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公开(公告)号：CN110596001A
公开(公告)日：2019-12-20
申请号：CN201910866123.6
申请日：2019-09-12
申请人： 中国电子科技集团公司第二十六研究所
IPC分类号： G01N21/01
摘要： 本发明涉及分光光度计透过率测试领域，特别涉及一种用于分光光度计透过率测试的夹具以及夹具的使用方法；所述夹具包括底座、高度调节台、光栏三部分；底座为L形结构，底座的后部结构由两个向上突起的长方体夹块构成，这两个夹块分别为前夹块和后夹块，前夹块的外侧平面上设置有长方体凸起结构，底座平面上有两个柱体；光栏为长方体结构，光栏的中间位置设置有光栏孔；高度调节台为长方体结构，高度调节台的侧面有一个长方体凹槽，且在高度调节台中设置有连个小孔；底座和光栏的固定方式为卡扣式固定；底座与高度调节台的连接方式为卡扣式连接；通过使用夹具，节约使用分光光度计的时间，优化测试的整个过程。
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公开(公告)号：CN110133940B
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN201910417069.7
申请日：2019-05-20
申请人： 中国电子科技集团公司第二十六研究所
IPC分类号： G02F1/33
摘要： 本发明涉及光学器件技术领域，尤其是用于激光扫描的声光偏转器，具体为一种提高激光扫描角度的声光偏转器装置。所述声光偏转器装置包括N级声光偏转器组件；所述N级声光偏转器组件包括外壳，在外壳上设置有安装板，在安装板上安装有顺次连接的N个声光偏转器、N‑1个声光调制器以及1个光纤准直器；本发明通过将声光偏转器进行级联，成倍提高了激光的扫描角度，能满足大角度、高精度和快速扫描的要求。
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公开(公告)号：CN110596001B
公开(公告)日：2022-03-22
申请号：CN201910866123.6
申请日：2019-09-12
申请人： 中国电子科技集团公司第二十六研究所
IPC分类号： G01N21/01
摘要： 本发明涉及分光光度计透过率测试领域，特别涉及一种用于分光光度计透过率测试的夹具以及夹具的使用方法；所述夹具包括底座、高度调节台、光栏三部分；底座为L形结构，底座的后部结构由两个向上突起的长方体夹块构成，这两个夹块分别为前夹块和后夹块，前夹块的外侧平面上设置有长方体凸起结构，底座平面上有两个柱体；光栏为长方体结构，光栏的中间位置设置有光栏孔；高度调节台为长方体结构，高度调节台的侧面有一个长方体凹槽，且在高度调节台中设置有连个小孔；底座和光栏的固定方式为卡扣式固定；底座与高度调节台的连接方式为卡扣式连接；通过使用夹具，节约使用分光光度计的时间，优化测试的整个过程。
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公开(公告)号：CN110685008A
公开(公告)日：2020-01-14
申请号：CN201911116671.3
申请日：2019-11-15
申请人： 中国电子科技集团公司第二十六研究所
摘要： 本发明属于晶体生长技术领域，为一种稳定提拉法晶体生长界面的控制装置和方法；方法包括实时测量晶体生长的重量，将测量的晶体重量与其理论重量作差，根据两者的差值采用PID控制算法控制晶体生长所需的加热功率；实时测量料棒的重量，并将测量得到的晶体重量与料棒重量之和作为整体重量，根据整体重量与其初始重量的差值，采用PID控制算法控制料棒下降速度；采用CCD旋转装置对CCD光学放大装置进行旋转，光学放大装置实时测量晶体基准线灰度值对应的位置与测量基准线中线的距离，根据该距离与其初始距离的差值采用PID控制算法控制晶体旋转速度；本发明能维持晶体生长界面的稳定，保证晶体外形符合设定尺寸要求。
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公开(公告)号：CN107186606B
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：CN201710613270.3
申请日：2017-07-25
申请人： 中国电子科技集团公司第二十六研究所
摘要： 本发明公开了一种双面抛光机浆料循环系统，包括内外齿圈和环状的上下磨盘，在下磨盘的内圆周面上固定有一块水平环状的内挡水圈，内挡水圈内边沿设有一圈向上的内挡水板，内挡水板上端高度大于下磨盘上放置游星轮后的高度；在内齿圈下表面设有一圈与内挡水板对应的内沟槽，内挡水板伸入内沟槽内，且内挡水板和内沟槽之间具有互不影响转动的间隙；内挡水圈、内挡水板和下磨盘内圆周面形成横截面为U型且开口向上的环形内接料槽。同样地，在下磨盘的外圆周面上固定有外挡水圈、外挡水板结构。本浆料循环系统结构简单，大大减少抛光料使用量，工件碎屑等杂质易清洗。
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公开(公告)号：CN102122940A
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：CN201110051215.2
申请日：2011-03-03
