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公开(公告)号：CN110860950B
公开(公告)日：2021-08-13
申请号：CN201911187844.0
申请日：2019-11-28
申请人： 苏州晶鼎鑫光电科技有限公司
摘要： 本发明涉及一种用于5G光模块中基于氮化铝陶瓷正侧面金属化的制作方法，通过设计工装夹具将侧面装夹成一个平面，再通过研磨抛光解决侧面粗糙度问题，首先保证了侧面光刻时表面平整的问题，对于侧面图像精度有了很大的提升与保障，同时粗糙度问题的解决也让侧面金属化的牢固度得到了保障；通过腊切割可解决批量切割的问题，同时保证了产品的垂直度。
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公开(公告)号：CN109686521B
公开(公告)日：2020-10-09
申请号：CN201811576980.4
申请日：2018-12-23
申请人： 苏州晶鼎鑫光电科技有限公司
发明人： 周东平
IPC分类号： H01C17/08
摘要： 本发明一种基于陶瓷的薄膜电阻膜制作方法，S1、将陶瓷基板进行预处理；S2、将陶瓷基板装入工装夹具内，再投放入蒸发镀膜设备，在真空度达到2X10（‑2）PA、温度达到200℃后开始镀膜；S3、给真空室冲99.999%纯度的氮气，流量为20‑400CC/min；S4、打开离子源，离化氮气，同时阳极电压设置在300‑350V；S5、蒸发99.99%纯度的金属钽，蒸发速度控制在1‑20A/s，得到氮化钽薄膜，氮化钽薄膜的厚度为200‑5000nm；S6、蒸发镀膜完成后，设置降温曲线。本发明采用离子辅助蒸发镀膜的工艺做氮化钽薄膜电阻膜，把工艺温度从800℃降低到200℃，降低了镀膜成本，实现了产业化。
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公开(公告)号：CN110719698A
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：CN201911187843.6
申请日：2019-11-28
申请人： 苏州晶鼎鑫光电科技有限公司
摘要： 本发明涉及一种用于5G光模块中基于覆铜板上制作预制金锡的制作方法，通过利用干膜的特性完美解决表面光刻平整的问题与强大的填坑能力，操作方便，极大提高光刻的成品率，干膜的易去除的能力保证了后续处理金锡的效果，和效率，为实现大批量量产提供了便利，抛弃传统匀胶或者喷胶的方式，采用干膜直接在覆铜板表面压膜，可以无视表面的深槽，完好的将产品表面全部覆盖，且不用担心匀胶或者喷胶带来的表面可能不均匀的问题，再通过曝光显影可在带深槽的铜面光刻出金锡图形。
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公开(公告)号：CN109686521A
公开(公告)日：2019-04-26
申请号：CN201811576980.4
申请日：2018-12-23
申请人： 苏州晶鼎鑫光电科技有限公司
发明人： 周东平
IPC分类号： H01C17/08
CPC分类号： H01C17/08
摘要： 本发明一种基于陶瓷的薄膜电阻膜制作方法，S1、将陶瓷基板进行预处理；S2、将陶瓷基板装入工装夹具内，再投放入蒸发镀膜设备，在真空度达到2X10（-2）PA、温度达到200℃后开始镀膜；S3、给真空室冲99.999%纯度的氮气，流量为20-400CC/min；S4、打开离子源，离化氮气，同时阳极电压设置在300-350V；S5、蒸发99.99%纯度的金属钽，蒸发速度控制在1-20A/s，得到氮化钽薄膜，氮化钽薄膜的厚度为200-5000nm；S6、蒸发镀膜完成后，设置降温曲线。本发明采用离子辅助蒸发镀膜的工艺做氮化钽薄膜电阻膜，把工艺温度从800℃降低到200℃，降低了镀膜成本，实现了产业化。
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公开(公告)号：CN108193171A
公开(公告)日：2018-06-22
申请号：CN201810087211.1
申请日：2018-01-30
申请人： 苏州晶鼎鑫光电科技有限公司
发明人： 周东平
摘要： 本发明揭示了一种多通道集成滤光片光隔离结构的制造方法，对基片表面进行化学腐蚀处理，以形成粗糙的腐蚀处理面，再在腐蚀处理面上镀制黑铬金属膜层，在黑铬金属膜层上镀制消光层即得光隔离结构。本发明利用黑铬金属膜层满足光学透过性能低的要求，同时，利用由四层氧化物光学薄膜组成的消光层降低黑铬金属膜层的剩余反射率，再者，通过设置粗糙的腐蚀处理面，使得黑铬金属膜层具有漫反射特性，在各个方向都具有较低的剩余反射率，并使得黑铬金属膜层与基片结合得更牢固可靠；制得的光隔离结构可有效实现多通道集成滤光片各通道之间的隔离，保障多通道集成滤光片的工作性能，还具有使用寿命长的优点。
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公开(公告)号：CN107748403A
公开(公告)日：2018-03-02
申请号：CN201711160426.3
申请日：2017-11-20
申请人： 苏州晶鼎鑫光电科技有限公司
发明人： 周东平
CPC分类号： G02B5/001 , G02B7/1805
