公开(公告)号：CN1290162C

公开(公告)日：2006-12-13

申请号：CN02800353.5

申请日：2002-02-20

申请人： 日立化成工业株式会社

发明人： 町井洋一 ,  小山直之 ,  西山雅也 ,  吉田诚人

IPC分类号： H01L21/304 ,  C09K3/14 ,  B24B37/00

CPC分类号： C09K3/1454 ,  C01F17/0043 ,  C01G25/00 ,  C01P2004/62 ,  C01P2004/64 ,  C01P2006/10 ,  C01P2006/12 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1436 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053

摘要： 本发明涉及半导体制造工序等中适于基片表面平坦化用CMP技术的抛光剂和抛光方法。抛光剂是含有粒子和将上述粒子至少部分分散的介质的抛光剂，上述粒子是下列之一：(1)从氧化铈、卤化铈和硫化铈中选择的，密度为3～6克/立方厘米而且次级粒子平均粒径为1～300纳米的铈化合物，(2)四价金属氧化物。使用这种抛光剂抛光的抛光方法，活用抛光剂中粒子的化学作用并且尽量减小机械作用，藉此能够兼容粒子引起的抛光损伤减少和抛光速度提高。

公开(公告)号：CN1282226C

公开(公告)日：2006-10-25

申请号：CN97199370.X

申请日：1997-09-30

申请人： 日立化成工业株式会社

发明人： 吉田诚人 ,  芦泽寅之助 ,  寺崎裕树 ,  仓田靖 ,  松泽纯 ,  丹野清仁 ,  大槻裕人

IPC分类号： H01L21/304 ,  C09K3/14

CPC分类号： C09K3/1463 ,  C01F17/0043 ,  C01P2004/61 ,  C01P2004/62 ,  C01P2006/12 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  H01L21/02024 ,  H01L21/02065 ,  H01L21/31053

摘要： 本发明提供了一种能够在不划伤SiO2绝缘膜等被研磨面的高研磨速度下进行研磨的氧化铈研磨剂。本发明的研磨剂含有把氧化铈颗粒分散于介质中的浆料，其中该氧化铈颗粒的初级颗粒粒径为50-500纳米，初级颗粒粒径中央值为50-190纳米，颗粒粒径中央值为200-510纳米，颗粒最大粒径在1430纳米以下。

公开(公告)号：CN1837054A

公开(公告)日：2006-09-27

申请号：CN200510097066.8

申请日：2005-12-31

申请人： 德古萨股份公司

发明人： 斯蒂潘·卡图希奇 ,  米夏尔多·克雷默 ,  米夏尔多·克勒尔 ,  彼得·克雷斯 ,  埃德温·施塔布

IPC分类号： C01G1/02 ,  C01F7/02 ,  C01F17/00 ,  C01G49/02 ,  C01G15/00 ,  C01G23/04 ,  C01B33/113 ,  C01G19/02 ,  C01G9/02 ,  C01G25/02 ,  B01J21/04 ,  B01J21/06 ,  B01J23/745 ,  B01J21/10 ,  B01J23/08 ,  B01J23/14 ,  B01J23/10 ,  B01J23/06

CPC分类号： B01J23/10 ,  B01J37/082 ,  B82Y30/00 ,  C01B13/20 ,  C01B13/34 ,  C01F17/0043 ,  C01G1/02 ,  C01G25/00 ,  C01G25/02 ,  C01P2004/50 ,  C01P2004/52 ,  C01P2004/64 ,  C01P2006/12 ,  C01P2006/80 ,  C01P2006/90 ,  C09G1/02 ,  Y10T428/2982

摘要： 本发明涉及制备BET比表面积至少为20m2/g的金属氧化物粉末的方法，在该方法中使气溶胶与氧在高于700℃的反应温度下于反应空间中进行反应，然后将所得的粉末与气态物质分离，其中利用多料喷嘴将至少一种液体形式或溶液中的起始材料和至少一种雾化气体加以雾化而得到气溶胶，该气溶胶的与体积相关的平均微滴尺寸D30为30至100μm，和基于微滴总数，大于100μm的气溶胶微滴的数目最高为10％。本发明还涉及利用该方法得到的金属氧化物粉末。

