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公开(公告)号：CN101133688A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200680007051.0
申请日：2006-02-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/46 , C23C16/511 , H01L21/205 , H01L21/302
CPC classification number: H01J37/32192
Abstract: 本发明是一种微波等离子体处理装置，其包括：收容待处理物体的腔室；将处理气体供应到腔室中的处理气体供应单元；产生微波的微波发生源，该微波用于在腔室中形成处理气体的等离子体；将微波发生源所产生的微波导向腔室的波导单元；由导体材料制成的平面天线，其设置有用于将波导单元所引导的微波向腔室辐射的多个微波辐射孔；由介电材料制成的微波透射板，该微波透射板用作腔室的顶壁并透射已经穿过平面天线的微波辐射孔的微波；以及布置于平面天线的相对于微波透射板的相反侧上的慢波板，该慢波板具有缩短到达平面天线的微波的波长的功能。平面天线和微波透射板彼此接触，在它们之间基本上没有空气，慢波板和微波透射板由相同材料制成，并且由慢波板、平面天线、微波透射板和腔室中形成的处理气体的等离子体形成的等效电路满足谐振条件。
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公开(公告)号：CN113140910B
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202110011263.2
申请日：2021-01-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供能够抑制天线之间的电磁耦合的阵列天线和等离子体处理装置。阵列天线对等离子体处理装置的腔室内辐射电磁波，包括：多个天线；和隔开间隔地配置于多个上述天线之间的多个防耦合元件，多个上述防耦合元件分别包括：在上述腔室内连接于构成接地面的顶壁的第1部件；和连接于上述第1部件的前端或者其附近的第2部件。
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公开(公告)号：CN103258706B
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201310051211.3
申请日：2013-02-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置，其为从多个部位向处理容器内导入微波的方式的等离子体处理装置，分别监视通过多个微波生成的多个等离子体的状态。等离子体处理装置（1）具备将微波导入处理容器（2）内的微波导入装置（5）。微波导入装置（5）具有与顶部（11）的多个开口部嵌合的多个微波透过板（73）。发光传感器（92）分别设于微波导入装置（5）的各天线模块（61）。发光传感器（92）经由微波透过板（73）检测在微波透过板（73）的正下方的处理容器（2）内生成的等离子体的特定波长的发光。检测对象的波长基于通过从彼此相邻的两个微波透过板（73）分别导入的微波生成的两个等离子体的发光强度之比而被选择。
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公开(公告)号：CN112788826B
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN202011154008.5
申请日：2020-10-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/46 , H01L21/3065
Abstract: 本发明提供与多个天线的配置无关地、能够自由地进行等离子体分布控制的等离子体处理装置和等离子体处理方法。等离子体处理装置包括：腔室，其具有对基片实施等离子体处理的处理空间和合成电磁波的合成空间；分隔处理空间和合成空间的电介质窗；天线单元，其具有对合成空间辐射电磁波的多个天线，并作为相控阵天线发挥作用；对天线单元输出电磁波的电磁波输出部；以及使天线单元作为相控阵天线发挥作用的控制部，天线是螺旋形天线。
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公开(公告)号：CN113615322A
公开(公告)日：2021-11-05
申请号：CN202080024028.2
申请日：2020-03-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/46 , H01L21/205 , H01L21/3065
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置中的等离子体处理方法，所述等离子体处理装置包括腔室、用于在所述腔室内载置基片的载置台、用于辐射多个电磁波的多个辐射部、和配置在多个所述辐射部与所述载置台之间的电介质窗，所述等离子体处理方法的特征在于，包括：在所述载置台上准备基片的工序；控制从多个所述辐射部辐射的多个所述电磁波中的至少任一个电磁波的相位的工序；从多个所述辐射部向所述腔室内辐射多个所述电磁波的工序；和利用从被供给到所述电介质窗与所述载置台之间的气体生成的局部等离子体对所述基片进行处理的工序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103258706A
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN201310051211.3
申请日：2013-02-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置，其为从多个部位向处理容器内导入微波的方式的等离子体处理装置，分别监视通过多个微波生成的多个等离子体的状态。等离子体处理装置（1）具备将微波导入处理容器（2）内的微波导入装置（5）。微波导入装置（5）具有与顶部（11）的多个开口部嵌合的多个微波透过板（73）。发光传感器（92）分别设于微波导入装置（5）的各天线模块（61）。发光传感器（92）经由微波透过板（73）检测在微波透过板（73）的正下方的处理容器（2）内生成的等离子体的特定波长的发光。检测对象的波长基于通过从彼此相邻的两个微波透过板（73）分别导入的微波生成的两个等离子体的发光强度之比而被选择。
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公开(公告)号：CN113615322B
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202080024028.2
申请日：2020-03-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/46 , H01L21/205 , H01L21/3065
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置中的等离子体处理方法，所述等离子体处理装置包括腔室、用于在所述腔室内载置基片的载置台、用于辐射多个电磁波的多个辐射部、和配置在多个所述辐射部与所述载置台之间的电介质窗，所述等离子体处理方法的特征在于，包括：在所述载置台上准备基片的工序；控制从多个所述辐射部辐射的多个所述电磁波中的至少任一个电磁波的相位的工序；从多个所述辐射部向所述腔室内辐射多个所述电磁波的工序；和利用从被供给到所述电介质窗与所述载置台之间的气体生成的局部等离子体对所述基片进行处理的工序。
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公开(公告)号：CN113140910A
公开(公告)日：2021-07-20
申请号：CN202110011263.2
申请日：2021-01-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供能够抑制天线之间的电磁耦合的阵列天线和等离子体处理装置。阵列天线对等离子体处理装置的腔室内辐射电磁波，包括：多个天线；和隔开间隔地配置于多个上述天线之间的多个防耦合元件，多个上述防耦合元件分别包括：在上述腔室内连接于构成接地面的顶壁的第1部件；和连接于上述第1部件的前端或者其附近的第2部件。
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公开(公告)号：CN112788826A
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN202011154008.5
申请日：2020-10-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/46 , H01L21/3065
Abstract: 本发明提供与多个天线的配置无关地、能够自由地进行等离子体分布控制的等离子体处理装置和等离子体处理方法。等离子体处理装置包括：腔室，其具有对基片实施等离子体处理的处理空间和合成电磁波的合成空间；分隔处理空间和合成空间的电介质窗；天线单元，其具有对合成空间辐射电磁波的多个天线，并作为相控阵天线发挥作用；对天线单元输出电磁波的电磁波输出部；以及使天线单元作为相控阵天线发挥作用的控制部，天线是螺旋形天线。
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公开(公告)号：CN104472020B
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201380036701.4
申请日：2013-06-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/00 , C23C16/511 , H01L21/304 , H01L21/3065 , H01L21/31 , H05H1/46
CPC classification number: G01R27/06 , G01R27/28 , H01J37/321 , H01J37/32192 , H01J37/32926 , H05H1/46 , H05H2001/463 , H05H2001/4682
Abstract: 等离子体处理装置(1)包括处理容器(2)和具有多个微波导入组件(61)的微波导入装置(5)。向多个微波导入组件(61)中的每个导入微波，基于该微波和从处理容器(2)反射至多个微波导入组件(61)的反射微波，求取多个微波导入组件(61)的每个组合的S参数。
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