面的覆盖区域一致，用于实时观察和记录清洗效果。本发明能够在保证清洗效率和清洗后工件表面洁净度稳定性的情况下，利用干法清洗方式实现去除半导体器件、光学镜片、金属器件等表面残留的微米、亚微米颗粒的目的。
-
公开(公告)号：CN107247037A
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：CN201710631796.4
申请日：2017-07-28
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/45
CPC classification number: G01N21/45 , G01N2021/458
Abstract: 本发明公开了一种基于单模‑多模‑无芯光纤结构的分子态有机污染物监测传感器，包括：单模光纤；多模光纤，其与单模光纤的熔接；表面包覆溶胶‑凝胶二氧化硅薄膜的无芯光纤，其一端与多模光纤的输入端偏心熔接；无芯光纤与多模光纤偏心熔接后的不重叠位置处包覆第一金属膜层，其另一端面附着第二金属膜层。将在线监测传感器置于被监测环境中，当分子态有机污染物浓度发生变化，会导致表面薄膜折射率发生变化，从而引起整个波导结构有效折射率发生变化导致谐振条件发生变化，使马赫‑泽德混合干涉中一干涉臂光程发生变化导致整个波导干涉条件发生变化，最后光谱仪监测输出信号波长，通过对输出信号进行处理即可反推外部环境分子态有机污染物浓度。
-
公开(公告)号：CN105241224B
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201510730105.7
申请日：2015-11-02
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: F26B23/06
Abstract: 本发明提供了一种箱体内壁红外烘烤机，该红外烘烤机的底座下安装有四个万向轮；底座上面的一侧安装有电机，电机上安装有螺杆，灯架Ⅰ上的内螺纹套筒套在螺杆上并与螺杆形成螺纹‑螺杆运动副，螺杆与底座上面的轨道平行，灯架Ⅰ在轨道上滑动；底座上面还布置有棘轮‑滑轮机构控制灯架Ⅱ的升降；灯架Ⅰ与灯架Ⅱ固连，灯架Ⅰ和灯架Ⅱ上布置有红外烘烤灯。本发明的箱体内壁红外烘烤机可在箱体内的四个维度上运动调整，烘烤效率高且不会对箱体外表面喷漆造成损坏，能够满足为大型激光装置下架洁净清洗后的箱体加快残留水分蒸发和防锈的需求，结构简单，烘烤快速，方便宜行，操作容易。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105921454A
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：CN201610306612.2
申请日：2016-05-11
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供了一种高功率激光装置的不锈钢元件表面的洁净处理方法。该方法首先采用普通清洗方法以去除元件表面的大粒径和大面积污染物，其后经脱水处理，再将元件浸泡于清洗剂溶液中浸润，经脱水处理后再去除表面氧化物；利用清洗剂溶液进行二次浸润，最后对元件进行超声波或高压喷淋精密清洗。本发明的高功率激光装置的不锈钢元件表面的洁净处理方法，适用于高功率激光装置中不同尺寸的不锈钢元件的清洁，污染物去除效果好，不锈钢元件的表面洁净度等级高，具有可靠、经济、高效优点，清洗后不锈钢元件的表面洁净度等级优于BJD 100级‑A/10A。
-
公开(公告)号：CN105921453A
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：CN201610306605.2
申请日：2016-05-11
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供了一种高功率激光装置的大型箱体表面的洁净处理方法。所述的方法首先采用普通清洗方法以去除箱体表面的大粒径和大面积污染物，其后经脱水处理，再将元件浸泡于清水中浸润，浸润后的箱体经过两次清洗剂溶液高压喷淋清洗、清水高压喷淋漂洗和脱水处理过程。本发明的高功率激光装置的大型箱体表面的洁净处理方法，适用于高功率激光装置的大型箱体表面的清洁，污染物去除效果好，处理后的箱体表面洁净度等级高，具有可靠、经济、高效的特点。清洗后的大型箱体表面洁净度等级优于BJD 100级‑A/10A。
-
公开(公告)号：CN119394840A
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN202411550908.X
申请日：2024-11-01
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N5/00
Abstract: 本发明公开了一种检测光学环境污染沉积的传感器探头的制备方法，属于污染检测技术领域，包括：将二氧化硅胶体以提拉镀膜的方式涂覆在QCM芯片表面，得到表面带二氧化硅膜的传感器探头，通过传感器探头检测沉积在二氧化硅膜表面的环境污染物面质量密度，实现光学环境有机污染物沉积的检测。本发明制备的传感器探头对分子污染灵敏度高、稳定性好，可以为光学系统内的光学元件损伤进行预警。
-
公开(公告)号：CN119354829A
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202411281214.0
申请日：2024-09-13
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N15/0227 , G01N15/04 , G01N15/1433
Abstract: 本发明公开了一种用于光机系统使役过程产生粒子检测装置及方法。涉及光机系统洁净性能检测技术领域，该装置包括采样承载部，其设置于光机系统正下方，用于承载光机系统使役过程沉降的粒子；检测部用于对所述采样承载部上的粒子数量和尺寸进行检测。本发明用于光机系统使役过程产生粒子在线检测的装置的检测方法，能够检测光机系统使役过程中产生的沉降粒子，便于评估光机系统洁净性能。
-
公开(公告)号：CN110849897B
公开(公告)日：2024-11-29
申请号：CN201911291679.3
申请日：2019-12-16
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种光学元件表面非接触式洁净监测及处理系统，包括：光传输管道或箱体；光学元件支撑单元，其设置在光传输管道或箱体的底部；光学元件倾斜设置在光学元件支撑单元上；照明单元，其设置在光学元件支撑单元上；风刀单元，其设置在光学元件支撑单元上，其风刀单元位于光学元件的上边缘；相机监测单元，其设置在光传输管道或箱体的上方，且相机监测单元的照射镜头与光学元件的表面垂直。本发明的光学元件表面非接触式洁净监测及处理系统，可以实现对光学元件表面颗粒污染物的实时拍照采样，通过对污染物的粒径及分布信息进行统计，记录表面颗粒污染物的变化情况；该系统采用风刀单元可以实现对光学元件表面颗粒污染物的有效去除。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
105
records
(took 0.042 seconds)
