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公开(公告)号：CN111007586B
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN201911310965.X
申请日：2019-12-18
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种大尺寸纳米周期光栅的制备方法，具体包括以下步骤：建立光路系统；调整激光能量密度，在加工样品表面制备出激光光斑的光栅夹缝结构，并获取光栅夹缝结构内相邻两个激光诱导表面周期性微结构之间的间距d1；通过三维移动平台沿着Y方向多次移动加工样品；通过三维移动平台将加工样品沿着X方向移动设定距离，使加工样品表面制备出的当前激光光斑的光栅夹缝结构与前一激光光斑的光栅夹缝结构之间的结构间距d2与间距d1相等；重复上述步骤，在加工样品表面制备出任意长度和宽度的纳米周期光栅。本发明只需控制激光能量密度和移动平台，就能直接制备大尺寸纳米周期光栅，工艺简单，对环境要求极低，方便实现。
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公开(公告)号：CN112414677A
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN202011245093.6
申请日：2020-11-10
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明涉及到一种高精度测量光学元件体内光斑大小的测试装置，所述测试装置结构上包括有激光器(1)、衰减器(2)、聚焦透镜(3)、平行光管(4)、成像镜头(5)、CCD相机(7)、第一电动位移平台(10)、第二电动位移平台(8)、分划板(9)和计算机(11)，还涉及一种应用所述的测试装置测量光学元件体内光斑大小的方法。本发明的测试装置和测试方法能够精确的计算出待测光学元件内任意位置处的光斑大小，解决了传统测试方法中无法直接测量光学元件任一位置光斑大小以及理论计算精度较低等问题，为光学元件的激光加工、非线性效应以及激光损伤等方面的生产和研究提供了更多的帮助。
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公开(公告)号：CN109374264A
公开(公告)日：2019-02-22
申请号：CN201811590277.9
申请日：2018-12-25
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种光学薄膜缺陷激光损伤阈值的测试方法，该方法中激光束经衰减器后到达光束分束器，光束分束器透射方向的激光束经过聚焦透镜到达金属膜，CCD相机记录激光辐照在金属膜表面的光斑位置和辐照在光学薄膜表面时的激光损伤点坐标，扫描电子显微镜记录激光辐照在光学薄膜中缺陷损伤点纵向深度位置，并完成对缺陷损伤点横向能量密度细分与纵向电场归一化处理相结合分析，从而解决了光学薄膜激光损伤阈值测试中，将激光光斑中随机分布的缺陷损伤点与高斯分布的激光能量密度等效的视作均匀分布，并将激光峰值能量密度作为缺陷损伤能量密度，以及因忽略缺陷损伤点所受光学薄膜电场分布影响所带来的问题。从而提高测试精度。
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公开(公告)号：CN108982072A
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：CN201811040724.3
申请日：2018-09-07
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种光学薄膜缺陷激光损伤阈值的测试系统，该系统包括按光路依次放置的激光器、衰减器、分束器、能量计、光束质量分析仪、聚焦透镜、CCD相机、金属膜、光学薄膜、移动平台、扫描电子显微镜和电脑，激光器发出的激光束，经衰减器后到达光束分束器，光束分束器透射方向的激光束经过聚焦透镜到达金属膜，CCD相机记录激光辐照在金属膜表面的光斑位置和辐照在光学薄膜表面时的激光损伤点坐标，扫描电子显微镜记录激光辐照在光学薄膜中缺陷损伤点纵向深度位置，并完成对缺陷损伤点横向能量密度细分与纵向电场归一化处理相结合分析。本发明解决了以峰值能量密度作为缺陷损伤密度所带来的问题，从而提高测试精度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110618143B
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN201911024331.8
申请日：2019-10-25
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G01N21/958
