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公开(公告)号：CN117305817A
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202311469781.4
申请日：2023-11-07
申请人： 捷造科技(宁波)有限公司
IPC分类号： C23C16/505 , C23C16/24 , C23C16/02
摘要： 本发明公开了一种光伏电池载板在线处理方法，包括：步骤一，提供一PECVD产线，所述PECVD产线通过回传模块传输空载板，在所述回传模块的回传方向上的区域顺次设置清洗模块和沉积模块；步骤二，将所述清洗模块和沉积模块都设置独立的门阀，所述清洗模块设置支撑机构，所述沉积模块设置顶升机构、射频发生器和馈入机构，所述馈入机构上端连接至射频发生器，下端伸入腔体内部；步骤三，清洗模块清洗空载板，沉积模块再给空载板沉积一层非晶硅膜层，整个空载板因清洗导致的表面杂质包覆在非晶硅膜层内进入下个工作循环。本发明的优点是：在线清洗可高效利用底部回传空闲时间，提高设备的利用率，不仅节约空间，而且节约成本。
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公开(公告)号：CN117244474A
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202310646873.9
申请日：2023-06-02
申请人： 捷造科技(宁波)有限公司
IPC分类号： B01J4/00
摘要： 本发明公开了一种特气快速接入装置及其使用方法，包括：工艺腔室上盖，所述工艺腔室上盖之上具有第一通孔，在所述工艺腔室上盖的上表面连接所述第一通孔的位置设置特气出口管道，在所述工艺腔室上盖的下表面连接所述第一通孔的位置设置特气对接模块，所述特气对接模块具有特气工艺孔，所述特气工艺孔与所述第一通孔相通，还包括下工艺腔室，所述工艺腔室上盖通过自身重力压置于所述下工艺腔室之上，使得所述特气通入管道、特气对接模块以及特气出口管道之间形成特气通路。本发明的优点是：避免了从大宗气站的特气管道直接通入保养过程中需要移动的上腔室，做到安全，方便，快捷，提高了保养效率，节约了保养费用。
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公开(公告)号：CN117904604A
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN202410277828.5
申请日：2024-03-12
申请人： 捷造科技(宁波)有限公司
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/50 , C23C16/52
摘要： 本发明公开了一种隔离PECVD放电区的装置，包括：固定部和移动部，在所述固定部与所述移动部之间设置放电区域，所述移动部通过移动连杆与旋转杆的配合转动进行上下运动，控制所述放电区域的打开与封闭，其中，所述固定部的中部与移动部的中部连接所述移动连杆，所述移动连杆的连接位置设置转轴，所述固定部的一端与所述移动部相对的另一端连接所述旋转杆，所述旋转杆的连接位置设置转轴。通过在装置内部的连杆机构形成直线移动机构，将地电极、喷淋电极、工件和载板等组件连接起来，形成一个封闭的放电区。本发明的优点是：结构简单，所占空间小，实用型较强，而且能有效的实现放电区的密封。
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公开(公告)号：CN117412460A
公开(公告)日：2024-01-16
申请号：CN202311553491.8
申请日：2023-11-21
申请人： 捷造科技(宁波)有限公司
摘要： 本发明公开了一种保持多区板式PECVD电极平行装置，包括：处理室本体和处理室上盖界定薄膜沉积所用的真空环境，真空管路系统藕接到处理室本体，气源输送管路藕接到喷淋电极，输送到喷淋电极的工艺气体均匀分布，喷淋电极藕接到处理室上盖，地电极藕接到处理室本体，喷淋电极和地电极通过外置上悬浮板和下悬浮板形成一对平行电极板，所述上悬浮板和下悬浮板分别通过多个调节螺钉将多个喷淋电极和多个地电极进行平面一致性和相对平行调节。本发明的优点是：保证薄膜沉积的质量，保证多区等离子体的反应区的均匀性、一致性，为高产能、高效率PECVD行业设备设计提供新思路。
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公开(公告)号：CN117904606A
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN202410302382.7
申请日：2024-03-18
申请人： 捷造科技(宁波)有限公司
IPC分类号： C23C16/50 , C23C16/458
摘要： 本发明公开了一种隔离载板框架的PECVD放电装置，包括：喷淋电极与地电极，所述喷淋电极与地电极之间构成放电区，镀膜工件和载板放置在所述放电区，所述载板之上放置镀膜工件，还包括载板框架，所述载板框架为所述镀膜工件和载板移动到指定位置后所述载板大于镀膜工件的区域，在所述载板框架上设置通过升降系统进行至少插入到所述载板框架内侧的绝缘机构。本发明的优点是：结构简单，通过将载板框架隔离出放电区，减小因载板材料、加工缺陷等各种原因对工件镀膜均匀性的影响。
