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公开(公告)号：CN105568238B
公开(公告)日：2020-11-13
申请号：CN201511020165.6
申请日：2015-12-30
申请人： 中国建材国际工程集团有限公司
IPC分类号： C23C14/35 , C23C14/06 , C23C14/08 , C23C14/02 , F24S70/225
摘要： 一种具有太阳能选择性吸收薄膜膜系的制备方法，包括如下步骤：(1)采用氢氟酸和TMAH混合后的复合溶液对金属基片进行喷淋(2)清洗金属基片，后用高压N2吹干；(3)采用磁控溅射技术在所述金属基片表面微结构上沉积的TiN高金属填充因子层、TiNxOy低金属填充因子层、TiO2、AlN和SiO2组成的减反层，从而得到太阳能选择性吸收膜系。本发明采用氢氟酸和TMAH混合后的复合溶液对金属基片表面进行喷淋处理，获得微结构的金属基片，然后在金属基片上以磁控溅射技术沉积TiN高金属填充因子层、TiNxOy低金属填充因子层、TiO2，AlN和Al2O3减反层，从而得到具有高吸收率、低发射率太阳能选择性吸收膜系，提高了太阳能光热转换的效率。
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公开(公告)号：CN107527959A
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：CN201611188632.0
申请日：2016-12-21
申请人： 蚌埠玻璃工业设计研究院 , 中国建材国际工程集团有限公司
IPC分类号： H01L31/0224 , H01L31/0445
CPC分类号： Y02E10/50 , H01L31/022425 , H01L31/022483 , H01L31/0445
摘要： 本发明公开一种多层自带绒面的AZO薄膜，包括依次叠加的底层AZO薄膜、中间层AZO薄膜与顶层AZO薄膜，各层AZO薄膜的晶粒尺寸由下至上依次增加，每层AZO薄膜的表面均呈凹凸结构，各层AZO薄膜的表面粗糙度由下至上依次增加；将不同晶粒尺寸的AZO薄膜叠加，且由下至上晶粒尺寸逐渐变大，每一层AZO薄膜表面都带有凹凸结构，从而得到多层绒面结构的AZO薄膜，使得太阳光在入射以后，形成对光的折射和散射，把入射到薄膜中的光分散到各个角度，从而提高入射光在电池中的光程，增加光的吸收，增大电子空穴的形成几率。
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公开(公告)号：CN106784089A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201611188428.9
申请日：2016-12-21
申请人： 蚌埠玻璃工业设计研究院 , 中国建材国际工程集团有限公司
IPC分类号： H01L31/048 , H01L31/0236
CPC分类号： Y02E10/50 , H01L31/048 , H01L31/0236
摘要： 本发明公开一种自陷光ZnO基透明导电玻璃的制备方法，包括以下步骤：S1、采用磁控溅射工艺，在玻璃衬底表面溅射生长下ZnO基薄膜；S2、采用液相法，在下ZnO基薄膜表面制备单层离散分布的SiO2小球模板层；S3、采用磁控溅射工艺，在SiO2小球模板层上溅射生长上ZnO基薄膜，上ZnO基薄膜的厚度小于SiO2小球的直径，得到表面形貌呈凹凸织构化结构的自陷光ZnO基透明导电玻璃；结合磁控溅射与液相法镀膜的固有优点，在制备时，SiO2小球表面微结构可根据需要进行调整，使得上ZnO基薄膜的表面微结构容易控制，形成均匀性优良的表面微结构，实现高透过率、低电阻，制备工艺简单，降低成本，利于推广应用。
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公开(公告)号：CN106756846A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201611188594.9
申请日：2016-12-21
申请人： 蚌埠玻璃工业设计研究院 , 中国建材国际工程集团有限公司
CPC分类号： C23C14/352 , C23C14/0605
摘要： 本发明公开了一种共掺杂DLC薄膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：（1）将分别经过丙酮、酒精、去离子水等严格清洗的玻璃衬底置于载物台上，载物台正对钨W、石墨C两靶材的焦点处。（2）W、C两靶材都分别成45°倾斜，都对准衬底。（3）氩离子轰击靶材，达到去除靶材表面杂质和活化靶材的作用。（4）通入氩气，使两靶材同时起辉，通过分别改变每个靶材的参数，达到制备高性能的W掺杂类金刚石薄膜。本发明通过改变每个靶材的工艺参数，可以根据实际需要制备不同掺杂量和不同性能的W掺杂DLC薄膜。
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公开(公告)号：CN106582764A
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201611188587.9
申请日：2016-12-21
申请人： 蚌埠玻璃工业设计研究院 , 中国建材国际工程集团有限公司
CPC分类号： B01J27/24 , B01J35/004 , B01J35/1004 , B01J37/34
摘要： 一种增大比表面积的氮掺杂二氧化钛薄膜的制备方法，包括如下步骤：（1）采用氢氟酸和TMAH混合后的复合溶液对玻璃基片进行喷淋（2）清洗玻璃基片，后用高压N2吹干；（3）采用磁控溅射技术在所述玻璃基片表面微结构上沉积氮掺杂二氧化钛薄膜，从而得到具有更大比表面积的氮掺杂二氧化钛薄膜。本发明采用氢氟酸和TMAH混合后的复合溶液对玻璃基片表面进行喷淋处理，获得微结构的玻璃基片，然后在玻璃基片上以磁控溅射技术沉积氮掺杂二氧化钛薄膜，从而得到具有更大比表面积的薄膜，提高了薄膜光催化的效率。
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公开(公告)号：CN106591789B
公开(公告)日：2019-03-12
