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公开(公告)号:CN101283313B
公开(公告)日:2011-03-16
申请号:CN200680037154.1
申请日:2006-09-28
Applicant: 木本股份有限公司
Inventor: 饵取英树
CPC classification number: G03F7/201 , B82Y10/00 , G02B3/0012 , G02B3/0031 , G02B5/02 , G03F1/50 , G03F7/0005 , G03F7/7035 , G03F7/70416
Abstract: 提供一种使用光掩模,能够容易且高精度地形成所需的凹凸形状的表面凹凸制作方法。在由感光性树脂组合物形成的感光膜的一侧,以相对感光膜保持间隔的方式配置具备光透过部与光不透过部的掩模部件,从配置在掩模部件侧的光源照射光,通过掩模部件的光透过部,曝光感光膜,再通过显影来除去感光膜的曝光部或未曝光部,在感光膜上制作由曝光部或未曝光部的形状决定的凹凸。并且在曝光之际,控制光源与掩模部件的遮光面间的距离L,光源的大小D,掩模部件与感光膜间的光学距离T等曝光条件,由此控制曝光部或未曝光部的形状。
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公开(公告)号:CN100530547C
公开(公告)日:2009-08-19
申请号:CN200510083724.8
申请日:2005-03-24
Applicant: 株式会社半导体能源研究所
Inventor: 藤井厳
IPC: H01L21/208 , H01L21/288 , H01L21/31 , H01L21/3205 , H01L21/336
CPC classification number: H01L29/4908 , G03F7/0043 , G03F7/201 , H01L21/28008 , H01L21/32051 , H01L27/1285 , H01L27/1292 , H01L29/66765
Abstract: 提供了一种显示器,其可以利用材料通过简化的制造工艺高效率地制造,还提供了制造该显示器的方法。另一个目的是提供一种技术,通过其可以良好受控地将组成显示器的布线图形等形成为预定的形状。在根据本发明形成图形的方法中,在透光衬底上形成掩膜;在衬底和掩膜之上形成包括光催化剂的第一区;用通过衬底的光照射光催化剂以改变第一区的一部分;形成第二区;以及将含有图形形成材料地组分喷射到第二区,这样,形成图形。掩膜不透光。
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公开(公告)号:CN101283313A
公开(公告)日:2008-10-08
申请号:CN200680037154.1
申请日:2006-09-28
Applicant: 木本股份有限公司
Inventor: 饵取英树
CPC classification number: G03F7/201 , B82Y10/00 , G02B3/0012 , G02B3/0031 , G02B5/02 , G03F1/50 , G03F7/0005 , G03F7/7035 , G03F7/70416
Abstract: 提供一种使用光掩模,能够容易且高精度地形成所需的凹凸形状的表面凹凸制作方法。在由感光性树脂组合物形成的感光膜的一侧,以相对感光膜保持间隔的方式配置具备光透过部与光不透过部的掩模部件,从配置在掩模部件侧的光源照射光,通过掩模部件的光透过部,曝光感光膜,再通过显影来除去感光膜的曝光部或未曝光部,在感光膜上制作由曝光部或未曝光部的形状决定的凹凸。并且在曝光之际,控制光源与掩模部件的遮光面间的距离L,光源的大小D,掩模部件与感光膜间的光学距离T等曝光条件,由此控制曝光部或未曝光部的形状。
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公开(公告)号:CN100396945C
公开(公告)日:2008-06-25
申请号:CN03804721.7
申请日:2003-02-27
Applicant: 富士通株式会社
CPC classification number: G03F7/201 , C23F1/02 , F16C17/026 , F16C17/102 , F16C17/107 , F16C33/107 , F16C33/14 , F16C2223/70 , G03F7/00 , G03F7/2032 , G03F7/24 , Y10T29/49639
Abstract: 本发明涉及一种在轴承的内面形成动压发生槽的动压轴承的制造方法、利用该制造方法制造的动压轴承及动压轴承制造装置。其中,掩模(1)是圆筒状形状且由透明材料形成,在外周面形成人字槽图形,在凸缘部下面形成螺旋槽图形。把掩模(1)插入动压轴承(2)中,并且在掩模(1)的内部插入光纤(4)。把外部光源的光通过光纤(4)照射在掩模(1)上,把人字槽图形转印在动压轴承(2)的内周面上。同时,从凸缘部上侧照射光,把螺旋槽图形转印在动压轴承(2)的上侧面上。在进行显影后,通过蚀刻在轴承(2)的内周面形成人字槽(21),在上侧面形成螺旋槽(22)。其中,通过向所述掩模的端部入射激励光并使所述掩模发光来进行所述曝光。
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公开(公告)号:CN101167161A
公开(公告)日:2008-04-23
申请号:CN200680012357.5
申请日:2006-11-06
Applicant: 韩国科学技术院
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/201 , G03F7/70291 , G03F7/70308 , G03F7/7035 , G03F7/70383 , Y10T428/24802
Abstract: 一种在基板上制造聚合物或抗蚀剂图案的方法,包括在基板上涂敷光敏聚合物或抗蚀剂以形成聚合物或抗蚀剂层,确定聚合物或抗蚀剂层需要曝光的部分,将光调节层放置在照射于聚合物或抗蚀剂层上的光的光路上,并调节光调节层以调节照射于聚合物或抗蚀剂层上的光的方向或强度。根据该方法,通过在实行光刻工艺时调节入射光的方向和强度,很容易制造分别具有三维结构的聚合物或抗蚀剂图案、金属膜图案、金属图案结构以及聚合物模具,所述结构具有多种斜度或形状。
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公开(公告)号:CN1637617A
公开(公告)日:2005-07-13
申请号:CN200410102292.6
申请日:2004-12-16
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F7/0005 , G03F7/201 , G03F7/2035 , G03F7/24
Abstract: 一种其上应用了感光剂的柔性基板连续地从供应单元提供给引导单元,从光源将光照射到基板的一部分上。掩模设置于基板和光源之间,从而来自光源的光选择性地使基板的一部分经受曝光。因此,可以形成用于大面积显示板的具有连续倾斜结构的图案。
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公开(公告)号:CN1523449A
公开(公告)日:2004-08-25
申请号:CN200410003604.8
申请日:2004-02-03
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: G03F7/201 , G03F7/0382 , G03F7/0392
Abstract: 一种图案形成方法,首先形成碱溶性聚合物中由保护基保护起来的聚合物比例在50%以上的化学增幅型抗蚀材料构成的抗蚀膜(11)。然后对抗蚀膜(11)照射NA为0.92的KrF准分子激光(12)(含有对于抗蚀膜(11)以布鲁斯特角入射的光成分的曝光光),进行图案曝光之后,利用碱性显影液显影,从而形成抗蚀图14。根据本发明,尽管使用含有对抗蚀膜以布鲁斯特角入射的光成分的曝光光形成图案,也可得到表面形状良好抗蚀图。
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