摘要： 本发明揭示了一种微空气隙光学元件，包括两块相对设置的棱镜，两块所述棱镜的相对表面上均通过真空镀膜工艺镀有至少三处金属膜，两块棱镜上的所述金属膜厚度相同且位置、数量一一对应设置；两块所述棱镜上的对应金属膜通过真空加热封接工艺连为一体，以固定两块棱镜的相对位置。本发明还揭示了一种微空气隙光学元件的制造方法。本发明通过真空镀膜工艺在棱镜上设置具有封接性能的金属膜，然后采用真空加热封接工艺使两边的金属膜牢固地封接在一起，进而制得具有空气隙的光学元件，通过精确控制金属膜的厚度实现光学元件空气隙间隙大小的精确控制，具有空气隙间隙大小精度高且间隙大小可以任意调整的优点，适用于任意极薄间隙的光学元件制造。
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公开(公告)号：CN107703574A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201711220421.5
申请日：2017-11-29
申请人： 苏州晶鼎鑫光电科技有限公司
发明人： 周东平
IPC分类号： G02B5/20
CPC分类号： G02B5/201
摘要： 本发明揭示了一种多通道集成滤光片的制造方法，选用与光学通道一一对应的机械掩膜夹具，通过机械掩膜工艺和光学高真空蒸镀工艺在一块完整的基片上设置多处光学滤光片膜层，以形成多个光学通道，光学通道之间相互隔绝，互不干扰，各自通过要求的光谱波段上的光线，实现滤光功能。由于是将多个光学滤光片膜层都制作在一片基片上，因此具有机械性能佳，在震动等恶劣环境中的耐受性能好的优点，而且光学滤光片膜层具有统一的基准面，装配调校容易，同时，体积较小，使得光学仪器的体积易于实现小型化，再者，各个光学通道制作均采用机械掩膜工艺，具有工艺简单、良品率高、制备成本低的优点。
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公开(公告)号：CN106835024A
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201710009732.0
申请日：2017-01-06
申请人： 苏州晶鼎鑫光电科技有限公司
发明人： 周东平
CPC分类号： C23C14/24 , B01J20/0203 , B01J20/0214 , B01J20/0229 , B01J20/0248 , C23C14/14 , C23C14/546
摘要： 本发明揭示了一种制备非蒸散型薄膜吸气剂的方法，将若干吸气金属一一对应放置于镀膜机的若干蒸发舟内作为靶材，吸气金属至少为两种，各蒸发舟的工作参数单独可控，各蒸发舟处一一对应设有膜厚监测仪，以监测对应蒸发舟内吸气金属的蒸发速率；将基片和蒸发舟放入镀膜机的真空腔内；对真空腔内抽真空；对吸气金属进行预熔，并控制各蒸发舟的工作参数使各吸气金属同时蒸发；根据膜厚监测仪的反馈值调整蒸发舟的工作参数，以将各吸气金属的蒸发速率调整为预设比值。本发明可以同时蒸发多种吸气金属，无需额外制作合金，有益于节约吸气剂的制备成本和时间，同时，通过控制各吸气金属的蒸发速率，可以精确控制吸气剂的成分。
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公开(公告)号：CN106835024B
公开(公告)日：2019-07-12
申请号：CN201710009732.0
申请日：2017-01-06
申请人： 苏州晶鼎鑫光电科技有限公司
发明人： 周东平
摘要： 本发明揭示了一种制备非蒸散型薄膜吸气剂的方法，将若干吸气金属一一对应放置于镀膜机的若干蒸发舟内作为靶材，吸气金属至少为两种，各蒸发舟的工作参数单独可控，各蒸发舟处一一对应设有膜厚监测仪，以监测对应蒸发舟内吸气金属的蒸发速率；将基片和蒸发舟放入镀膜机的真空腔内；对真空腔内抽真空；对吸气金属进行预熔，并控制各蒸发舟的工作参数使各吸气金属同时蒸发；根据膜厚监测仪的反馈值调整蒸发舟的工作参数，以将各吸气金属的蒸发速率调整为预设比值。本发明可以同时蒸发多种吸气金属，无需额外制作合金，有益于节约吸气剂的制备成本和时间，同时，通过控制各吸气金属的蒸发速率，可以精确控制吸气剂的成分。
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公开(公告)号：CN105506547B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：CN201510932544.6
申请日：2015-12-15
申请人： 苏州晶鼎鑫光电科技有限公司
发明人： 周东平
摘要： 本发明公开了一种光学元件金属化镀膜的纳米掩膜方法，包括如下步骤：准备基片和纳米掩膜模板，将基片清洗干净并烘干；通过纳米掩膜模板覆盖基片上，再通过蒸镀、电镀或者印刷中的一种方法将纳米掩膜材料覆盖在基片上，完成后取下纳米掩膜模板，再在整个基片上形成金属层，完成后去除液进行反应，得到具有金属化图案的光学元件。本发明的有益效果为：本发明纳米掩膜一次成形，方法简单方便，可提高产品产量和良率；在基片上形成掩膜以后，方便后续处理；纳米掩膜的实现方法有多种，可根据实际情况灵活选择；本发明的纳米掩膜法制备光学元件金属化镀膜的制备成本低，经济实惠。
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