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公开(公告)号：CN205069579U
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201520762781.8
申请日：2015-09-29
申请人： 株式会社ORC制作所
IPC分类号： H01J61/30
摘要： 短弧型放电灯。本实用新型的课题在于提供短弧型放电灯，其是具有防止密封管破损的灯头的过渡玻璃密封结构。所述短弧型放电灯的特征在于包括：内部包括一对电极的发光管、连接设置在发光管的两端部的密封管、分别与电极连接的一对电极芯棒、供密封管的一部分插入的有底筒状的灯头、以及密封管支撑部件，密封管支撑部件被配设在径向上的灯头的管状部与密封管之间的至少一部分处，在径向上支撑密封管，借助过渡玻璃将密封管与电极芯棒封接，其中，在径向上的密封管支撑部件与密封管之间的至少一部分处具有以碳为主成分的管状部件，所述管状部件抑制沿灯轴方向的应力从密封管支撑部件施加到密封管。
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公开(公告)号：CN113448176B
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202011470253.7
申请日：2020-12-15
申请人： 株式会社ORC制作所
发明人： 奥山隆志
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供曝光装置和曝光方法。在曝光装置中，平滑地形成图案倾斜线。在曝光装置(10)中，矢量数据处理电路(40)将轮廓(BD0)的矢量数据变换为向±X方向(轮廓线外侧和/或在轮廓线内侧方向)移位后的轮廓线校正矢量数据(BD+)，并通过交替使用原始轮廓线矢量数据(BD0)和轮廓线校正矢量数据(BD+)来执行多重曝光动作。
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公开(公告)号：CN117806127A
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202310402789.2
申请日：2023-04-14
申请人： 株式会社ORC制作所
发明人： 长谷川祐哉
摘要： 本发明提供曝光装置和曝光装置的焦点检测方法。在曝光装置中，维持焦点检测精度并且迅速地进行焦点检测。曝光装置(10)在工作台(12)的端部附近具有测定部(40)，测定部(40)具有遮光部(41)和受光部(42)。遮光部(41)具有形成有多个透光部(50)的遮光面(41S)，遮光面(41S)相对于与投影光学系统(23)的光轴(C)垂直的方向倾斜了倾斜角度(θ)。在焦点检测时，一边使工作台(12)移动一边将图案光(FP)投影于测定部(40)的遮光面(41S)，根据从受光部(42)输出的光量信号而取得成像位置，以及进行焦点调整。
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公开(公告)号：CN116060797A
公开(公告)日：2023-05-05
申请号：CN202211082532.5
申请日：2022-09-06
申请人： 株式会社ORC制作所
摘要： 本发明提供照明光学系统和激光加工装置。能够防止光学元件成为高温，并且能够防止光路长度变长、装置大型化。一种照明光学系统，其将激光向照射面引导，其中，所述照明光学系统具有光量均匀化部，该光量均匀化部使激光均匀，光量均匀化部具有沿着光轴依次排列的第1透镜阵列、第2透镜阵列以及第3透镜阵列，在比第1透镜阵列的焦点靠后的位置设置有第2透镜阵列，使得在第2透镜阵列之后，在到照射面之间的光路上不存在会聚点，第1透镜阵列和第3透镜阵列具有正光焦度，第2透镜阵列具有负光焦度。
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公开(公告)号：CN115881509A
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202210945030.4
申请日：2022-08-08
申请人： 株式会社ORC制作所
IPC分类号： H01J61/073 , H01J61/52 , H01J9/04
摘要： 本发明提供放电灯和放电灯用电极的制造方法。在放电灯中，在提高散热性的同时，提高电极表面的耐热性、耐久性。在放电灯(10)的电极(30)中，针对由槽(42)构成的散热构造(40)形成涂层(44)，通过对涂层(44)进行激光照射来形成混合有电极原材料和涂料成分的混合层(43)。
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公开(公告)号：CN111686667B
公开(公告)日：2022-07-19
申请号：CN202010179086.4
申请日：2020-03-12
申请人： 株式会社ORC制作所
摘要： 提供紫外线照射装置及臭氧产生器。课题在于在各种各样的使用环境下，也能够实现稳定且高效的紫外线照射处理。在紫外线照射装置(10)中，将轴流风扇(20)与管状流路(30)同轴地配置，来供给流体。并且，在配置有准分子灯(40)的区域(FA)中，在产生以流速(方向和速度)根据场所而大不相同的复杂的流(非均匀湍流)为主导的流场的区域配置准分子灯(40)。
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公开(公告)号：CN114203521A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202110271044.8
申请日：2021-03-11
申请人： 株式会社ORC制作所
IPC分类号： H01J65/04 , H01J61/073 , H01J61/33 , C01B13/11
摘要： 本发明提供准分子灯、紫外线照射装置以及臭氧产生装置，该准分子灯有效地对被照射物照射紫外线。在具有内侧电极(40)被内侧管(30)包覆的放电容器(10T)的准分子灯(10)中，使内侧管(30)的前端部(31)进入到小径部(21)的内部，另一方面，使内侧电极(40)不进入小径部，使内侧电极(40)的前端部(41)的沿着灯轴(E)的位置位于比小径部(21)靠后端侧(放电容器中央侧)的位置。
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公开(公告)号：CN113448176A
公开(公告)日：2021-09-28
申请号：CN202011470253.7
申请日：2020-12-15
申请人： 株式会社ORC制作所
发明人： 奥山隆志
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供曝光装置和曝光方法。在曝光装置中，平滑地形成图案倾斜线。在曝光装置(10)中，矢量数据处理电路(40)将轮廓(BD0)的矢量数据变换为向±X方向(轮廓线外侧和/或在轮廓线内侧方向)移位后的轮廓线校正矢量数据(BD+)，并通过交替使用原始轮廓线矢量数据(BD0)和轮廓线校正矢量数据(BD+)来执行多重曝光动作。
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公开(公告)号：CN111686667A
公开(公告)日：2020-09-22
申请号：CN202010179086.4
申请日：2020-03-12
申请人： 株式会社ORC制作所
摘要： 提供紫外线照射装置及臭氧产生器。课题在于在各种各样的使用环境下，也能够实现稳定且高效的紫外线照射处理。在紫外线照射装置(10)中，将轴流风扇(20)与管状流路(30)同轴地配置，来供给流体。并且，在配置有准分子灯(40)的区域(FA)中，在产生以流速(方向和速度)根据场所而大不相同的复杂的流(非均匀湍流)为主导的流场的区域配置准分子灯(40)。
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公开(公告)号：CN107015439B
公开(公告)日：2020-07-24
申请号：CN201610865654.X
申请日：2016-09-29
申请人： 株式会社ORC制作所
发明人： 三好久司
摘要： 曝光装置以及曝光装置的对准方法，即使对配设有众多图案的基板，也迅速且准确地进行对准。曝光装置具有对准所使用的照相机(29)和DMD(22)，能够按照FO‑WLP形成图案，在该曝光装置中，使多个半导体芯片(SC)落在视野内而同时拍摄，从其图像提取各个半导体芯片(SC)的轮廓，将提取了作为标记的连接焊盘(CP)的比较对象区域(TA)的图像与模板图像进行比较，检测各芯片的位置偏差量。
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