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公开(公告)号：CN117385343A
公开(公告)日：2024-01-12
申请号：CN202311350682.4
申请日：2023-10-18
申请人： 捷造科技(宁波)有限公司
IPC分类号： C23C16/54 , C23C16/50 , C23C16/52 , C23C16/455
摘要： 本发明公开了一种提高工艺节拍的方法，其特征在于，包括：步骤一，提供进片室，所述进片室后端连接加热室，所述加热室后端连接第一工艺室，所述第一工艺室后端连接缓冲室，所述缓冲室后端连接第二工艺室，所述第二工艺室后端连接冷却室，所述冷却室后端连接出片室；步骤二，通过对所述加热室，缓冲室，冷却室各设置气管，控制保持各真空腔室压力均衡；步骤三，将托盘和衬底在各真空腔室间传输，传输到对应工艺室后直接镀膜。本发明的优点是：工艺室不用重新稳压，减少节拍时间。
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公开(公告)号：CN117855124A
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202410192339.X
申请日：2024-02-21
申请人： 捷造科技(宁波)有限公司
发明人： 邓建明
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/677 , H01L31/18 , H01L31/04
摘要： 本发明公开了一种硅片对夹导正方法，包括：分别左、右设置的一个导正底板，每个导正底板包括一个横向的主部，在所述主部两端垂直方向分别对称设置第一副部与第二副部，所述第一副部的两端垂直方向分别对称设置第三副部与第四副部，在所述第二副部的两端的端部下方竖直方向分别设置一个第一导正杆，在所述第三副部与第四副部的端部下方竖直方向分别设置一个第二导正杆，左导正底板的第二副部嵌入右导正底板的由第三副部与第四副部之间形成的区域，形成交错设置，左、右导正底板之间的机械限位及所述的遮挡板也到达所述正限位传感器位置，本发明的优点是：能够控制导正组件的运动范围，简化导正装置的机械结构，降低了制造和维护成本。
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公开(公告)号：CN117737707A
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202410047174.7
申请日：2024-01-12
申请人： 捷造科技(宁波)有限公司
IPC分类号： C23C16/505
摘要： 本发明公开了一种大面积showerhead部件屏蔽机构，包括：上盖板与下盖板，所述上盖板与下盖板组合形成内部空腔结构，在所述下盖板的内部底面的边际区域阵列分布有多个弹触单元，所述弹触单元包括至少一个压缩弹簧，所述压缩弹簧使所述上盖板与下盖板有活动间隙，在所述压缩弹簧的一侧设置对应的导电铜片，所述导电铜片为具有一定宽度的立式C字型结构，且开口朝向为环绕所述边际区域的方向。本发明的优点是：屏蔽了边缘效应和驻波效应，避免Showerhead四周出现镀膜不均的现象，做到四个区域的镀膜互不影响，解决绕镀和边缘效应的问题。
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公开(公告)号：CN117531782A
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202311438042.9
申请日：2023-11-01
申请人： 捷造科技(宁波)有限公司
摘要： 本发明公开了一种光伏电池载板的在线处理方法，包括：步骤一，提供一PVD镀膜产线，所述PVD镀膜产线包括载板与载板传输组件，在所述载板传输组件上方直接安装激光发射器支架；步骤二，根据需要在所述激光发射器支架上安装多个激光发射器；步骤三，在所述PVD镀膜产线工作的时候，打开所述载板上方的多个激光发射器，等待行进到有效射程范围时，激光发射器发射一定波长的激光，去除所述载板表面的膜层。本发明的优点是：结构简单，能够在线对PVD镀膜产线的载板进行清洗，具有极高的适用性。
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公开(公告)号：CN117467983A
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202311520551.6
申请日：2023-11-15
申请人： 捷造科技(宁波)有限公司
IPC分类号： C23C16/513 , C23C16/458 , C23C16/52 , C23C16/44
摘要： 本发明公开了一种内置反应盒的PECVD沉积装置，包括：处理室本体和处理室上盖界定薄膜沉积所用的真空环境，真空管路系统藕接到处理室上盖，气源输送管路藕接到喷淋电极，喷淋电极藕接到处理室本体，地电极藕接到处理室上盖，喷淋电极和地电极形成一对平行电极板，RF/VHF电源藕接到喷淋电极，升降系统顶升喷淋电极和工件基板，同地电极完全接触形成多个独立放电空间；在喷淋电极、工件基板、地电极形成多个独立放电空间，系统接地藕接到处理室上盖，RPS远程电源管路连接气体源和压力控制系统。本发明的优点是：能够使以PECVD沉积系统的产线设备的布局更灵活多变，满足光伏生产线设备不破空进行正反面薄膜沉积需求。
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