公开(公告)号：CN1791654A

公开(公告)日：2006-06-21

申请号：CN200480013761.5

申请日：2004-05-21

申请人： 韩华石油化学株式会社

发明人： 朴世雄 ,  明岏在 ,  白珍洙 ,  郑畅模 ,  宋圭镐

IPC分类号： C09K3/14

CPC分类号： C09K3/1463 ,  B82Y30/00 ,  C01F17/0043 ,  C01P2004/62 ,  C01P2004/64 ,  C01P2006/12 ,  C01P2006/80 ,  C01P2006/90 ,  C03C19/00 ,  C09K3/1409

摘要： 本发明公开了一种用于化学机械抛光的二氧化铈细颗粒浓缩物及其制备方法。该方法包括将含i)水、ii)水溶性铈盐化合物水溶液和iii)氨或铵盐的反应混合物在250－ 700℃的反应温度、180－550巴的反应压力下，在连续反应器中反应0.01秒到10分钟，得到含二氧化铈细颗粒的溶液，其中，铈盐化合物在反应混合物中的含量为0.01－20重量％；并且在装有孔径为0.01－10微米的过滤器的浓缩器中将所述含二氧化铈细颗粒的溶液浓缩。该浓缩物的优点在于，通过稀释和添加添加剂工艺，易于得到化学机械抛光浆料和分散液。

公开(公告)号：CN1766027A

公开(公告)日：2006-05-03

申请号：CN200510092009.0

申请日：2005-08-16

申请人： 三星电子株式会社

发明人： 苏在贤 ,  李东峻 ,  金男寿 ,  文成泽 ,  姜景汶 ,  安峰秀

IPC分类号： C09K3/14 ,  C09C1/00 ,  C01F17/00

CPC分类号： B82Y30/00 ,  C01F17/0043 ,  C01P2002/52 ,  C01P2002/72 ,  C01P2004/52 ,  C01P2004/64 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463

摘要： 提供用于制造改进的氧化铈研磨剂的方法，该氧化铈研磨剂适合于形成用于CMP工艺的浆料组合物。在更大的次级研磨颗粒中引入的主要氧化铈颗粒的条件下，通过铈前体化合物和杂质金属化合物的混合物的热处理制造氧化铈研磨剂。杂质金属和/或次级研磨颗粒内不完全氧化的铈的存在易于减小其机械强度，由此利用这种研磨剂减小CMP工艺过程中损坏衬底表面的可能性。

公开(公告)号：CN1230490C

公开(公告)日：2005-12-07

申请号：CN03150836.7

申请日：2003-09-05

申请人： 中国科学院上海硅酸盐研究所

发明人： 刘庆峰 ,  刘茜 ,  罗岚 ,  沈彩

IPC分类号： C09K11/78

CPC分类号： C01F17/0043 ,  C01B13/18 ,  C01B13/185 ,  C01B13/36 ,  C01B13/363

摘要： 本发明涉及一种用溶胶凝胶方法制备纳米稀土氧化物发光粉体的方法。采用本发明所选择的原料及提供的工艺条件，可以在较低的温度下获得纳米尺度的稀土氧化物发光粉体。稀土氧化物的化学通式为：Ln2O3:Re。其中Ln为Y、Gd、Lu中的一种或任意二种复合；Re为Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Tb、Dy、Yb中的一种或特定的几种(Eu/Pr，Pr/Ce，Eu/Tb，Eu/Pr/Ce，Ce/Tb)混合，摩尔比含量为0.1～10%。本发明以柠檬酸或EDTA作为络合剂，以乙二醇作为聚合助剂和分散剂，通过络合剂和聚合助剂的相互作用形成溶胶，经凝胶化前驱粉体。在500～850℃的范围内煅烧，得到20～80nm粒径的发光粉体。特点是粉体热处理温度低，合成粉体粒径小且均匀，发光激活离子(Re)分布均匀。

公开(公告)号：CN1701109A

公开(公告)日：2005-11-23

申请号：CN200480000866.7

申请日：2004-07-20

申请人： 昭和电工株式会社

发明人： 水上洋

IPC分类号： C09K3/14 ,  C01F17/00 ,  C09G1/00 ,  H01L21/304

CPC分类号： H01L21/31053 ,  C01F17/0043 ,  C01P2004/10 ,  C01P2006/12 ,  C01P2006/80 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463

摘要： 一种生产氧化铈磨料的方法，其特点是该方法包括焙烧氟含量F(质量ppm)在10到500质量ppm范围内的碳酸铈原料，焙烧温度T(℃)选自下式确定的温度区间之内的温度：730－14[log(F)]≤T≤790－10[log(F)]。

