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公开(公告)号:CN100536072C
公开(公告)日:2009-09-02
申请号:CN200680012357.5
申请日:2006-11-06
申请人: 韩国科学技术院
IPC分类号: H01L21/027
CPC分类号: G03F7/201 , G03F7/70291 , G03F7/70308 , G03F7/7035 , G03F7/70383 , Y10T428/24802
摘要: 一种在基板上制造聚合物或抗蚀剂图案的方法,包括在基板上涂敷光敏聚合物或抗蚀剂以形成聚合物或抗蚀剂层,确定聚合物或抗蚀剂层需要曝光的部分,将光调节层放置在照射于聚合物或抗蚀剂层上的光的光路上,并调节光调节层以调节照射于聚合物或抗蚀剂层上的光的方向或强度。根据该方法,通过在实行光刻工艺时调节入射光的方向和强度,很容易制造分别具有三维结构的聚合物或抗蚀剂图案、金属膜图案、金属图案结构以及聚合物模具,所述结构具有多种斜度或形状。
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公开(公告)号:CN106165121A
公开(公告)日:2016-11-23
申请号:CN201480076639.6
申请日:2014-12-31
申请人: 韩国科学技术院
IPC分类号: H01L31/18 , H01L31/0445
CPC分类号: H01L31/0463 , H01L31/046 , H01L31/0465 , H01L31/18 , Y02E10/50
摘要: 本发明提供一种用于制造集成薄膜太阳能电池的装置,其中多个单元电池在真空中彼此串联地电连接,所述装置包括:光电转换器成形处理室,其通过在衬底上发射光电转换材料而形成光电转换器,在衬底上,已经从在衬底中形成的多个沟槽中的每个内的一条基线到每个沟槽的底部,到与底部连续的一侧,并且到与一侧连续的衬底的突出表面形成第一导电层;以及第二导电层成形处理室,其从每个沟槽内的另一条基线到每个沟槽的底部,到与底部连续的另一侧,并且到与另一侧连续的衬底的突出表面形成第二导电层。光电转换器成形处理室和第二导电层成形处理室在真空中进行相应处理。
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公开(公告)号:CN101901853B
公开(公告)日:2012-07-25
申请号:CN201010183207.9
申请日:2010-05-26
IPC分类号: H01L31/18 , H01L31/05 , H01L31/0224
CPC分类号: H01L31/0392 , H01L31/022425 , H01L31/035281 , H01L31/046 , H01L31/0465 , Y02E10/50
摘要: 本发明提供集成薄膜太阳能电池及其制造方法,该方法包括以下步骤:准备沟槽按照间隔有一定距离的方式形成的基板;通过第一导电性物质在各个所述沟槽的部分底面和一个侧面上形成第一电极层;在没有形成所述第一电极层的沟槽的部分区域和所述第一电极层上形成太阳能电池层;倾斜释放出第二导电性物质并将其沉积在所述太阳能电池层上以形成第二电极层;对形成在所述沟槽上的太阳能电池层进行蚀刻,以使所述第一电极层暴露;通过倾斜释放出第三导电性物质并将其沉积在所述第二电极层上的方式形成导电层,以使所述暴露的第一电极层和所述第二电极层电连接。
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公开(公告)号:CN101281365B
公开(公告)日:2012-07-25
申请号:CN200810091611.6
申请日:2008-04-04
申请人: 韩国科学技术院
CPC分类号: C09K19/544 , Y10T428/24802
摘要: 本发明涉及一种物质图形、使用该物质图形的模具、金属薄膜图形、金属图形及其形成方法,本发明物质图形形成方法包括:步骤(a),在基板上涂布感光性物质并形成感光性物质薄膜;步骤(b),在所述感光性薄膜上确定曝光区域;步骤(c),在曝光到所述感光性物质薄膜的光的传输路径上,放置光折射膜和光扩散膜;步骤(d),将通过所述光折射膜和所述光扩散膜的光照射到所述感光性物质薄膜的所述曝光区域并形成物质图形。通过本发明的物质图形形成方法,可以更容易地形成具有各种倾斜度及形状的三维非对称结构的物质图形,并且进一步通过该物质图形形成模具、金属薄膜图形和金属图形。
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公开(公告)号:CN102386273A
公开(公告)日:2012-03-21
申请号:CN201110243852.X
申请日:2011-08-24
IPC分类号: H01L31/18 , H01L27/142 , H01L31/05
CPC分类号: H01L31/1872 , H01L31/046 , H01L31/0465 , H01L31/072 , Y02E10/50 , Y02P70/521
摘要: 本发明中提供一种集成薄膜光电元件及其制造方法,该集成薄膜光电元件包括:基板,形成有多个槽;第一半导体物质层,从所述各个槽内部的一基线在所述各个槽的一侧面和与所述一侧面连接的所述基板的突出面区域上形成;第二半导体物质层,从所述各个槽内部的所述第一半导体物质层上的一基线于所述各个槽的另一侧面和与所述另一侧面连接的所述基板的突出面区域上形成,且在所述各个槽内部中与所述第一半导体物质层部分重叠。
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公开(公告)号:CN102024871A
