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公开(公告)号：CN102177273B
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN200980139268.0
申请日：2009-07-31
Applicant: 三菱综合材料株式会社
IPC: C23C14/34 , C22C9/00 , C22C9/01 , C22C9/05 , H01B5/14 , H01L21/28 , H01L21/285 , H01L21/3205 , H01L23/52
CPC classification number: C23C14/3414 , C22C9/00 , C22C9/01 , C22C9/05 , C23C14/14 , C23C14/165 , H01L21/2855 , H01L23/53233 , H01L2924/0002 , H05K1/0306 , H05K1/09 , H05K3/16 , Y10T428/12431 , H01L2924/00
Abstract: 本发明的平板显示器的铜合金配线膜以及用于形成该铜合金配线膜的溅射靶具有如下组成：含有Mg：0.1～5原子％，还含有Mn和Al中的1种或2种总计：0.1～11原子％，根据需要含有P：0.001～0.1原子％，余部由Cu和不可避免的杂质构成。
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公开(公告)号：CN1781625A
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：CN200510099846.6
申请日：2001-02-26
Applicant: 三菱综合材料株式会社
Abstract: 本发明提供一种用于连续生产低氧铜合金线材的方法，包括：一个准备所述低氧铜原料的步骤；一个在一熔化炉中使所述原料在一种还原气氛下燃烧以生产熔融铜的步骤；一个在一浇注槽中将所述熔融铜密封在一种非氧化气氛下的步骤；一个利用所述浇注槽将所述熔融铜输送到一中间包的步骤；一个使所述熔融铜经过设置在所述浇注槽中的一除气装置以为所述熔融铜脱氢的除气步骤；一个在所述脱氢后的熔融铜中添加银的步骤；一个将所述熔融铜供给到一带式连铸机中以连续生产铸铜合金的步骤；一个对铸铜合金进行轧制以生产低氧铜合金线材的步骤。本发明还提供用于连续生产含磷的镀铜用低氧铜基底材料的方法，其中在脱氢后的熔融铜中添加磷并将熔融铜供给带式连铸机中以连续生产铸铜基底材料，随后进行轧制。
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公开(公告)号：CN102177273A
公开(公告)日：2011-09-07
申请号：CN200980139268.0
申请日：2009-07-31
Applicant: 三菱综合材料株式会社
IPC: C23C14/34 , C22C9/00 , C22C9/01 , C22C9/05 , H01B5/14 , H01L21/28 , H01L21/285 , H01L21/3205 , H01L23/52
CPC classification number: C23C14/3414 , C22C9/00 , C22C9/01 , C22C9/05 , C23C14/14 , C23C14/165 , H01L21/2855 , H01L23/53233 , H01L2924/0002 , H05K1/0306 , H05K1/09 , H05K3/16 , Y10T428/12431 , H01L2924/00
Abstract: 本发明的平板显示器的铜合金配线膜以及用于形成该铜合金配线膜的溅射靶具有如下组成：含有Mg：0.1～5原子％，还含有Mn和Al中的1种或2种总计：0.1～11原子％，根据需要含有P：0.001～0.1原子％，余部由Cu和不可避免的杂质构成。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100349671C
公开(公告)日：2007-11-21
申请号：CN200510099846.6
申请日：2001-02-26
Applicant: 三菱综合材料株式会社