公开(公告)号：CN1625527A

公开(公告)日：2005-06-08

申请号：CN02828904.8

申请日：2002-06-27

申请人： 阿南化成株式会社

发明人： 须田荣作 ,  B·帕考德

IPC分类号： C01F17/00

CPC分类号： C01F17/0043 ,  C01P2002/50 ,  C01P2002/54 ,  C01P2004/10 ,  C01P2004/20 ,  C01P2004/52 ,  C01P2004/54 ,  C01P2004/61 ,  C01P2004/62 ,  C01P2006/12 ,  C04B35/50 ,  C04B2235/02 ,  C04B2235/3224 ,  C04B2235/3225 ,  C04B2235/3229 ,  C04B2235/5296 ,  C04B2235/5409 ,  C04B2235/5436 ,  C04B2235/5445 ,  C04B2235/5481 ,  C04B2235/604 ,  C04B2235/656 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/785 ,  C04B2235/786

摘要： 由特定针状颗粒构成、粒度分布不宽、颗粒凝集得到抑制的铈基复合氧化物及其制备方法，由该铈基复合氧化物可获得难以发生颗粒凝集、烧结性优良的陶瓷材料，所述复合氧化物由平均纵横比为1.05－10.0的针状初级颗粒或者作为该初级颗粒的凝集物的二级颗粒构成，含有换算成氧化物为0.1－50％摩尔的除Ce和Pm以外的稀土元素、Y、Sc等金属以及换算成氧化物为50－99.9％摩尔的Ce，这些由初级颗粒和二级颗粒构成的复合氧化物，其BET比表面积为5－40m2/g，平均粒径为0.1－0.5μm，且具有式(1)所示粒度分布指标为1.6以下的粒度分布。粒度分布指标＝(D84－D16)/(2×D50)……(1)

公开(公告)号：CN1185163C

公开(公告)日：2005-01-19

申请号：CN01805116.2

申请日：2001-01-25

申请人： 罗狄亚稀土公司

发明人： J-Y·钱钦

IPC分类号： C01B13/36 ,  C01F17/00 ,  C01G25/00

CPC分类号： A61K8/04 ,  A61K8/19 ,  A61K8/26 ,  A61K8/27 ,  A61K8/28 ,  A61K8/29 ,  A61K8/36 ,  A61K2800/413 ,  A61K2800/526 ,  A61Q17/04 ,  A61Q19/00 ,  B01J23/10 ,  B01J35/0013 ,  B82Y5/00 ,  B82Y30/00 ,  C01B13/363 ,  C01F17/0043 ,  C01G25/00 ,  C01P2004/64 ,  C01P2006/22 ,  C01P2006/60 ,  Y10S514/937

摘要： 本发明涉及铈和至少一种选自除了铈以外的稀土、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、铝、镓和锆的其它元素M的化合物的胶态水分散体。该分散体的特征在于其表现出至多5mS/cm的电导率。其制备方法为至少一种铈盐和至少一种上述元素M的盐的混合物与基料在酸中反应，其中酸的量使得原子比H+/(Ce+M)大于0.1，然后将上述反应的沉淀再分散于水中。该类型的分散体可用于催化、润滑、陶瓷领域、发光化合物的制备及化妆品中，并可用作防腐剂。

公开(公告)号：CN1545544A

公开(公告)日：2004-11-10

申请号：CN03800854.8

申请日：2003-05-12

申请人： 三井金属鉱业株式会社

发明人： 伊藤昭文 ,  内野义嗣 ,  牛山和哉 ,  中岛祐树

IPC分类号： C09K3/14

CPC分类号： C01F17/0043 ,  C04B35/50 ,  C04B35/6261 ,  C04B35/6262 ,  C04B35/62625 ,  C04B35/6263 ,  C04B35/6264 ,  C04B35/62655 ,  C04B35/62675 ,  C04B2235/3227 ,  C04B2235/3229 ,  C04B2235/5445 ,  C04B2235/5481 ,  C09K3/1409

摘要： 本发明为铈类研磨材料的制造方法，它包括粉碎铈类研磨材料的原料的工序、焙烧粉碎后的原料的工序和湿式处理焙烧后的原料的工序，它具有如下特征：在湿式处理后具有于200－700℃加热湿式处理后的原料的低温再焙烧工序；干燥工序中，对湿式处理后的原料充分干燥并对该干燥原料进行低温再焙烧工序后，可制得具有特好特性的研磨材料。