公开(公告)号：CN104080940B

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：CN201380007657.4

申请日：2013-01-16

Applicant: 东华隆株式会社

Inventor： 原田良夫 ,  寺谷武马 ,  三木真哉 ,  户越健一郎

IPC: C23C4/04 ,  C23C14/48 ,  C23C28/04

CPC classification number: C23C14/48 ,  C23C4/04 ,  C23C4/18 ,  Y10T428/24802

Abstract: 本发明的目的是得到一种氟化物喷涂覆膜覆盖部件，其耐卤素腐蚀性、耐等离子侵蚀性等优异，其上还显示有文字、数字、图形、图案、或是公司名称、制造编号等的识别记号等。在本发明中，通过向基材表面所形成的白色氟化物喷涂覆膜中注入从含F气体、氧气及不活泼气体中选出的任意一种以上注入气体的离子，从而使该白色氟化物喷涂覆膜表面的至少一部分变成黑色，形成黑色的离子注入层。

公开(公告)号：CN101074473A

公开(公告)日：2007-11-21

申请号：CN200710100607.7

申请日：2007-03-19

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  东华隆株式会社

Inventor： 小林义之 ,  村上贵宏 ,  原田良夫 ,  竹内纯一 ,  山崎良 ,  小林启悟

IPC: C23C4/10 ,  C23F4/00 ,  H01L21/02 ,  B32B5/00

CPC classification number: C23C28/042 ,  C23C4/02 ,  C23C4/11 ,  C23C4/18 ,  C23C26/00

Abstract: 本发明谋求在强腐蚀性环境下，提高进行等离子体蚀刻加工的半导体加工用装置等的容器内配设的部件的耐久性。提供一种陶瓷覆盖部件，在金属制或非金属制基材表面，直接具有或隔着底涂层具有由周期表IIIB族氧化物的喷镀膜构成的多孔质层，在该层上，形成有通过照射处理电子束或激光束等高能量形成的二次再结晶层。

公开(公告)号：CN1772946A

公开(公告)日：2006-05-17

申请号：CN200510117628.0

申请日：2005-11-07

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  东华隆株式会社

Inventor： 守屋刚 ,  中山博之 ,  长池宏史 ,  小林启悟 ,  安田要

IPC: C23C14/02 ,  C23C14/08 ,  G06F19/00

CPC classification number: C23C16/4404

Abstract: 本发明提供能够确实地抑制水分的附着和脱离的陶瓷喷镀部件的制造方法、用于执行该方法的程序、存储介质以及陶瓷喷镀部件。将具有基质材料(210)和由喷镀形成在基质材料(210)表面的喷镀膜(220)的陶瓷喷镀部件(200)，在含有丙酮、乙醇、以及异丙醇中的至少1种的有机溶剂中浸渍规定时间，去除吸附在喷镀膜(220)上的有机物，并在压力为202.65kPa以上、相对湿度为90％以上的环境下，通过在温度为100～300℃左右的炉中加热1～24小时，对喷镀膜(220)的外表面进行水合处理。