有源矩阵基板及其制造方法
    62.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114678378A

    公开(公告)日:2022-06-28

    申请号:CN202111578917.6

    申请日:2021-12-22

    Abstract: 提供一种有源矩阵基板,具备具有顶栅结构并且特性相互不同的多个氧化物半导体TFT。有源矩阵基板具备第1TFT和第2TFT,各TFT的氧化物半导体层包含高电阻区域和低电阻区域,高电阻区域包含在从基板的法线方向观看时与栅极电极重叠的沟道区域以及与栅极绝缘层重叠而与栅极电极不重叠的偏移区域,低电阻区域包含源极接触区域、漏极接触区域以及介于这些接触区域与高电阻区域之间的介设区域,第1TFT的栅极绝缘层包含第1绝缘膜和配置在第1绝缘膜上的第2绝缘膜,第2TFT的栅极绝缘层包含第2绝缘膜而不包含第1绝缘膜,第1TFT的偏移区域的沟道长度方向的合计长度L1大于第2TFT的偏移区域的沟道长度方向的合计长度L2。

    有源矩阵基板、液晶显示装置

    公开(公告)号:CN110494798B

    公开(公告)日:2022-03-08

    申请号:CN201880022067.1

    申请日:2018-03-26

    Abstract: 提供一种既抑制像素缺陷的产生又高清晰的有源矩阵基板。其具备:第1半导体膜,其与在行方向上相邻的2个子像素中的一个子像素对应;第2半导体膜,其与在行方向上相邻的2个子像素中的另一个子像素对应;晶体管,其将上述第1半导体膜的一部分作为行方向上的沟道;以及像素电极,其经由接触孔连接到上述晶体管的漏极电极,在俯视时,从上述沟道的漏极电极侧边缘到上述接触孔的底面为止的行方向上的距离(dc)为行方向上的子像素间距(dp)的0.15倍以上。

    半导体装置
    64.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109786468A

    公开(公告)日:2019-05-21

    申请号:CN201811344315.2

    申请日:2018-11-13

    CPC classification number: H01L29/7869 H01L29/1054 H01L29/78648

    Abstract: 提供具备具有稳定的特性的可靠性高的氧化物半导体TFT的半导体装置。半导体装置具备氧化物半导体TFT,氧化物半导体TFT具有:氧化物半导体层,其具有包含沟道氧化物半导体层和保护氧化物半导体层的层叠结构,沟道氧化物半导体层配置在比保护氧化物半导体层靠基板侧;上部栅极电极,其隔着上部绝缘层配置在氧化物半导体层的一部分上;层间绝缘层,其覆盖氧化物半导体层和上部栅极电极;以及第1和第2电极,其电连接到氧化物半导体层,还具有至少贯通层间绝缘层和保护氧化物半导体层并且使沟道氧化物半导体层的一部分露出的第1开口部,第1电极配置在层间绝缘层上和第1开口部内,在第1开口部内与沟道氧化物半导体层的一部分直接接触。

    薄膜晶体管
    65.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109599435A

    公开(公告)日:2019-04-09

    申请号:CN201811148550.2

    申请日:2018-09-29

    Abstract: 提供一种薄膜晶体管,进一步增大漏极电流。TFT(10)具备:沟道部(15),其包括半导体材料;源极电极(13),其连接到沟道部(15)的一端侧;漏极电极(14),其连接到沟道部(15)的另一端侧;上层侧栅极电极(11),其在沟道部(15)的上层侧以与沟道部(15)重叠的方式配置;下层侧栅极电极(12),其在沟道部(15)的下层侧以与沟道部(15)重叠的方式配置;上层侧栅极绝缘膜(16),其配置为介于上层侧栅极电极(11)与沟道部(15)之间;以及下层侧栅极绝缘膜(17),其配置为介于下层侧栅极电极(12)与沟道部(15)之间,其膜厚(T1)与上层侧栅极绝缘膜(16)相比相对较大。

    液晶显示器
    66.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104662470A

    公开(公告)日:2015-05-27

    申请号:CN201380049023.5

    申请日:2013-09-13

    Abstract: 本发明的目的在于提供能够提高防湿性和抗蚀剂涂敷性并且能够抑制液晶分子的取向紊乱的产生的液晶显示器。本发明的液晶显示器包括有机绝缘膜(18)、上述有机绝缘膜(18)上的透明电极(19)和上述透明电极(19)上的层间绝缘膜(20),上述透明电极(19)具有被实施等离子体处理后的表面,上述有机绝缘膜(18)从上述透明电极(19)的端部(19a)在垂直方向上被削去,在上述端部(19a)下具有台阶部(18a),上述透明电极(19)不从上述台阶部(18a)向侧方突出,上述台阶部(18a)的高度(h)为20nm以下。

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