一种真空共晶工艺中钎缝尺寸的控制方法

    公开(公告)号:CN115055772A

    公开(公告)日:2022-09-16

    申请号:CN202210441128.6

    申请日:2022-04-25

    IPC分类号: B23K1/00 B23K1/008 B23K1/20

    摘要: 本发明公开了一种真空共晶工艺中钎缝尺寸的控制方法,该方法包括将成型的金属引线设置于共晶基板的共晶区域;将共晶钎料放置于共晶基板的共晶区域,压覆金属引线;将共晶模组放置于共晶基板的共晶区域,压覆共晶钎料;在共晶模组上放置配重块,并将共晶基板放入真空共晶炉;在预设共晶加热曲线下执行真空共晶,以使共晶钎料在真空共晶炉内溶化后,共晶模组与金属引线形成标准的钎缝。本发明通过在共晶时将引线放入共晶区域来限制钎缝的尺寸,然后通过增加原有的压力,以使钎料在共晶炉中溶化后,芯片或者模组压住引线,形成一个标准的钎缝,进而钎料在标准缝隙里润湿达到良好的共晶效果,解决共晶压力与钎料张力难平衡的问题。