公开(公告)号：CN106248350A

公开(公告)日：2016-12-21

申请号：CN201510962393.9

申请日：2015-12-21

申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

发明人： 苗亮 ,  张文龙 ,  刘钰 ,  马冬梅 ,  金春水

IPC分类号： G01M11/02

CPC分类号： G01M11/0271

摘要： 本发明提出一种光学玻璃的材料均匀性检测方法，将被检镜划分为至少三个子孔径区域，分别对每个子孔径区域计算材料均匀性，再利用子孔径拼接算法计算得到被检镜的材料均匀性，另外，被检镜的倾斜姿态由监视干涉仪和侧面的平面反射镜监视和校正，因此不同子孔径的均匀性测试结果的倾斜状态完全一致，而由均匀性中的离焦和像散在子孔径干涉检测结果中引入的“倾斜”量可以被真实地保留，从而避免了被检镜全口径均匀性中出现不连续的拼接痕迹。本发明提出的方法在利用小口径移相干涉仪实现大口径光学玻璃材料均匀性的检测过程中，不仅可以实现材料均匀性的全部波像差绝对检测，而且可以消除不连续的拼接痕迹造成的检测误差。

公开(公告)号：CN101833247B

公开(公告)日：2013-11-06

申请号：CN201010004587.5

申请日：2005-06-02

申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

发明人： M·门格尔 ,  U·维格曼 ,  A·厄尔曼 ,  W·埃默 ,  R·克莱门特 ,  L·马蒂杰森

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G01M11/0257 ,  G01M11/0214 ,  G01M11/0271 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70958 ,  Y10T428/31

摘要： 一种用于微光刻投影曝光系统的投影物镜的光学测量的测量系统，所述投影物镜被配置为将设置于所述投影物镜的物面中的图案成像到所述投影物镜的像面上，所述投影物镜被设计为浸没物镜，用于借助设置在所述投影物镜的物侧和像侧的至少一个上的浸液进行成像；其特征在于所述测量系统包括：至少一个具有测量结构的结构载体，该结构载体被设置在浸液区域中，给该结构载体分配一个保护系统，以提高测量结构对由浸液导致的降解的抵抗力。因此，在浸液条件下的浸液系统的测量在测量精确度方面，可能不受浸液的有害影响。

公开(公告)号：CN102954768A

公开(公告)日：2013-03-06

申请号：CN201210297463.X

申请日：2012-08-20

申请人： 东大光电股份有限公司

发明人： 梁肇文

IPC分类号： G01B11/24

CPC分类号： G01M11/025 ,  G01M11/0207 ,  G01M11/0271

摘要： 一种表面轮廓侦测装置，侦测一目标物的表面轮廓，目标物具有一目标物对称轴，表面轮廓侦测装置包括波前侦测单元、驱动单元以及旋转单元。波前侦测单元具有影像传感器且发射侦测光束。驱动单元具有多个平台移动目标物或波前侦测单元。旋转单元具有旋转轴，且设置于驱动单元的其中一个平台上，目标物固持于旋转单元。在量测目标物时，旋转单元旋转目标物且影像传感器同时曝光并撷取从目标物反射的侦测光束所形成的量测数据。本发明还揭露一种表面轮廓侦测装置的对位方法以及全口径量测数据的撷取方法。本发明可以连续性的侦测目标物并曝光同时撷取多个干涉图案，在短时间内撷取目标物完整的表面轮廓，大幅缩短侦测所需的时间。

公开(公告)号：CN101268331B

公开(公告)日：2012-02-22

申请号：CN200680009907.8

申请日：2006-04-05

申请人： QED技术国际股份有限公司

发明人： 保罗·E·墨菲 ,  德拉吉沙·米拉迪诺维克 ,  格雷格·W·福布斯 ,  加里·M·德弗里斯 ,  乔恩·F·弗莱格

IPC分类号： G01B11/24

CPC分类号： G01J9/02 ,  G01B9/02039 ,  G01B9/02057 ,  G01B9/02063 ,  G01B9/02072 ,  G01B9/02085 ,  G01M11/025 ,  G01M11/0257 ,  G01M11/0271 ,  G01M11/0278

摘要： 本发明提供一种系统，其包括在大大地提高精度的情况下从测试件测量表面或波前的多种方法，特别是非球面的较高空间频率。这些方法包括测试件的多个测量结果。这些方法之一包括校准和控制计量仪表的聚焦补偿，以避免在测试件相对仪表重新定位时的分辨率和精度的损失。其它方法补充常规平均法，用于抑制仪表固有斜率依赖不均匀偏差的较高空间频率结构。这些方法之一包括抑制零件较高空间频率结构，使得仪表偏差能够消除；另一种方法直接在测量结果内抑制仪表偏差。在适于特定几何图形和目标的各种结构组合中可以使用所有的方法。

公开(公告)号：CN102288390A

公开(公告)日：2011-12-21

申请号：CN201110170466.2

申请日：2006-04-05

申请人： QED技术国际股份有限公司

发明人： 保罗·E·墨菲 ,  德拉吉沙·米拉迪诺维克 ,  格雷格·W·福布斯 ,  加里·M·德弗里斯 ,  乔恩·F·弗莱格

IPC分类号： G01M11/02

CPC分类号： G01J9/02 ,  G01B9/02039 ,  G01B9/02057 ,  G01B9/02063 ,  G01B9/02072 ,  G01B9/02085 ,  G01M11/025 ,  G01M11/0257 ,  G01M11/0271 ,  G01M11/0278