Abstract: 本发明公开了一种波长分离薄膜缺陷激光损伤阈值的测试方法及系统，该方法以不同波长激光辐照波长分离薄膜的不同损伤机理及损伤形貌作为依据，将缺陷损伤点对应的致损波长激光进行判定，并将缺陷损伤的时间以及二维空间中位于高斯光斑内的坐标进行判断进行能量密度细化分析，结合缺陷损伤点的深度以及两波长激光各自对应的电场，完成对缺陷损伤点在时间与三维空间的能量密度进行细分，有效地解决了国际标准测试法中，无法判定缺陷损伤对应波长激光能量，将高斯光斑内不均匀分布的激光能量密度以及缺陷损伤点等效的看作为均匀分布，并将峰值能量密度作为缺陷损伤能量密度，忽略缺陷损伤的时间以及纵向电场影响所带来的问题，提高了测试精度。
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公开(公告)号：CN111007586A
公开(公告)日：2020-04-14
申请号：CN201911310965.X
申请日：2019-12-18
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种大尺寸纳米周期光栅的制备方法，具体包括以下步骤：建立光路系统；调整激光能量密度，在加工样品表面制备出激光光斑的光栅夹缝结构，并获取光栅夹缝结构内相邻两个激光诱导表面周期性微结构之间的间距d1；通过三维移动平台沿着Y方向多次移动加工样品；通过三维移动平台将加工样品沿着X方向移动设定距离，使加工样品表面制备出的当前激光光斑的光栅夹缝结构与前一激光光斑的光栅夹缝结构之间的结构间距d2与间距d1相等；重复上述步骤，在加工样品表面制备出任意长度和宽度的纳米周期光栅。本发明只需控制激光能量密度和移动平台，就能直接制备大尺寸纳米周期光栅，工艺简单，对环境要求极低，方便实现。
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公开(公告)号：CN110618143A
公开(公告)日：2019-12-27
申请号：CN201911024331.8
申请日：2019-10-25
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G01N21/958
Abstract: 本发明公开了一种波长分离薄膜缺陷激光损伤阈值的测试方法及系统，该方法以不同波长激光辐照波长分离薄膜的不同损伤机理及损伤形貌作为依据，将缺陷损伤点对应的致损波长激光进行判定，并将缺陷损伤的时间以及二维空间中位于高斯光斑内的坐标进行判断进行能量密度细化分析，结合缺陷损伤点的深度以及两波长激光各自对应的电场，完成对缺陷损伤点在时间与三维空间的能量密度进行细分，有效地解决了国际标准测试法中，无法判定缺陷损伤对应波长激光能量，将高斯光斑内不均匀分布的激光能量密度以及缺陷损伤点等效的看作为均匀分布，并将峰值能量密度作为缺陷损伤能量密度，忽略缺陷损伤的时间以及纵向电场影响所带来的问题，提高了测试精度。
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公开(公告)号：CN112414677B
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202011245093.6
申请日：2020-11-10
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明涉及到一种高精度测量光学元件体内光斑大小的测试装置，所述测试装置结构上包括有激光器(1)、衰减器(2)、聚焦透镜(3)、平行光管(4)、成像镜头(5)、CCD相机(7)、第一电动位移平台(10)、第二电动位移平台(8)、分划板(9)和计算机(11)，还涉及一种应用所述的测试装置测量光学元件体内光斑大小的方法。本发明的测试装置和测试方法能够精确的计算出待测光学元件内任意位置处的光斑大小，解决了传统测试方法中无法直接测量光学元件任一位置光斑大小以及理论计算精度较低等问题，为光学元件的激光加工、非线性效应以及激光损伤等方面的生产和研究提供了更多的帮助。
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公开(公告)号：CN109374264B
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN201811590277.9
申请日：2018-12-25
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种光学薄膜缺陷激光损伤阈值的测试方法，该方法中激光束经衰减器后到达光束分束器，光束分束器透射方向的激光束经过聚焦透镜到达金属膜，CCD相机记录激光辐照在金属膜表面的光斑位置和辐照在光学薄膜表面时的激光损伤点坐标，扫描电子显微镜记录激光辐照在光学薄膜中缺陷损伤点纵向深度位置，并完成对缺陷损伤点横向能量密度细分与纵向电场归一化处理相结合分析，从而解决了光学薄膜激光损伤阈值测试中，将激光光斑中随机分布的缺陷损伤点与高斯分布的激光能量密度等效的视作均匀分布，并将激光峰值能量密度作为缺陷损伤能量密度，以及因忽略缺陷损伤点所受光学薄膜电场分布影响所带来的问题。从而提高测试精度。
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