表面凹凸的制作方法
    71.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101283313B

    公开(公告)日:2011-03-16

    申请号:CN200680037154.1

    申请日:2006-09-28

    Inventor: 饵取英树

    Abstract: 提供一种使用光掩模,能够容易且高精度地形成所需的凹凸形状的表面凹凸制作方法。在由感光性树脂组合物形成的感光膜的一侧,以相对感光膜保持间隔的方式配置具备光透过部与光不透过部的掩模部件,从配置在掩模部件侧的光源照射光,通过掩模部件的光透过部,曝光感光膜,再通过显影来除去感光膜的曝光部或未曝光部,在感光膜上制作由曝光部或未曝光部的形状决定的凹凸。并且在曝光之际,控制光源与掩模部件的遮光面间的距离L,光源的大小D,掩模部件与感光膜间的光学距离T等曝光条件,由此控制曝光部或未曝光部的形状。

    表面凹凸的制作方法
    73.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101283313A

    公开(公告)日:2008-10-08

    申请号:CN200680037154.1

    申请日:2006-09-28

    Inventor: 饵取英树

    Abstract: 提供一种使用光掩模,能够容易且高精度地形成所需的凹凸形状的表面凹凸制作方法。在由感光性树脂组合物形成的感光膜的一侧,以相对感光膜保持间隔的方式配置具备光透过部与光不透过部的掩模部件,从配置在掩模部件侧的光源照射光,通过掩模部件的光透过部,曝光感光膜,再通过显影来除去感光膜的曝光部或未曝光部,在感光膜上制作由曝光部或未曝光部的形状决定的凹凸。并且在曝光之际,控制光源与掩模部件的遮光面间的距离L,光源的大小D,掩模部件与感光膜间的光学距离T等曝光条件,由此控制曝光部或未曝光部的形状。

    图案形成方法
    77.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1523449A

    公开(公告)日:2004-08-25

    申请号:CN200410003604.8

    申请日:2004-02-03

    CPC classification number: G03F7/201 G03F7/0382 G03F7/0392

    Abstract: 一种图案形成方法,首先形成碱溶性聚合物中由保护基保护起来的聚合物比例在50%以上的化学增幅型抗蚀材料构成的抗蚀膜(11)。然后对抗蚀膜(11)照射NA为0.92的KrF准分子激光(12)(含有对于抗蚀膜(11)以布鲁斯特角入射的光成分的曝光光),进行图案曝光之后,利用碱性显影液显影,从而形成抗蚀图14。根据本发明,尽管使用含有对抗蚀膜以布鲁斯特角入射的光成分的曝光光形成图案,也可得到表面形状良好抗蚀图。

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