申请人： 中国电子科技集团公司第二十六研究所
摘要： 本发明公开了一种预设空腔型SOI基片薄膜体声波谐振器及制作方法，涉及微电子器件领域，包括带空腔SOI基片和设置其上的压电薄膜换能器，谐振器包括压电薄膜、底电极和顶电极，谐振器电极近似椭圆形；所述带空腔SOI基片中的衬底硅片表面设置沟槽，键合后衬底硅片与顶层硅形成封闭的空腔结构；由于采用预设的空腔结构，本发明无牺牲层，无需国外专利及其产品中处理牺牲层采用的化学机械抛光工艺和牺牲层释放工艺，同时本发明综合了SOI材料所具有的源、漏寄生电容小和低电压低功耗等优点，本发明能与IC兼容，易于集成，工艺简单，适合批量生产。
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公开(公告)号：CN110133940A
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201910417069.7
申请日：2019-05-20
申请人： 中国电子科技集团公司第二十六研究所
IPC分类号： G02F1/33
摘要： 本发明涉及光学器件技术领域，尤其是用于激光扫描的声光偏转器，具体为一种提高激光扫描角度的声光偏转器装置。所述声光偏转器装置包括N级声光偏转器组件；所述N级声光偏转器组件包括外壳，在外壳上设置有安装板，在安装板上安装有顺次连接的N个声光偏转器、N-1个声光调制器以及1个光纤准直器；本发明通过将声光偏转器进行级联，成倍提高了激光的扫描角度，能满足大角度、高精度和快速扫描的要求。
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公开(公告)号：CN107186606A
公开(公告)日：2017-09-22
申请号：CN201710613270.3
申请日：2017-07-25
申请人： 中国电子科技集团公司第二十六研究所
CPC分类号： B24B29/06 , B24B13/0018 , B24B13/01 , B24B41/00 , B24B41/06
摘要： 本发明公开了一种双面抛光机浆料循环系统，包括内外齿圈和环状的上下磨盘，在下磨盘的内圆周面上固定有一块水平环状的内挡水圈，内挡水圈内边沿设有一圈向上的内挡水板，内挡水板上端高度大于下磨盘上放置游星轮后的高度；在内齿圈下表面设有一圈与内挡水板对应的内沟槽，内挡水板伸入内沟槽内，且内挡水板和内沟槽之间具有互不影响转动的间隙；内挡水圈、内挡水板和下磨盘内圆周面形成横截面为U型且开口向上的环形内接料槽。同样地，在下磨盘的外圆周面上固定有外挡水圈、外挡水板结构。本浆料循环系统结构简单，大大减少抛光料使用量，工件碎屑等杂质易清洗。
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公开(公告)号：CN117468842A
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202311201197.0
申请日：2023-09-18
申请人： 中国电子科技集团公司第二十六研究所 , 敦煌研究院 , 重庆声光电智联电子有限公司
IPC分类号： E06B5/10 , E06B5/16 , E06B3/36 , E06B3/70 , E06B7/28 , E06B7/086 , E06B1/52 , E06B1/12 , E06B1/60 , E06B1/58 , F04D27/00 , E05B49/00 , E05B47/00 , E05B45/06 , E05B5/00 , E05B17/22 , G08B13/24 , G07C9/37 , G08B21/24 , G01D21/02
摘要： 本发明提供了一种石窟寺智能防护门，本发明涉及防护门技术领域，石窟寺智能防护门，包括门框和安装于门框内的门板；门板包括外门板和内门板，外门板安装于内门板外侧，且门板上设置有环境监测部件、空气调节部件、入侵报警部件以及控制模块；内门板内侧上下方均开有通风口，环境监测部件、空气调节部件和控制模块均安装于下方的通风口内；外门板外侧上下方均开有若干个风孔，风孔与相近的通风口互通，外门板外侧上下方均开有若干个风孔，风孔与相近的通风口互通；本发明的有益效果在于：抗温差、抗压和抗腐蚀能力强，可实现洞窟内文物的预防性保护，提升了防护门的安防等级，同时降低了人工巡查成本。
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公开(公告)号：CN107088793A
公开(公告)日：2017-08-25
申请号：CN201710439933.4
申请日：2017-06-12
申请人： 中国电子科技集团公司第二十六研究所
摘要： 本发明公开了一种声表面波器件单面抛光衬底片制备方法，依次包括如下步骤，毛坯晶片腐蚀；毛坯晶片打毛；打毛后的晶片再腐蚀；晶片非加工面粘接；抛光面细磨、精磨；晶片分离并腐蚀；倒角；两晶片非抛光面粘接；抛光面粗抛；CMP精抛；工件分离并清洗。其中晶片粘接采用水溶性粘接剂，由阿拉伯树胶、纯水、铝矾和甘油构成。同时在打磨和抛光环节同时进行两面的打磨和抛光。本发明通过工艺改进，产品良品率达到95%以上，具有产品指标一致性好、技术指标高、加工效率高、生产成本低、工艺易实现和易监控等特点，能够满足产业化大规模批生产的要求。
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