公开(公告)号：CN107619728B

公开(公告)日：2024-07-16

申请号：CN201710574986.7

申请日：2017-07-14

申请人： 三星显示有限公司 ,  东友精细化工有限公司

发明人： 文英慜 ,  任星淳 ,  文敏浩 ,  黄圭焕 ,  金炳默 ,  金相泰 ,  金祐逸 ,  房淳洪 ,  林大成

IPC分类号： C11D7/26 ,  C11D7/34 ,  C11D7/32 ,  C11D7/60 ,  B08B3/08

摘要： 本发明涉及一种氧化物去除用洗涤组合物及利用该组合物的洗涤方法，所述氧化物去除用洗涤组合物包含：二羧酸化合物、含硫化合物、有机胺化合物以及水。

公开(公告)号：CN107340688B

公开(公告)日：2022-05-06

申请号：CN201710233535.7

申请日：2017-04-11

申请人： 东友精细化工有限公司

发明人： 崔汉永 ,  梁敦植 ,  金相泰 ,  成始震

IPC分类号： G03F7/11

摘要： 本发明提供一种硬掩模用组合物，其通过包含含有选自由特定化学式组成的组中的至少一种重复单元的聚合物和溶剂，从而能够形成具有优异的耐热性、高温耐热性及涂覆均匀性的抗蚀剂下层膜(硬掩模)。更详细而言，所述聚合物包含选自由下述化学式1‑1和化学式1‑2组成的组中的至少一种重复单元，下述化学式1‑1中，Ar1及Ar2各自独立地为碳原子数6～20的芳香族烃基，或者Ar1为氢原子且Ar2为碳原子数1～25的烃基，Ar1和Ar2可彼此连结而形成5～7元环，n为1～3的整数；下述化学式1‑2中，Ar3为4～20的亚芳基。

公开(公告)号：CN107340687B

公开(公告)日：2022-01-25

申请号：CN201710220902.X

申请日：2017-04-06

申请人： 东友精细化工有限公司

发明人： 崔汉永 ,  梁敦植 ,  金相泰 ,  成始震

IPC分类号： G03F7/11

摘要： 本发明涉及硬掩模用组合物，更详细而言，所述硬掩模用组合物通过包含分子内含有两个以上叔醇基的化合物和溶剂，能够形成耐热性优异的下层膜(硬掩模)。

公开(公告)号：CN105274525B

公开(公告)日：2018-04-10

申请号：CN201510342163.2

申请日：2015-06-18

申请人： 东友精细化工有限公司

发明人： 崔汉永 ,  金炫佑 ,  田玹守 ,  赵成培 ,  金相泰

IPC分类号： C23F1/14 ,  C23F1/16 ,  G02F1/1362

摘要： 本文所公开的是一种蚀刻液组合物，包含：金属层氧化剂、氟化合物、螯合剂和余量的水，其中，该螯合剂包含特定的重复单元，并且，基于1g的蚀刻液组合物，螯合剂中包含的重复单元的量为0.6mmol至2mmol；以及一种使用该组合物制造液晶显示器用阵列基板的方法。

公开(公告)号：CN107653451A

公开(公告)日：2018-02-02

申请号：CN201710619431.X

申请日：2017-07-26

申请人： 三星显示有限公司 ,  东友精细化工有限公司

发明人： 郑钟铉 ,  朴弘植 ,  梁熙星 ,  鞠仁说 ,  权玟廷 ,  金相泰 ,  朴英哲 ,  尹暎晋 ,  李钟文 ,  林大成

IPC分类号： C23F1/16 ,  C23F1/02

摘要： 本发明涉及一种蚀刻液组合物及利用到该组合物的金属图案的制造方法。所述蚀刻液组合物包含：过氧化氢；含氟化合物；唑系化合物；含羧基胺系化合物；磷酸系化合物；被C1-C5烷基所取代或未被取代的丙二醇或者被C1-C5烷基所取代或未被取代的丁二醇；以及水。