摘要： 在包括零件定位装置和具有聚焦台和多个不变的第一级特性参数的波前测量仪表的计量系统中，一种用于确定波前测量仪表的第一级光学参数和用等式描述的图像共轭的方法，该方法包括以下步骤：a)确定“ob_ref”，其是在所述仪表内从物方参考点到第一主面的偏移量；b)确定“ob”，其是从测试表面到所述物方参考点的位移量；c)确定“im_ref”，其是在所述仪表内从聚焦台机械原点Fo到第二主面的位移量；d)确定“im”，其是在所述仪表内聚焦台相对于聚焦台机械原点的位置；e)确定“f”，其是仪表光学系统的焦距。

公开(公告)号：CN101275826B

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：CN200810086521.8

申请日：2008-03-14

申请人： 富士能株式会社

发明人： 植木伸明

IPC分类号： G01B11/24 ,  G01M11/00

CPC分类号： G01M11/0271 ,  G01M11/0221

摘要： 本发明提供一种将所制造的非球面透镜上产生的面偏移在与面斜倾分离下可高精度地测量的非球面透镜的面偏移测量方法及装置。通过计算机仿真求出被检测透镜(1)的面斜倾和面斜倾分彗差之间的关系、及被检测透镜(1)的面偏移和面偏移分彗差之间的关系。而且，通过突出部(3)的透过波前测量而求出被检测透镜(1)的面斜倾，且通过透镜部(2)的透过波前测量而求出被检测透镜(1)的彗差。通过从该彗差减去面斜倾分彗差，算出起因于面偏移的面偏移分彗差，根据该面偏移分彗差，算出被检测透镜(1)的面偏移。

公开(公告)号：CN1800803B

公开(公告)日：2010-05-12

申请号：CN200610005790.8

申请日：2006-01-06

申请人： 松下电器产业株式会社

发明人： 高田和政 ,  宇津吕英俊 ,  古田宽和 ,  浦岛毅吏

IPC分类号： G01M11/02

CPC分类号： G01M11/0271

摘要： 提供一种能够高精度地评价光学部件的性能的检查方法。检查方法中，根据透射光学部件(18)的光(16)，形成具有不同相位的第1和第2光(24)、(26)，使第1和第2光产生干涉形成干涉区域(30)。在干涉区域(30)，设定直线(66)、直线(70)、直线(72)，求出各直线(72)上的光强度的分布。而且，求出与最大的光强度对应的频率。进而，根据针对直线(72)各自所求出的多个频率，求出近似直线或者近似曲线。并且，基于近似的直线或者曲线的系数评价光学部件的像差。

公开(公告)号：CN101268331A

公开(公告)日：2008-09-17

申请号：CN200680009907.8

申请日：2006-04-05

申请人： QED技术国际股份有限公司

发明人： 保罗·E·墨菲 ,  德拉吉沙·米拉迪诺维克 ,  格雷格·W·福布斯 ,  加里·M·德弗里斯 ,  乔恩·F·弗莱格

IPC分类号： G01B11/24

CPC分类号： G01J9/02 ,  G01B9/02039 ,  G01B9/02057 ,  G01B9/02063 ,  G01B9/02072 ,  G01B9/02085 ,  G01M11/025 ,  G01M11/0257 ,  G01M11/0271 ,  G01M11/0278

摘要： 本发明提供一种系统，其包括在大大地提高精度的情况下从测试件测量表面或波前的多种方法，特别是非球面的较高空间频率。这些方法包括测试件的多个测量结果。这些方法之一包括校准和控制计量仪表的聚焦补偿，以避免在测试件相对仪表重新定位时的分辨率和精度的损失。其它方法补充常规平均法，用于抑制仪表固有斜率依赖不均匀偏差的较高空间频率结构。这些方法之一包括抑制零件较高空间频率结构，使得仪表偏差能够消除；另一种方法直接在测量结果内抑制仪表偏差。在适于特定几何图形和目标的各种结构组合中可以使用所有的方法。

公开(公告)号：CN1272622C

公开(公告)日：2006-08-30

申请号：CN200410002966.5

申请日：1999-04-21

申请人： 株式会社理光

发明人： 森田展弘

IPC分类号： G01N21/43 ,  G01M11/02

CPC分类号： G01N21/23 ,  G01J4/04 ,  G01M11/025 ,  G01M11/0271 ,  G01M11/0285

摘要： 本发明涉及双折射测定方法及其装置，该装置包括照射光学系统、照射侧移位机构、偏振光元件、回转装置、回转角检测装置、受光元件、成像光学系统及运算装置。照射光学系统位置，以发散光照射被检透镜，使偏振光元件回转，透过偏振光元件的光成像在受光元件上，根据偏振光元件回转角度及受光元件的受光输出，计算被检透镜的双折射。能得到光学畸变影响小的光弹性干涉条纹像，也能很容易地对应被检透镜种类的变更。

公开(公告)号：CN1705867A

公开(公告)日：2005-12-07

申请号：CN200480001443.7

申请日：2004-09-01

申请人： 奥林巴斯株式会社

发明人： 江田幸夫

IPC分类号： G01M11/02 ,  G01B9/02

CPC分类号： G01M11/0271 ,  G01B11/2441

摘要： 一种测定被检光学系统的波像差的波像差测定装置。照明系统(1)具有输出各波长(λ1、λi)的激光束的激光光源(1－1、1－2)，对应被作为进行波像差分析的对象的被检光学系统(8)的波长(λ1、 λi)选择任意一个激光光源(1－1、1－2)，波像差分析装置(2)根据在照明系统(1)所选择的激光束的波长(λ1、λi)和干涉条纹图像数据，分析被检光学系统(8)的波像差。