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公开(公告)号：CN107110477B
公开(公告)日：2019-09-24
申请号：CN201680006084.7
申请日：2016-01-12
Applicant: 浜松光子学株式会社
Abstract: 本发明的目的在于，提供即使在光的强度分布从高斯分布不连续地进行变形的情况下也能够使输出光的强度分布接近所希望的分布的光照射装置。本发明的光照射装置具备：高斯光束输出部(10)，输出具有服从高斯分布的光强度分布的光；空间光调制器(20)，接收所述光并呈现计算机全息图而调制所述光；光学系统(40)，对被调制的所述光进行聚光；振幅掩模(30)，被配置于所述高斯光束输出部与所述空间光调制器之间的光轴以及所述空间光调制器与所述光学系统之间的光轴中至少一方的光轴上；所述振幅掩模具有将所述光轴作为中心的圆形状的第1区域、包围所述第1区域的圆环状的第2区域，所述第2区域中的透过率随着从光轴离开而连续地降低。
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公开(公告)号：CN104620163B
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201280075814.0
申请日：2012-09-13
Applicant: 浜松光子学株式会社
IPC: G02F1/01 , B23K26/03 , B23K26/035 , B23K26/064 , B23K26/08 , B23K26/0622
CPC classification number: G02F1/292 , B23K26/032 , B23K26/035 , B23K26/0622 , B23K26/0643 , B23K26/0648 , B23K26/0853 , G02B21/0024 , G02F1/136277
Abstract: 在使用了空间光调制器的激光的聚光照射的控制中，取得激光的入射图案、以及传播路径上的第1、第2传播介质各个的折射率(步骤S101)，设定聚光点的个数以及各聚光点的聚光位置、聚光强度(S104)，导出由第1、第2传播介质所得到的像差条件(S107)，并考虑像差条件来设计空间光调制器中所呈现的调制图案(S108)。另外，在调制图案的设计中，使用着眼于1个像素的相位值的影响的设计法，并且在评价聚光点的聚光状态时，使用考虑了像差条件的传播函数。由此，可以实现能够适当控制激光的聚光状态的光调制控制方法、程序、装置、以及激光照射装置。
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公开(公告)号：CN107110477A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201680006084.7
申请日：2016-01-12
Applicant: 浜松光子学株式会社
IPC: F21V9/00 , F21S2/00 , F21V9/08 , F21Y115/10
Abstract: 本发明的目的在于，提供即使在光的强度分布从高斯分布不连续地进行变形的情况下也能够使输出光的强度分布接近所希望的分布的光照射装置。本发明的光照射装置具备：高斯光束输出部(10)，输出具有服从高斯分布的光强度分布的光；空间光调制器(20)，接收所述光并呈现计算机全息图而调制所述光；光学系统(40)，对被调制的所述光进行聚光；振幅掩模(30)，被配置于所述高斯光束输出部与所述空间光调制器之间的光轴以及所述空间光调制器与所述光学系统之间的光轴中至少一方的光轴上；所述振幅掩模具有将所述光轴作为中心的圆形状的第1区域、包围所述第1区域的圆环状的第2区域，所述第2区域中的透过率随着从光轴离开而连续地降低。
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公开(公告)号：CN103370648B
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201280009031.2
申请日：2012-02-10
Applicant: 浜松光子学株式会社
CPC classification number: G02F1/13306 , G02F2203/12 , G02F2203/50 , G09G3/3611 , G09G2320/0285 , G09G2320/041 , G09G2360/145
Abstract: 空间光调制装置（1A）具备：液晶层（12），对应于施加电场的大小而调制入射光的相位；温度传感器（17），生成作为对应于液晶层（12）的温度的信号的温度信号（Stemp）；多个像素电极（13a），设置于多个像素的每个并将产生施加电场的电压施加于液晶层（12）；驱动装置（20A），将电压提供给多个像素电极（13a）。驱动装置（20A）具有预先存储包含于表示相对于液晶层（12）的基准温度（T0）的温度变化量与液晶层（12）中的相位调制量的变动量的相关的函数中的系数（α）的非挥发性存储元件（23），使用温度信号（Stemp）所表示的温度和系数（α），进行用于修正电压的大小的运算。由此，实现了能够减小必要的存储容量、制作容易而且能够提高相对于所期望的相位调制量的施加电压值的精度的空间光调制装置以及空间光调制方法。
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公开(公告)号：CN103907048B
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201280053042.0
申请日：2012-10-23
Applicant: 浜松光子学株式会社
CPC classification number: B23K26/064 , B23K26/032 , B23K26/0608 , G02F2203/12 , G02F2203/18 , G02F2203/50
Abstract: 在使用了空间光调制器的激光的聚光照射的控制中，取得激光的波长数、各个波长的值以及激光的入射条件(步骤S101)，设定聚光点数、以及各个聚光点上的聚光位置、波长、聚光强度(步骤S104)，对于各个聚光点，设定赋予激光的聚光控制图案(步骤S107)。然后，考虑聚光控制图案来设计呈现于空间光调制器的调制图案(S108)。另外，在调制图案的设计中，使用着眼于一个像素中的相位值的影响的设计法并且在评价聚光点上的聚光状态的时候使用加上了聚光控制图案的相反的相位图案的传播函数。由此，实现了能够适当地实现激光的聚光控制的光调制控制方法、程序、装置以及激光照射装置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105683804A
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201480057919.2
申请日：2014-10-02
Applicant: 浜松光子学株式会社
