公开(公告)号：CN105319866B

公开(公告)日：2018-12-07

申请号：CN201510455614.3

申请日：2015-07-29

申请人： 三星电子株式会社

发明人： 金志明 ,  郑圭珉 ,  郑泰和 ,  尹广燮

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00

摘要： 本公开提供了目标基板、光刻测量方法和基板。一种基板可以包括：在基板上的包括在集成电路中的特征图案；和在基板上的与特征图案间隔开的原位测量图案，该原位测量图案和特征图案两者被配置为相对于基板的表面具有相同的高度。

公开(公告)号：CN105319866A

公开(公告)日：2016-02-10

申请号：CN201510455614.3

申请日：2015-07-29

申请人： 三星电子株式会社

发明人： 金志明 ,  郑圭珉 ,  郑泰和 ,  尹广燮

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00

CPC分类号： G03F7/70683 ,  G01B11/0641 ,  G01N21/93 ,  G01N21/956 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70641 ,  H01L23/544

摘要： 本公开提供了目标基板、光刻测量方法和基板。一种基板可以包括：在基板上的包括在集成电路中的特征图案；和在基板上的与特征图案间隔开的原位测量图案，该原位测量图案和特征图案两者被配置为相对于基板的表面具有相同的高度。

公开(公告)号：CN105319865A

公开(公告)日：2016-02-10

申请号：CN201510455256.6

申请日：2015-07-29

申请人： 三星电子株式会社

发明人： 金志明 ,  金容彻 ,  朴荣植 ,  尹广燮

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70641 ,  G03F1/38 ,  G03F1/44 ,  H01L21/027 ,  H01L21/0274

摘要： 一种光掩模包括焦距测量标记区域，该焦距测量标记区域包括多个焦距监控图案。为了测量形成在基板上的特征图案的焦距变化，使用用于光刻测量的基板对象，该基板对象包括形成在与特征图案相同的水平上的焦距测量标记。一种光刻测量装置包括：投射器件，包括偏振器；检测器件，检测由要被测量的基板的焦距测量标记衍射的输出光束当中的±n级衍射光束的功率；以及确定器件，从±n级衍射光束之间的功率偏差来确定特征图案所经受的散焦。

公开(公告)号：CN105319865B

公开(公告)日：2019-06-21

申请号：CN201510455256.6

申请日：2015-07-29

申请人： 三星电子株式会社

发明人： 金志明 ,  金容彻 ,  朴荣植 ,  尹广燮

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70641 ,  G03F1/38 ,  G03F1/44 ,  H01L21/027 ,  H01L21/0274

摘要： 一种光掩模包括焦距测量标记区域，该焦距测量标记区域包括多个焦距监控图案。为了测量形成在基板上的特征图案的焦距变化，使用用于光刻测量的基板对象，该基板对象包括形成在与特征图案相同的水平上的焦距测量标记。一种光刻测量装置包括：投射器件，包括偏振器；检测器件，检测由要被测量的基板的焦距测量标记衍射的输出光束当中的±n级衍射光束的功率；以及确定器件，从±n级衍射光束之间的功率偏差来确定特征图案所经受的散焦。