光纤母材及光纤母材的制造方法
    61.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119032067A

    公开(公告)日:2024-11-26

    申请号:CN202380034314.0

    申请日:2023-05-10

    Inventor: 浦田佑平

    Abstract: 本发明的光纤母材的特征在于:当制造由纤芯部与一部分包层部所构成的纤芯玻璃母材,然后将剩余的包层部给到该纤芯玻璃母材的外侧时,所述纤芯玻璃母材中,将相对折射率差为纤芯中心的相对折射率差的0.45倍值的半径位置设为纤芯半径位置,在该纤芯半径位置的内侧5%范围内存在表示相对折射率差局部较高的极大值ΔM的点、与表示相对折射率差局部较低的极小值Δm的点,且ΔM-Δm的值不超过0.04%。

    含硅的抗蚀剂下层膜形成用组成物以及图案形成方法

    公开(公告)号:CN114594657B

    公开(公告)日:2024-11-22

    申请号:CN202111466982.X

    申请日:2021-12-03

    Abstract: 本发明涉及含硅的抗蚀剂下层膜形成用组成物以及图案形成方法。本发明的目的是提供于多层抗蚀剂法中,抑制超微细图案崩塌的效果高,可形成图案形状良好的抗蚀剂图案的含硅的抗蚀剂下层膜。一种含硅的抗蚀剂下层膜形成用组成物,其特征为含有:下列通式(A‑1)表示的化合物及热交联性聚硅氧烷。[化1]#imgabs0#R1表示甲基、乙基、丙基、烯丙基、炔丙基,R2表示氢原子、乙酰基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、苯甲酰基、萘甲酰基、蒽甲酰基,R3表示甲基、乙基、丙基、烯丙基、炔丙基、或下列通式(A‑2)表示的基团。[化2]#imgabs1#虚线表示原子键,R1、R2与前述相同。

    有机膜形成用材料、图案形成方法、以及聚合物

    公开(公告)号:CN113281964B

    公开(公告)日:2024-11-22

    申请号:CN202110190159.4

    申请日:2021-02-18

    Abstract: 本发明涉及有机膜形成用材料、图案形成方法、以及聚合物。本发明的课题是提供可形成溶剂耐性、耐热性、填埋特性、平坦化特性及图案形成能力优异的有机膜的有机膜形成用材料。一种有机膜形成用材料,含有以下列通式(1A)表示的结构作为部分结构的聚合物及有机溶剂。#imgabs0#上述通式(1A)中,W1表示4价有机基团,W2表示单键或下式(1B)表示的连接基团,R1表示氢原子或碳数1~10的1价有机基团,n1表示0或1的整数,n2及n3满足0≤n2≤6及0≤n3≤6且1≤n2+n3≤6的关系。#imgabs1#R2及R3各自独立地为氢、碳数为1~30个的有机基团,有机基团R2与有机基团R3亦可通过在分子内键结而形成环状有机基团。

    化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法

    公开(公告)号:CN118938600A

    公开(公告)日:2024-11-12

    申请号:CN202410567911.6

    申请日:2024-05-09

    Abstract: 本发明涉及化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供一种可改善图案形成时的矩形性,且可获得LER、分辨度、图案忠实性及剂量宽容度经改善的抗蚀剂图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物,以及提供一种抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种化学增幅负型抗蚀剂组成物,含有:(A)包含下式(A)表示的鎓盐的淬灭剂,及(B)包含含有下式(B1)表示的重复单元的聚合物的基础聚合物。#imgabs0#

    固化性氟聚醚系粘接剂组合物及光学部件

    公开(公告)号:CN115151621B

    公开(公告)日:2024-11-08

    申请号:CN202180016872.5

    申请日:2021-02-15

    Inventor: 越川英纪

    Abstract: 固化性氟聚醚系粘接剂组合物,其包含:(A)在1分子中具有2个以上的烯基、在主链中具有全氟聚醚结构的直链状多氟化合物、(B)在1分子中具有全氟烷基、全氟氧烷基、全氟亚烷基或全氟氧亚烷基、具有2个以上SiH基、不具有环氧基及与硅原子直接键合的烷氧基的含氟有机氢硅氧烷、(C)铂族金属系催化剂、及(D)在1分子中具有SiH基、和经由可含有氧原子的2价烃基而键合于硅原子的环氧基或三烷氧基甲硅烷基或这两者、并且在分子中不含氟的环状有机聚硅氧烷的特定量,其2mm厚的固化物对于500nm的波长的光的透射率为80%以上,该固化性氟聚醚系粘接剂组合物可形成具有良好的透光性和对于玻璃的粘接性的固化物。

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