光敏树脂组合物和用于生产印刷电路板的光刻胶油墨

    公开(公告)号:CN1230568A

    公开(公告)日:1999-10-06

    申请号:CN99102894.5

    申请日:1999-03-12

    Inventor: 森垣敏夫

    CPC classification number: G03F7/033

    Abstract: 能用水或稀碱液显影的光敏树脂,包含有如下(A)至(D)的成分。即成分(A)是水溶性光敏树脂选自向聚乙烯醇聚合物中引入苯乙烯吡啶鎓基团制得的第一种树脂,向聚乙烯醇聚合物中引入苯乙烯喹啉鎓基团制得的第二种树脂和向聚乙烯醇中加入N-烷醇(甲基)丙烯酰胺得到第三种树脂。成分(B)是分子上具一个羧基和至少两个烯类不饱和基团的光敏预聚物。成分(C)是光聚合引发剂。成分(D)是水。该光敏树脂组合物可优选用作生产印刷电路板的光刻胶油墨。

    感光性树脂组合物、干膜及印刷布线板

    公开(公告)号:CN110187604B

    公开(公告)日:2022-11-22

    申请号:CN201910129065.9

    申请日:2019-02-21

    Abstract: 本发明提供一种感光性树脂组合物,其通过固化而成为固化物,能够抑制用氧化剂对该固化物的表面进行处理而进行糙面化时的因氧化剂所致的固化物的厚度过度减少,且能够抑制处理后的表面变得不均匀。本发明的感光性树脂组合物含有:含羧基树脂(A),在一分子中具有至少一个烯键式不饱和键的不饱和化合物(B),光聚合引发剂(C),环氧化合物(D),有机填料(E),和三嗪树脂(F);所述有机填料(E)包含具有羧基的有机填料(E1)。三嗪树脂(F)满足下述条件中的至少一者:在25℃为液态状态,以及感光性树脂组合物含有溶剂(H)且在25℃溶解于溶剂(H)。

    用于制造半导体器件芯片的方法和保护性组合物

    公开(公告)号:CN113632204A

    公开(公告)日:2021-11-09

    申请号:CN202080005409.6

    申请日:2020-03-09

    Abstract: 通过本公开要克服的问题是当半导体器件芯片1通过包括用例如激光束对基底2上的保护性涂层3进行照射的方法来制造时,使保护性涂层3容易地形成,使保护性涂层3保护基底2和半导体器件芯片1,以及使保护性涂层3被容易地去除。根据本公开,保护性组合物包含含有多元羧酸残基(a)和多元醇残基(b)的水溶性聚酯树脂(A)。多元羧酸残基(a)包括:具有金属磺酸盐基团的多元羧酸残基(a1);和萘二羧酸残基(a2)。多元羧酸残基(a1)相对于多元羧酸残基(a)的比例落在25mol%至70mol%的范围内。萘二羧酸残基(a2)相对于多元羧酸残基(a)的比例落在30mol%至75mol%的范围内。

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