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公开(公告)号：CN111684541A
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN201980011654.5
申请日：2019-01-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 一种信息处理装置，包括：记录单元，记录用于对被处理体的变化进行再现的模型数据，模型数据是根据被处理体的开始状态数据与在预定处理条件下对被处理体执行工艺处理后的被处理体的结束状态数据之间的差分数据，作为工艺处理的效果构建而成；输入接受单元，接受被处理体的开始状态数据及作为目标的被处理体的结束状态数据的输入；预测单元，使用记录在记录单元中的模型数据及多个模型数据的组合，对输入接受单元接受的被处理体的开始状态数据的被处理体的结束状态数据进行预测；以及确定单元，基于预测的被处理体的结束状态数据与接受的作为目标的被处理体的结束状态数据之间的接近度，确定对被处理体执行的工艺处理的预定处理条件。
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公开(公告)号：CN117950370A
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN202311390641.8
申请日：2023-10-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G05B19/418
Abstract: 本发明提供能够高精度地预测对被处理体执行了工艺处理后的被处理体的状态的信息处理装置和信息处理方法。信息处理装置包括：构成为生成模拟数据的生成部，其中，模拟数据包含被处理体的处理前数据与在预先决定的处理条件下对被处理体执行了工艺处理后的处理后数据的多个组合，该组合包含按多个掩模形状的每一者以多种图案密度执行了工艺处理时的处理前数据和处理后数据；以及导出部，其构成为基于通过将模拟数据所包含的处理前数据输入到形状模拟器而预测的预测数据与跟该处理前数据组合的处理后数据的接近度，来导出形状模拟器的模拟参数。
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公开(公告)号：CN116670597A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202180086072.0
申请日：2021-12-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G05B13/04
Abstract: 本发明的目的在于提供一种预测控制对象中处理值的变化并利用预测结果的结构。本发明的管理装置，包括：预测模型部，学习了控制对象中的时刻T时的多变量控制值与所述控制对象中的时刻T+ΔT时的多变量处理值的输入输出关系；以及优化模型部，探索将由所述预测模型部输出的时刻T+ΔT时的多变量处理值与对应的目标值之间的各差值最小化的时刻T时的多变量控制值，并利用所探索出的该多变量控制值对所述控制对象进行控制，其中，在存在来自管理所述预测模型部的代理部的请求时，所述预测模型部对以指定的控制值对所述控制对象进行控制的情况下的所述控制对象中的时刻ΔT后的多变量处理值进行预测，并输出至所述代理部。
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公开(公告)号：CN111684541B
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN201980011654.5
申请日：2019-01-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 一种信息处理装置，包括：记录单元，记录用于对被处理体的变化进行再现的模型数据，模型数据是根据被处理体的开始状态数据与在预定处理条件下对被处理体执行工艺处理后的被处理体的结束状态数据之间的差分数据，作为工艺处理的效果构建而成；输入接受单元，接受被处理体的开始状态数据及作为目标的被处理体的结束状态数据的输入；预测单元，使用记录在记录单元中的模型数据及多个模型数据的组合，对输入接受单元接受的被处理体的开始状态数据的被处理体的结束状态数据进行预测；以及确定单元，基于预测的被处理体的结束状态数据与接受的作为目标的被处理体的结束状态数据之间的接近度，确定对被处理体执行的工艺处理的预定处理条件。
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公开(公告)号：CN116507981A
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN202180073627.8
申请日：2021-10-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G05B19/418
Abstract: 本公开提供一种模型管理系统、模型管理方法和模型管理程序，用于对应用于基板制造工艺的模型高效地进行管理。该模型管理系统将应用于基板制造工艺的模型分为三层以上的层级进行管理，包括：第一管理单元，用于在规定的层级对模型进行管理；以及一个以上的第二管理单元，用于在所述规定的层级的下一层层级对模型进行管理，其中，所述第一管理单元具有：计算单元，用于在所述第二管理单元所管理的模型的模型参数被更新了的情况下，基于更新了的各模型参数，计算新的模型参数；和控制单元，用于以对由属于所述第一管理单元的最下层的多个管理单元分别管理的模型，设定所述新的模型参数的方式进行控制。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116941012A
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN202280017209.1
申请日：2022-02-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/02
Abstract: 在基板处理中的处理条件的探索中，收集适当的数据。一种数据收集系统，具有：具有第1处理空间的第1基板处理装置、具有第2处理空间的第2基板处理装置、和与所述第1基板处理装置及第2基板处理装置连接的数据收集装置，具有：修正量计算部，比较通过在相同的处理条件下在所述第1处理空间和第2处理空间中分别处理相同或类似形状的基板而观测到的观测数据，计算出对通过在所述第2处理空间中进行处理而观测到的观测数据进行修正的修正量；和收集部，在通过在所述第2处理空间中改变处理条件来处理基板从而探索处理条件时，基于所述修正量来对通过在所述第2处理空间中进行处理而观测到的观测数据进行修正，并收集修正后的观测数据。
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公开(公告)号：CN116783688A
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202180086058.0
申请日：2021-12-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065
Abstract: 本发明提供一种参数导出装置、参数导出方法和参数导出程序，其使用形状模拟器，导出模拟参数的全局性最佳解。参数导出装置包括：生成部，用于生成表示在相同处理条件下处理的基板的处理前形状的数据和表示处理后形状的数据的多个组合，在所述多个组合中，表示处理前或处理后的任意一者的形状的数据不同于其他组合的表示处理前或处理后的形状的数据；以及导出部，用于导出使表示所预测的处理后的形状的数据与表示对应的处理后的形状的数据的各差分值的总和最小的、形状模拟器的模拟参数的值，所述所预测的处理后的形状是通过将所述多个组合中包含的表示各自处理前的形状的数据输入到所述形状模拟器中来预测的。
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公开(公告)号：CN112640038A
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN201980057338.1
申请日：2019-08-23
Applicant: 首选网络株式会社 , 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , G06N3/02 , H01L21/02 , H01L21/3065
Abstract: 一种用于提高制造工艺的仿真精度的学习装置。该学习装置包括：取得部，取得对象物的图像数据和关于针对所述对象物的处理的数据；以及学习部，向学习模型输入所述对象物的图像数据和关于所述处理的数据，并且以使所述学习模型的输出接近所述处理后的所述对象物的图像数据的方式，使所述学习模型进行学习。
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公开(公告)号：CN112640038B
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN201980057338.1
申请日：2019-08-23
Applicant: 首选网络株式会社 , 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , G06N3/02 , H01L21/02 , H01L21/3065
Abstract: 一种用于提高制造工艺的仿真精度的学习装置。该学习装置包括：取得部，取得对象物的图像数据和关于针对所述对象物的处理的数据；以及学习部，向学习模型输入所述对象物的图像数据和关于所述处理的数据，并且以使所述学习模型的输出接近所述处理后的所述对象物的图像数据的方式，使所述学习模型进行学习。
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公开(公告)号：CN119156688A
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN202380038791.4
申请日：2023-04-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , G05B19/418 , G06N20/00 , H01L21/02
Abstract: 本发明提供模型生成方法、计算机程序以及信息处理装置。由计算机执行如下的处理：获取用于构建工艺配方的多个变量组、表示执行工艺配方的特定步骤之前的被处理体的状态的状态数据、以及表示被处理体的目标状态的目标数据；从多个变量组选择一个变量组，对通过执行由所选择的一个变量组表征的一个步骤而得到的上述被处理体的状态进行评价；以及通过使用获取到的状态数据及目标数据、以及根据所评价的上述被处理体的状态而决定的报酬的强化学习，生成用于工艺配方构建的模型。
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