利用化学气相沉积制备单层金刚石磨料工具的方法

    公开(公告)号:CN106926148A

    公开(公告)日:2017-07-07

    申请号:CN201710072261.8

    申请日:2017-02-08

    IPC分类号: B24D18/00

    摘要: 本发明公开了一种利用化学气相沉积制备单层金刚石磨料工具的方法;该方法针对碳化硅基体,将金刚石磨料混入光刻胶溶液并将其超声振荡,利用旋转甩胶均匀分散金刚石磨粒,实现其在基体衬底均匀分布,采用CVD方法在金刚石磨粒和碳化硅基体之间沉积金刚石涂层结合剂,将磨料与基体牢固的连结起来,同时磨粒生长成为高品级立方八面体单晶颗粒。本发明制备的单层金刚石磨料工具磨粒把持力强,出露高度高,容屑空间大,避免了电镀和钎焊单层金刚石磨料工具缺点,适用于制备细粒度(5‑100μm)单层金刚石磨料工具。本发明制备的单层金刚石磨料工具在半导体、光学晶体、人造蓝宝石、玻璃等脆硬材料的高精密磨削加工领域,具有广阔应用前景。

    利用化学气相沉积制备单层金刚石磨料工具的方法

    公开(公告)号:CN106926148B

    公开(公告)日:2020-07-14

    申请号:CN201710072261.8

    申请日:2017-02-08

    IPC分类号: B24D18/00

    摘要: 本发明公开了一种利用化学气相沉积制备单层金刚石磨料工具的方法;该方法针对碳化硅基体,将金刚石磨料混入光刻胶溶液并将其超声振荡,利用旋转甩胶均匀分散金刚石磨粒,实现其在基体衬底均匀分布,采用CVD方法在金刚石磨粒和碳化硅基体之间沉积金刚石涂层结合剂,将磨料与基体牢固的连结起来,同时磨粒生长成为高品级立方八面体单晶颗粒。本发明制备的单层金刚石磨料工具磨粒把持力强,出露高度高,容屑空间大,避免了电镀和钎焊单层金刚石磨料工具缺点,适用于制备细粒度(5‑100μm)单层金刚石磨料工具。本发明制备的单层金刚石磨料工具在半导体、光学晶体、人造蓝宝石、玻璃等脆硬材料的高精密磨削加工领域,具有广阔应用前景。

    适用于水润滑的金刚石涂层拉拔模具制备方法

    公开(公告)号:CN105200391A

    公开(公告)日:2015-12-30

    申请号:CN201410234041.7

    申请日:2014-05-29

    IPC分类号: C23C16/27 C23C16/56 B21C3/00

    摘要: 本发明公开了一种适用于水润滑的金刚石涂层拉拔模具制备方法;以各种孔径的硬质合金拉拔模具为衬底,内孔表面经稀盐酸滴加双氧水腐蚀去钴,以碳化硅粉喷砂、钻石粉研磨粗化处理,洗净后热丝CVD法沉积金刚石涂层;将金刚石涂层拉拔模具先后或交叉进行稀硫酸条件下的阳极氧化和有氧条件下对涂层研磨抛光等后处理,使金刚石涂层最后的表面光洁度达到Ra≤0.1μm。金刚石涂层拉拔模具工作面硬度高,耐腐蚀,其表面亲水性又能使水形成连续的润滑膜,加上涂层表面均匀分布有自润滑性的石墨成份,在金属拉丝、管减径减壁的拉拔过程中,可以用水润滑代替油润滑,不但可以降低成本,而且能够有效避免油基润滑剂的大量使用引起的生态环境污染。