Abstract: 本发明提供一种用于连续生产低氧铜合金线材的方法，包括：一个准备所述低氧铜原料的步骤；一个在一熔化炉中使所述原料在一种还原气氛下燃烧以生产熔融铜的步骤；一个在一浇注槽中将所述熔融铜密封在一种非氧化气氛下的步骤；一个利用所述浇注槽将所述熔融铜输送到一中间包的步骤；一个使所述熔融铜经过设置在所述浇注槽中的一除气装置以为所述熔融铜脱氢的除气步骤；一个在所述脱氢后的熔融铜中添加银的步骤；一个将所述熔融铜供给到一带式连铸机中以连续生产铸铜合金的步骤；一个对铸铜合金进行轧制以生产低氧铜合金线材的步骤。本发明还提供用于连续生产含磷的镀铜用低氧铜基底材料的方法，其中在脱氢后的熔融铜中添加磷并将熔融铜供给带式连铸机中以连续生产铸铜基底材料，随后进行轧制。
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公开(公告)号：CN1316534A
公开(公告)日：2001-10-10
申请号：CN01104992.8
申请日：2001-02-26
Applicant: 三菱综合材料株式会社
Abstract: 一种连续地生产低氧铜锭的设备，包括：一个熔化炉，在所述熔化炉中在还原气氛下进行燃烧以生产熔融铜；一个用于将来自熔化炉的熔融铜保持在一个预定温度下的均热炉；一个用于将来自所述均热炉的熔融铜密封在一种非氧化气氛下并且将所述熔融铜输送到一个中间包的浇注槽；一个设置在所述浇注槽中用于使经过所述浇注槽的熔融铜脱氢的除气装置；一个能够利用来自所述中间包的熔融铜连续地生产铸铜的连铸机；以及一个用于将所述铸铜切割成预定长度的切割装置。
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公开(公告)号：CN1247349C
公开(公告)日：2006-03-29
申请号：CN01104991.X
申请日：2001-02-26
Applicant: 三菱综合材料株式会社
Abstract: 本发明提供用于连续生产低氧铜锭的方法，包括：准备低氧铜原料；在熔化炉中使原料在还原气氛下燃烧以生产熔融铜；在浇注槽中将熔融铜密封在非氧化气氛下，其中浇注槽具有除气装置，除气装置具有许多个挡堰，这些挡堰定位在浇注槽的上表面、下表面和侧表面上并且这些挡堰沿垂直方向和水平方向延伸于浇注槽内，从而熔融铜受到引导而在浇注槽中向上下左右流动，以使熔融铜脱氢；用浇注槽将经过除气装置的熔融铜输送到中间包；将经过脱氢的熔融铜供给连铸机以便连续生产铸铜；将铸铜切割成都具有预定长度的低氧铜锭。如果要制造含银或含磷的铜合金，则本发明方法包括添加银或磷到熔融铜中。也可以进一步对低氧铜材料进行加工，如轧制成线材。
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公开(公告)号：CN1210416C
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN01104992.8
申请日：2001-02-26
Applicant: 三菱综合材料株式会社
Abstract: 本发明提供一种用于连续生产低氧铜锭的设备，包括：一个熔化炉，在所述熔化炉中在一种还原气氛下进行燃烧以生产熔融铜；一个用于将来自所述熔化炉的熔融铜保持在一个预定温度下的均热炉；一个用于将来自所述均热炉的熔融铜密封在一种非氧化气氛下并且将所述熔融铜输送到一个中间包的浇注槽，其中所述浇注槽被覆盖以具有上表面、下表面和侧表面来用于熔融铜的流动通道；一个设置在所述浇注槽中用于使经过所述浇注槽的熔融铜脱氢的除气装置；以及一个能够利用来自所述中间包的熔融铜连续地生产铸铜的连铸机；其特征在于该除气装置包括设置在所述浇注槽的上表面、下表面和侧表面的挡堰，以便使熔融铜在浇注槽中沿竖向和侧向蜿蜒地流动。以在无需为熔融铜保证一个长移动距离的情况下进行脱氢处理，并且在凝固时可抑制气孔生成，从而可获得高质量低氧铜。
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公开(公告)号：CN1316307A
公开(公告)日：2001-10-10
申请号：CN01104991.X
申请日：2001-02-26
Applicant: 三菱综合材料株式会社
Abstract: 一种利用熔融铜连续地生产低氧铜锭的方法，包括：一个在一熔化炉中使所述原料在一种还原气氛下燃烧以生产熔融铜的步骤；一个在一浇注槽中将所述熔融铜密封在一种非氧化气氛下的步骤；一个利用所述浇注槽将所述熔融铜输送到一中间包的步骤；一个使所述熔融铜经过设置在所述浇注槽中的一除气装置以为所述熔融铜脱氢的除气步骤；一个将所述熔融铜连续供给到一个连铸机中以连续生产铸铜的步骤；以及一个将所述铸铜切割成预定长度的步骤。
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