公开(公告)日:2011-04-20
申请号:CN201010247229.7
申请日:2010-08-06
IPC分类号: H01L31/18 , H01L31/042 , H01L31/0224
CPC分类号: H01L31/03923 , H01L31/022425 , H01L31/0392 , H01L31/03925 , H01L31/0463 , H01L31/0465 , H01L31/076 , Y02E10/541 , Y02E10/548 , Y02P70/521
摘要: 本发明提供光电装置的制造方法,包括以下步骤:准备形成有沟槽的基板;在沟槽之间区域形成第一电极层和辅助电极层,其中,辅助电极层与第一电极层的部分区域相接触并位于第一电极层的上或下部,且其电阻小于第一电极层电阻;在第一电极层或辅助电极层上形成光电转换层;将第二导电性物质倾斜沉积在光电转换层上以形成第二电极层;对形成于沟槽内部的光电转换层进行蚀刻以使第一电极层或辅助电极层暴露;将第三导电性物质倾斜沉积在第二电极层上以形成导电层,以使第一电极层或辅助电极层与第二电极层在沟槽内部相电连接,其中,第一电极层或辅助电极层形成于所述区域中通过光产生电的一个区域,而第二电极层形成于通过光产生电的另一个区域。
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公开(公告)号:CN101901853A
公开(公告)日:2010-12-01
申请号:CN201010183207.9
申请日:2010-05-26
IPC分类号: H01L31/18 , H01L31/05 , H01L31/0224
CPC分类号: H01L31/0392 , H01L31/022425 , H01L31/035281 , H01L31/046 , H01L31/0465 , Y02E10/50
摘要: 本发明提供集成薄膜太阳能电池及其制造方法,该方法包括以下步骤:准备沟槽按照间隔有一定距离的方式形成的基板;通过第一导电性物质在各个所述沟槽的部分底面和一个侧面上形成第一电极层;在没有形成所述第一电极层的沟槽的部分区域和所述第一电极层上形成太阳能电池层;倾斜释放出第二导电性物质并将其沉积在所述太阳能电池层上以形成第二电极层;对形成在所述沟槽上的太阳能电池层进行蚀刻,以使所述第一电极层暴露;通过倾斜释放出第三导电性物质并将其沉积在所述第二电极层上的方式形成导电层,以使所述暴露的第一电极层和所述第二电极层电连接。
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公开(公告)号:CN101281365A
公开(公告)日:2008-10-08
申请号:CN200810091611.6
申请日:2008-04-04
申请人: 韩国科学技术院
CPC分类号: C09K19/544 , Y10T428/24802
摘要: 本发明涉及一种物质图形、使用该物质图形的模具、金属薄膜图形、金属图形及其形成方法,本发明物质图形形成方法包括:步骤(a),在基板上涂布感光性物质并形成感光性物质薄膜;步骤(b),在所述感光性薄膜上确定曝光区域;步骤(c),在曝光到所述感光性物质薄膜的光的传输路径上,放置光折射膜和光扩散膜;步骤(d),将通过所述光折射膜和所述光扩散膜的光照射到所述感光性物质薄膜的所述曝光区域并形成物质图形。通过本发明的物质图形形成方法,可以更容易地形成具有各种倾斜度及形状的三维非对称结构的物质图形,并且进一步通过该物质图形形成模具、金属薄膜图形和金属图形。
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公开(公告)号:CN101371573A
公开(公告)日:2009-02-18
申请号:CN200780001139.6
申请日:2007-03-20
申请人: 韩国科学技术院
IPC分类号: H04N5/74
CPC分类号: H04N3/08 , H04N5/7458 , H04N9/3152
摘要: 本发明的目的在于,在利用微镜或图像显示部件的显示装置中消除因像素区分或者黑色矩阵等的使用而发生的阴影区,提高光利用率而显示高品质影像的同时,进一步改善功耗,其中一实施例提供一种利用微透镜阵列的显示装置,包括:光源;微镜阵列,排列设置有多个微镜,用于反射从光源入射的入射光;以及微透镜阵列,在光源和微镜阵列之间排列设置有多个微透镜,将入射光汇聚到一个微镜,补偿从微镜阵列反射的反射光的路径。
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公开(公告)号:CN101167161A
公开(公告)日:2008-04-23
申请号:CN200680012357.5
申请日:2006-11-06
申请人: 韩国科学技术院
IPC分类号: H01L21/027
CPC分类号: G03F7/201 , G03F7/70291 , G03F7/70308 , G03F7/7035 , G03F7/70383 , Y10T428/24802
摘要: 一种在基板上制造聚合物或抗蚀剂图案的方法,包括在基板上涂敷光敏聚合物或抗蚀剂以形成聚合物或抗蚀剂层,确定聚合物或抗蚀剂层需要曝光的部分,将光调节层放置在照射于聚合物或抗蚀剂层上的光的光路上,并调节光调节层以调节照射于聚合物或抗蚀剂层上的光的方向或强度。根据该方法,通过在实行光刻工艺时调节入射光的方向和强度,很容易制造分别具有三维结构的聚合物或抗蚀剂图案、金属膜图案、金属图案结构以及聚合物模具,所述结构具有多种斜度或形状。
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