公开(公告)号：CN107447215A

公开(公告)日：2017-12-08

申请号：CN201710205825.0

申请日：2017-03-31

申请人： 东友精细化工有限公司

发明人： 崔汉永 ,  林大成 ,  金相泰 ,  朴英哲 ,  李根洙 ,  崔容硕

IPC分类号： C23F1/18 ,  G02F1/1333

CPC分类号： C23F1/18 ,  G02F1/1333

摘要： 本发明涉及用于铜基金属膜的蚀刻液组合物和制造包含其的液晶显示装置用阵列基板的方法，更详细地，涉及包含路易斯酸的用于铜基金属膜的蚀刻液组合物和制造包含其的液晶显示装置用阵列基板的方法，该用于铜基金属膜蚀刻液组合物通过包含路易斯酸，能够降低用于铜基金属膜的蚀刻液组合物内的环状胺化合物的蚀刻抑制性能，从而使得随着蚀刻反应的进行而出现的蚀刻抑制剂性能变化最小化。

公开(公告)号：CN107365996A

公开(公告)日：2017-11-21

申请号：CN201710333963.7

申请日：2017-05-12

申请人： 东友精细化工有限公司

发明人： 田玹守 ,  金相泰 ,  林大成 ,  崔容硕

IPC分类号： C23F1/18 ,  G06F3/041

CPC分类号： C23F1/18 ,  G06F3/041 ,  G06F2203/04103

摘要： 本发明涉及铜系金属膜的蚀刻液组合物及其应用。上述铜系金属膜的蚀刻液组合物的特征在于，相对于组合物总重量，包含过氧化氢5～30重量％、含氟化合物0.01～1.0重量％、环状胺化合物0.1～5重量％、磷酸盐化合物0.1～5.0重量％、一个分子内具有氮原子和羧基的水溶性化合物0.1～5重量％、多元醇型表面活性剂0.1～5.0重量％、腐蚀电位调节剂0.5～10.0重量％及余量的水，上述组合物中测定的钼或钼合金腐蚀电位为-0.8V～-0.2V。

公开(公告)号：CN107340687A

公开(公告)日：2017-11-10

申请号：CN201710220902.X

申请日：2017-04-06

申请人： 东友精细化工有限公司

发明人： 崔汉永 ,  梁敦植 ,  金相泰 ,  成始震

IPC分类号： G03F7/11

CPC分类号： G03F7/11

摘要： 本发明涉及硬掩模用组合物，更详细而言，所述硬掩模用组合物通过包含分子内含有两个以上叔醇基的化合物和溶剂，能够形成耐热性优异的下层膜(硬掩模)。

公开(公告)号：CN105274527A

公开(公告)日：2016-01-27

申请号：CN201510354318.4

申请日：2015-06-24

申请人： 东友精细化工有限公司

发明人： 崔汉永 ,  金炫佑 ,  田玹守 ,  赵成培 ,  金相泰 ,  李俊雨

IPC分类号： C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  H01L27/12 ,  H01L21/28

摘要： 本发明公开了一种蚀刻液组合物，包括：金属层氧化剂；氟化物；含氮原子的化合物；磷酸；聚乙二醇；以及余量的水，其中，基于1克上述蚀刻液组合物，聚乙二醇的重复单元的毫摩尔量用于表示环氧乙烷水平，并且蚀刻液组合物的环氧乙烷水平为0.4～2；并且公开了一种使用该组合物制造用于液晶显示器的阵列基板的方法。

公开(公告)号：CN109811345B

公开(公告)日：2023-04-07

申请号：CN201811389335.1

申请日：2018-11-21

申请人： 三星显示有限公司 ,  东友精细化工有限公司

发明人： 朴种熙 ,  金基泰 ,  金真锡 ,  金范洙 ,  金相泰 ,  沈庆辅 ,  南基龙 ,  尹暎晋 ,  林大成

IPC分类号： C23F1/30 ,  C09K13/06 ,  C23F1/16 ,  H10K71/00 ,  H10K50/805 ,  H10K59/12

摘要： 提供一种蚀刻剂和通过利用该蚀刻剂制造显示装置的方法，所述蚀刻剂包括：基于蚀刻剂的总重量，大约1wt％至大约15wt％的硫化过氧化物、大约5wt％至大约10wt％的硝酸、大约20wt％至大约40wt％的有机酸、大约0.05wt％至大约5wt％的硝酸铁、大约0.1wt％至大约5wt％的离子螯合剂以及大约0.1wt％至大约5wt％的缓蚀剂，其中，余量是去离子水。