基于水润滑拉拔的多道次金属拉拔装置

    公开(公告)号:CN103331318B

    公开(公告)日:2015-04-01

    申请号:CN201310228889.4

    申请日:2013-06-08

    IPC分类号: B21C3/14 B21C3/02

    摘要: 本发明公开了一种基于水润滑拉拔的多道次金属拉拔装置,包括支架、固定在支架内部的拉拔腔、设置于拉拔腔内的密封圈、模具组和润滑室组、以及固定在支架上的盖板;模具组为超光滑纳米金刚石复合涂层模具;拉拔腔润滑剂入口与支架润滑剂入口的中心线对齐;密封圈、润滑室组和模具组沿着管线材拉拔方向依次放置在拉拔腔内,润滑室开口方向与拉拔腔润滑剂出入口对齐。本发明能够使管线材与模具组接触区在拉拔过程中完全浸入在润滑剂中,使金刚石薄膜优异的水润滑性能得到发挥,拉拔区域得到有效的润滑和冷却,从而延长模具使用寿命,提高加工表面质量以及表面光洁度、清洁度;同时水基润滑剂安全、无污染的特点也使得加工环境得到极大改善。

    适用于水润滑的金刚石涂层拉拔模具制备方法

    公开(公告)号:CN105200391A

    公开(公告)日:2015-12-30

    申请号:CN201410234041.7

    申请日:2014-05-29

    IPC分类号: C23C16/27 C23C16/56 B21C3/00

    摘要: 本发明公开了一种适用于水润滑的金刚石涂层拉拔模具制备方法;以各种孔径的硬质合金拉拔模具为衬底,内孔表面经稀盐酸滴加双氧水腐蚀去钴,以碳化硅粉喷砂、钻石粉研磨粗化处理,洗净后热丝CVD法沉积金刚石涂层;将金刚石涂层拉拔模具先后或交叉进行稀硫酸条件下的阳极氧化和有氧条件下对涂层研磨抛光等后处理,使金刚石涂层最后的表面光洁度达到Ra≤0.1μm。金刚石涂层拉拔模具工作面硬度高,耐腐蚀,其表面亲水性又能使水形成连续的润滑膜,加上涂层表面均匀分布有自润滑性的石墨成份,在金属拉丝、管减径减壁的拉拔过程中,可以用水润滑代替油润滑,不但可以降低成本,而且能够有效避免油基润滑剂的大量使用引起的生态环境污染。

    多元掺杂热丝化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法

    公开(公告)号:CN102586762B

    公开(公告)日:2015-08-19

    申请号:CN201210085095.2

    申请日:2012-03-27

    摘要: 本发明公开了一种多元掺杂热丝化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法及用于其中的反应气体输送装置。所述方法以硅、碳化硅或氮化硅陶瓷、硬质合金、以及高熔点金属材料(钨、钽、钼、钛等)为衬底,以CVD法为沉积手段,在反应气体氢气和丙酮(或丙酮和甲醇)蒸汽中同时添加含Si、含Si和含N、含Si和含B或含Si、含N和含B的有机化合物,形成多元掺杂体系;反应得到了亚微米或纳米级金刚石薄膜涂层,涂层厚度可在10~50μm之间调节。该薄膜具有耐磨、耐腐蚀、绝缘电阻高(不掺硼场合)、表面光滑、摩擦系数小、易研磨抛光等特点,即兼有微米金刚石和纳米金刚石涂层的双重优点。

    碳化硅陶瓷和金刚石复合拉拔模具制备方法

    公开(公告)号:CN101318839B

    公开(公告)日:2011-06-29

    申请号:CN200810040138.9

    申请日:2008-07-03

    IPC分类号: B21C9/02 C04B41/85 B21C3/00

    摘要: 本发明涉及一种镀覆技术领域的碳化硅陶瓷和金刚石复合拉拔模具制备方法,以碳化硅陶瓷为衬底,进行多次常规金刚石涂层沉积→等离子体抛光→纳米金刚石涂层沉积→机械抛光,使陶瓷模具原先内孔表面缺陷砂眼消失,在CVD金刚石沉积-抛光循环过程,采用常规金刚石涂层与纳米金刚石涂层相结合,等离子体抛光与机械抛光相结合,在沉积常规涂层与纳米涂层之间插入等离子体抛光,使生长纳米涂层后更适应机械抛光。本发明制备的模具可替代传统硬质合金产品,不仅能大幅度延长传统模具和器件的使用寿命,提高生产效率,显著改善相关产品的质量,有效节约原材料,且对于大幅度减少钨、钴资源的消耗,有效解决硬质合金行业面临资源危机意义重大。

    利用化学气相沉积制备单层金刚石磨料工具的方法

    公开(公告)号:CN106926148B

    公开(公告)日:2020-07-14

    申请号:CN201710072261.8

    申请日:2017-02-08

    IPC分类号: B24D18/00

    摘要: 本发明公开了一种利用化学气相沉积制备单层金刚石磨料工具的方法;该方法针对碳化硅基体,将金刚石磨料混入光刻胶溶液并将其超声振荡,利用旋转甩胶均匀分散金刚石磨粒,实现其在基体衬底均匀分布,采用CVD方法在金刚石磨粒和碳化硅基体之间沉积金刚石涂层结合剂,将磨料与基体牢固的连结起来,同时磨粒生长成为高品级立方八面体单晶颗粒。本发明制备的单层金刚石磨料工具磨粒把持力强,出露高度高,容屑空间大,避免了电镀和钎焊单层金刚石磨料工具缺点,适用于制备细粒度(5‑100μm)单层金刚石磨料工具。本发明制备的单层金刚石磨料工具在半导体、光学晶体、人造蓝宝石、玻璃等脆硬材料的高精密磨削加工领域,具有广阔应用前景。