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公开(公告)号：CN102866585B
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：CN201210243584.6
申请日：2008-12-18
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/00 , C07C309/17 , C07C303/32 , C07C381/12 , C07D493/18 , C07D333/46
摘要： 本发明涉及含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性发生改变的基材成分(A)和通过曝光来产生酸的产酸剂成分(B)的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述产酸剂成分(B)含有由下述通式(b1-1)表示的化合物形成的产酸剂(B1)，式中，RX是可以具有取代基(但氮原子除外)的烃基；Q2和Q3分别独立地为单键或2价的连接基团；Y1是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；Z+是有机阳离子(但下述通式(w-1)表示的离子除外)。
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公开(公告)号：CN101470349A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200810173347.0
申请日：2008-11-13
申请人： 东京应化工业株式会社
CPC分类号： G03F7/0045 , C07D327/02 , C07D327/04 , C07D497/08 , C08K5/36 , C08K5/42 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123
摘要： 本发明提供抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、用作该抗蚀剂组合物用产酸剂的新型化合物、用作该化合物的前体的化合物以及该产酸剂。其中，涉及通式(I)表示的化合物；以及通式(b1－1)表示的化合物(式中，Q1是2价连接基团或单键；Y1是可具有取代基的亚烷基或可具有取代基的氟代亚烷基；X表示可具有取代基的碳原子数为3～30的环式基，该环结构中具有－SO2－键。M+是碱金属离子。A+是有机阳离子)。
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公开(公告)号：CN101408728A
公开(公告)日：2009-04-15
申请号：CN200810212866.3
申请日：2008-09-10
申请人： 东京应化工业株式会社
摘要： 本发明涉及含有能用作产酸剂的新型化合物的抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法、所述化合物、能用作所述化合物的前体的化合物及其制造方法。其中，涉及式(I)表示的化合物以及式(b1－1)表示的化合物[式中，X是－O－、－S－、－O－R3－或－S－R4－，R3和R4分别独立地是碳原子数为1～5的亚烷基；R2是碳原子数为1～6的烷基、碳原子数为1～6的烷氧基、碳原子数为1～6的卤代烷基、卤原子、碳原子数为1～6的羟烷基、羟基或氰基；a是0～2的整数；Q1是碳原子数为1～12的亚烷基或单键；Y1是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；M+是碱金属离子；A+是有机阳离子。
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公开(公告)号：CN106986792A
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201710046671.5
申请日：2008-12-18
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： C07C303/32 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07D493/08
摘要： 本发明涉及含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性发生改变的基材成分(A)和通过曝光来产生酸的产酸剂成分(B)的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述产酸剂成分(B)含有由下述通式(b1－1)表示的化合物形成的产酸剂(B1)，式中，RX是可以具有取代基(但氮原子除外)的烃基；Q2和Q3分别独立地为单键或2价的连接基团；Y1是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；Z+是有机阳离子(但下述通式(w‑1)表示的离子除外)。
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公开(公告)号：CN102344437B
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201110206830.6
申请日：2008-11-13
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： C07D327/04 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07D333/76 , C07C381/12
CPC分类号： G03F7/0045 , C07D327/02 , C07D327/04 , C07D497/08 , C08K5/36 , C08K5/42 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123
摘要： 本发明提供抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、用作该抗蚀剂组合物用产酸剂的化合物、用作该化合物的前体的化合物以及该产酸剂。其中，涉及通式(I)表示的化合物；以及通式(b1-1)表示的化合物(式中，Q1是2价连接基团或单键；Y1是可具有取代基的亚烷基或可具有取代基的氟代亚烷基；X表示可具有取代基的碳原子数为3～30的环式基，该环结构中具有-SO2-键。M+是碱金属离子。A+是有机阳离子。)
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公开(公告)号：CN102566267A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201110402834.1
申请日：2008-11-13
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/00 , C07D327/04 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07D333/76 , C07C381/12
CPC分类号： G03F7/0045 , C07D327/02 , C07D327/04 , C07D497/08 , C08K5/36 , C08K5/42 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123
摘要： 本发明提供抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、用作该抗蚀剂组合物用产酸剂的新型化合物、用作该化合物的前体的化合物以及该产酸剂。其中，涉及通式(I)表示的化合物；以及通式(b1-1)表示的化合物(式中，Q1是2价连接基团或单键；Y1是可具有取代基的亚烷基或可具有取代基的氟代亚烷基；X表示可具有取代基的碳原子数为3～30的环式基，该环结构中具有-SO2-键。M+是碱金属离子。A+是有机阳离子)。
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公开(公告)号：CN102344437A
公开(公告)日：2012-02-08
申请号：CN201110206830.6
申请日：2008-11-13
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： C07D327/04 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07D333/76 , C07C381/12
CPC分类号： G03F7/0045 , C07D327/02 , C07D327/04 , C07D497/08 , C08K5/36 , C08K5/42 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123
摘要： 本发明提供抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、用作该抗蚀剂组合物用产酸剂的新型化合物、用作该化合物的前体的化合物以及该产酸剂。其中，涉及通式(I)表示的化合物；以及通式(b1-1)表示的化合物(式中，Q1是2价连接基团或单键；Y1是可具有取代基的亚烷基或可具有取代基的氟代亚烷基；X表示可具有取代基的碳原子数为3～30的环式基，该环结构中具有-SO2-键。M+是碱金属离子。A+是有机阳离子。)
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公开(公告)号：CN101464628A
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200810185226.8
申请日：2008-12-18
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/028 , G03F7/00 , C07C309/00
摘要： 本发明涉及含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性发生改变的基材成分(A)和通过曝光来产生酸的产酸剂成分(B)的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述产酸剂成分(B)含有由下述通式(b1－1)表示的化合物形成的产酸剂(B1)，RX－Q3－O－Q2－Y1－SO3－Z+…(b1－1)；式中，RX是可以具有取代基(但氮原子除外)的烃基；Q2和Q3分别独立地为单键或2价的连接基团；Y1是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；Z+是有机阳离子(但通式(w－1)表示的离子除外)。
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公开(公告)号：CN102866585A
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN201210243584.6
申请日：2008-12-18
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/00 , C07C309/17 , C07C303/32 , C07C381/12 , C07D493/18 , C07D333/46
摘要： 本发明涉及含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性发生改变的基材成分(A)和通过曝光来产生酸的产酸剂成分(B)的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述产酸剂成分(B)含有由下述通式(b1-1)表示的化合物形成的产酸剂(B1)，式中，RX是可以具有取代基(但氮原子除外)的烃基；Q2和Q3分别独立地为单键或2价的连接基团；Y1是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；Z+是有机阳离子(但下述通式(w-1)表示的离子除外)。
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公开(公告)号：CN101464628B
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN200810185226.8
申请日：2008-12-18
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/028 , G03F7/00 , C07C309/00
摘要： 本发明涉及含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性发生改变的基材成分(A)和通过曝光来产生酸的产酸剂成分(B)的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述产酸剂成分(B)含有由下述通式(b1-1)表示的化合物形成的产酸剂(B1)，RX-Q3-O-Q2-Y1-SO3-Z+ …(b1-1)；式中，RX是可以具有取代基(但氮原子除外)的烃基；Q2和Q3分别独立地为单键或2价的连接基团；Y1是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；Z+是有机阳离子(但下述通式(w-1)表示的离子除外)。
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