CPC classification number: G06T7/248 , B01L3/502761 , B01L2300/0822 , B01L2400/0454 , G02B7/04 , G02B21/32 , G02B27/0927 , G02F1/1313 , G06T2207/10148 , G06T2207/10152 , G06T2207/30241 , G21K1/006 , H04N5/23212
Abstract: 微小体控制装置(1)是控制样本(90)中的介质中的微小体的动作的装置，包括光源(10)、光学旋涡生成部(20)、物镜(30)、摄像部(60)、解析部(70)和移动部(80)。解析部(70)在由物镜(30)形成的光学旋涡的聚光位置被设定在第1位置时，基于来自对由光学旋涡光捕集的微小体进行了摄像的摄像部(60)的图像数据取得微小体的第1运动信息，在光学旋涡的聚光位置被设定在第2位置时，基于来自对由光学旋涡光捕集的微小体进行了摄像的摄像部(60)的图像数据取得微小体的第2运动信息，通过比较第1运动信息和第2运动信息，来评价由光学旋涡导致的微小体的光捕集的状态。
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公开(公告)号：CN105008085A
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201380062649.X
申请日：2013-11-29
Applicant: 浜松光子学株式会社
IPC: B23K26/06 , B23K26/00 , B23K26/064 , B23K26/38 , B23K26/40
CPC classification number: H01L21/268 , B23K26/0006 , B23K26/0643 , B23K26/0648 , B23K26/38 , B23K26/53 , B23K26/55 , B23K2103/50 , H01L21/67115
Abstract: 激光加工装置(1)是通过对加工对象物(S)照射激光(L)而在加工对象物(S)形成改质区域(R)的装置。激光加工装置(1)具备：激光光源(2)，其出射激光(L)；载置台(8)，其支撑加工对象物(S)；以及光学系统(11)，其使从激光光源(2)出射的激光(L)中包围包含该激光(L)的光轴的中央部的环状部，聚光于被载置台(8)支撑的加工对象物(S)的规定部。光学系统(11)根据加工对象物(S)中规定部的位置，调整激光(L)的环状部的内缘和外缘中的至少一者的形状。
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公开(公告)号：CN104781724A
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201380058975.3
申请日：2013-11-07
Applicant: 浜松光子学株式会社
CPC classification number: G03H1/0841 , G02B21/06 , G02B26/06 , G02B27/0927 , G02B27/0944 , G03H1/0005 , G03H1/0808 , G03H1/2294 , G03H2001/005 , G03H2001/0094 , G03H2001/085 , G03H2001/221 , G03H2210/20 , G03H2225/32 , G03H2225/52 , G02F1/01 , G02F1/0102 , G02F1/13 , G02F1/133553
Abstract: 提供能够简单地求得用于高精度地实现所希望的强度分布的相位调制方法。以在靶面(TA)上调制光(P2)具有规定的强度分布的方式计算出显示于相位调制面(20a)的相位分布并使该相位分布显示于相位调制面(20a)，使读出光(P1)入射到相位调制面(20a)而生成调制光(P2)。在计算相位分布的时候，以将相位调制面(20a)上的区域分割成N个区域(A1……AN)并且区域(A1……AN)上的强度分布的积分值互相相等的方式设定它们的大小。另外，以将靶面(TA)上的区域分割成N个区域(B1……BN)并且区域(B1……BN)上的强度分布的积分值互相相等的方式设定它们的大小。通过求得从区域(An)到区域(Bn)的光路长度(Ln)并根据光路长度(Ln)决定区域(An)的相位，从而计算出相位分布。
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公开(公告)号：CN104246582A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201380020916.7
申请日：2013-04-18
Applicant: 浜松光子学株式会社
CPC classification number: G02B27/0927 , G02B21/16 , G02B26/06 , G02B27/0938 , G02F1/19 , G02F2203/50
Abstract: 光束整形装置(10A)具有：第一相位调制部(12)，其由相位调制型的SLM构成，表示用于调制入射光(P1)的相位的第一相位图案；第二相位调制部(14)，其由相位调制型的SLM构成，与第一相位调制部(12)光学结合，用于进一步调制被第一相位调制部(12)相位调制后的光(P2)的相位的第二相位图案；控制部(16)，其将第一、第二相位图案各个赋给第一、第二相位调制部(12、14)各个。第一、第二相位图案是用于使从第二相位调制部(14)输出的光(P3)的强度分布和相位分布接近于规定分布的相位图案。
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公开(公告)号：CN104246572A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201380020843.1
申请日：2013-04-18
Applicant: 浜松光子学株式会社
IPC: G02B13/00
CPC classification number: G02F1/29 , G02B21/16 , G02B26/06 , G02B26/0825 , G02B26/0875 , G02B27/0927 , G02B27/0938 , G02B27/56 , G02F2001/294
Abstract: 本发明的光束扩展器(10A)具备：第一透镜部(12)，其由SLM或VFL中的任一者构成；第二透镜部(14)，其与第一透镜部(12)光学结合，由SLM或VFL中的任一者构成；控制部(16)，其控制第一、第二透镜部(12、14)的焦点距离。第一、第二透镜部(12、14)的距离不变。控制部(16)以输入到第一透镜部(12)的光的光径(D1)与从第二透镜部(14)输出的光的光径(D2)相互不同的方式控制第一、第二透镜部(12、14)的焦点距离。由此，实现可以简易构成且能够缩短变更光径时的所需时间的光束扩展器。
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