申请号：CN201611188145.4
申请日：2016-12-21
申请人： 蚌埠玻璃工业设计研究院 , 中国建材国际工程集团有限公司 , 安徽省包装印刷产品质量监督检验中心
摘要： 本发明公开一种直接制备绒面AZO薄膜的方法，包括采用直流磁控溅射工艺，将玻璃衬底加热至300℃后，在玻璃衬底上溅射厚度为180～220nm的底层AZO薄膜；关闭磁控溅射装置，使玻璃衬底冷却至室温；将玻璃衬底由室温加热至300℃后，在底层AZO薄膜上溅射厚度为180～220nm的中间层AZO薄膜；关闭磁控溅射装置，使玻璃衬底冷却至室温；将玻璃衬底由室温加热至300℃后，在中间层AZO薄膜上溅射厚度为180～220nm的顶层AZO薄膜，最终得到层叠的绒面AZO薄膜；在反复的冷却和加热过程中，晶粒尺寸大幅度增加，使得每层AZO薄膜表面都呈凹凸结构，三层叠加后，得到具有绒面织构的AZO薄膜；本发明舍弃了传统的蚀刻方式，能够避免薄膜材料的消耗，节省生产成本，并且保证薄膜质量。
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公开(公告)号：CN107099771A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201611233868.1
申请日：2016-12-28
申请人： 中国建材国际工程集团有限公司
CPC分类号： C23C14/086 , C23C14/3464 , C23C28/048
摘要： 一种多层AZO薄膜的制备方法，包括如下步骤：使用第一Al掺杂浓度的AZO靶材溅射生长一层AZO薄膜；使用第二Al掺杂浓度的AZO靶材溅射生长一层AZO薄膜；使用第三Al掺杂浓度的AZO靶材溅射生长一层AZO薄膜。所述第一Al掺杂浓度，所述第二Al掺杂浓度，和所述第三Al掺杂浓度不相同。根据本发明的制备方法，使用三种不同Al掺杂浓度的AZO靶材，射频与直流激励同时作用于AZO靶材，将较高成膜速率与较高等离子体密度结合在一起，促进沉积原子的表面扩散，获得致密、晶粒大、缺陷少、晶态质量高的AZO晶体结构，更可控地在较低温度下制备电阻率在10‑4Ωcm级的多层透光AZO薄膜。
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公开(公告)号：CN106853706A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：CN201611188231.5
申请日：2016-12-21
申请人： 蚌埠玻璃工业设计研究院 , 中国建材国际工程集团有限公司
CPC分类号： B32B9/04 , B32B33/00 , B32B2264/102 , B32B2307/304 , B32B2307/412 , B32B2307/416 , B32B2307/418 , B32B2419/00 , B32B2605/08 , B60J1/20
摘要： 本发明公开一种高透过高反射隔热膜，所述隔热膜包括由下至上依次层叠第一高折射率膜层、第一低折射率膜层、第二高折射率膜层、第二低折射率膜层、第三高折射率膜层、第三低折射率膜层、第四高折射率膜层、第四低折射率膜层、第五高折射率膜层与减反增透膜层；所有高折射率膜层的厚度为100～150nm，折射率为2.1～2.4；所有低折射率膜层的厚度为180～250nm，折射率为1.3～1.5nm；减反增透膜层厚度为150～500nm；采用九层高低折射率不同的膜层依次交错层叠形成红外反射层，提高了近红外反射率，再复合减反增透层构成隔热膜，提高整体膜层的透过率，所有膜层没有采用任何金属镀层，有效的解决了手机信号屏蔽现象。
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公开(公告)号：CN106637080A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201611188592.X
申请日：2016-12-21
申请人： 蚌埠玻璃工业设计研究院 , 中国建材国际工程集团有限公司
CPC分类号： C23C14/083 , C23C14/022 , C23C14/35
摘要： 一种自清洁用氮掺杂二氧化钛薄膜的制备方法，包括如下步骤：（1）清洗玻璃基片，后用高压N2吹干；（2）采用反应离子束技术对所述玻璃基片表面进行刻蚀，使所述玻璃基片表面具有凹凸不平的微结构；（3）采用磁控溅射技术在所述玻璃基片表面的微结构上沉积氮掺杂二氧化钛薄膜，从而得到具有光催化作用的薄膜。本发明采用反应离子束技术对玻璃基片表面进行刻蚀，使玻璃基片表面具有凹凸不平的微结构，然后在玻璃基片表面上运用磁控溅射技术沉积氮掺杂二氧化钛薄膜，从而得到具有更大的比表面积的薄膜，提高了薄膜光催化的效率。
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公开(公告)号：CN106587655A
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201611188163.2
申请日：2017-01-23
申请人： 蚌埠玻璃工业设计研究院 , 中国建材国际工程集团有限公司
CPC分类号： C03C17/3417 , C03C2217/73 , C03C2217/94 , G06F3/041
摘要： 本发明公开消影增透导电玻璃，包括玻璃基板，玻璃基板顶面由下至上依次层叠有上TiO2膜层、上SiO2膜层与ITO膜层，ITO膜层蚀刻有电极图案；玻璃基板底面由上至下依次层叠有第一下TiO2膜层、第一下SiO2膜层、第二下TiO2膜层与第二下SiO2膜层；所述上TiO2膜层的厚度为5～10nm、上SiO2膜层的厚度为40～60nm、ITO膜层的厚度为20～40nm；所述第一下TiO2膜层的厚度为12～18nm、第一下SiO2膜层的厚度为25～35nm、第二下TiO2膜层的厚度为95～135nm、第二下SiO2膜层的厚度为70～100nm；利用折射率不同的上TiO2膜层与上SiO2膜层起到消影作用，玻璃基板底部交错的四层介质层起到减反増透的效果，并由各膜层厚度的配合，提高产品的透过率，减少反射率，降低面电阻，使得触摸屏在强光下也可以清晰的显示。
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