公开(公告)号：CN117716297A

公开(公告)日：2024-03-15

申请号：CN202280052673.4

申请日：2022-07-25

申请人： 三菱瓦斯化学株式会社

发明人： 冈田拓巳 ,  星野良辅 ,  佐藤英之 ,  片桐诚之 ,  铃木周 ,  越后雅敏

IPC分类号： G03F7/42

摘要： 根据本发明，能够提供一种稀释剂组合物，其含有包含下述通式(b‑1)所示的化合物(B1)的溶剂(B)。另外，根据本发明，还能够提供一种半导体器件的制造方法，其包括在基板上涂布光致抗蚀剂膜材料或光致抗蚀剂下层膜材料之前，在上述基板上涂布上述稀释剂组合物的工序。#imgabs0#[上述式(b‑1)中，R1为碳原子数1～10的烷基]。

公开(公告)号：CN117769684A

公开(公告)日：2024-03-26

申请号：CN202280052563.8

申请日：2022-07-25

申请人： 三菱瓦斯化学株式会社

发明人： 冈田拓巳 ,  星野良辅 ,  佐藤英之 ,  片桐诚之 ,  铃木周 ,  越后雅敏

IPC分类号： G03F7/11 ,  C07C69/708 ,  C07C69/675 ,  C07C69/54 ,  G03F7/40 ,  G03F7/26 ,  G03F7/20 ,  G03F7/039 ,  C08F220/28 ,  C08F220/18 ,  C07C309/06 ,  C07C39/19 ,  C07C25/02

摘要： 根据本发明，能够提供一种抗蚀剂辅助膜组合物，其中，含有树脂(A)和包含下述通式(b－1)所示的化合物(B1)的溶剂(B)，上述抗蚀剂辅助膜组合物的以总量为基准的有效成分的含量为45质量％以下，上述式(b－1)中，R1为碳原子数1～10的烷基。#imgabs0#

公开(公告)号：CN117716290A

公开(公告)日：2024-03-15

申请号：CN202280052523.3

申请日：2022-07-25

申请人： 三菱瓦斯化学株式会社

发明人： 冈田拓巳 ,  星野良辅 ,  佐藤英之 ,  片桐诚之 ,  铃木周 ,  越后雅敏

IPC分类号： G03F7/004

摘要： 本发明能够提供一种抗蚀剂组合物，其中，含有树脂(A)和包含下述通式(b－1)所示的化合物(B1)的溶剂(B)，上述抗蚀剂组合物的以总量为基准的有效成分的含量为45质量％以下，上述式(b－1)中，R1为碳原子数1～10的烷基。#imgabs0#