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公开(公告)号：CN103978684B
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201410181363.X
申请日：2014-04-30
Applicant: 中国科学院化学研究所 , 中国科学院半导体研究所
IPC: B29C67/00
Abstract: 本发明提供一种可以实现温度控制的高分子材料的3D打印方法，该打印方法由打印设备来执行，其中设备包括一个工作台(3)，工作台(3)包括能在高度方向上往复运动的建造台(5)和其上铺洒待打印的高分子材料所形成的粉床(4)；一个激光加工头(1)，其用于向高分子材料释放射线从而使材料发生熔化；一台主控制系统(6)，其中存储关于三维产品相继分层的横截面的信息；一个用于监测粉床(4)上表面温度分布的红外温度探测器(2)以及接收并处理探测器中的温度信号的信号处理装置(7)，信号处理装置(7)连接到主控制系统(6)。使用该方法实现了对高分子材料3D打印的温度控制，解决了由于高分子材料导热系数低、热积累多而引起的温度变化与材料分解问题，获得了高质量的高分子材料3D打印成型工件。
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公开(公告)号：CN103753021A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201410022690.0
申请日：2014-01-17
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: B23K26/21
CPC classification number: B23K26/24 , B23K26/32 , B23K26/60 , B23K33/00 , B23K2103/08
Abstract: 一种紫铜与黄铜的激光焊接方法，包括如下步骤：步骤1：对待焊接的紫铜与黄铜进行清洗；步骤2：将待焊接的黄铜的焊接部位加工一焊口；步骤3：将待焊接的黄铜与紫铜在焊口处对接固定；步骤4：在黄铜的焊口处通过激光熔覆方法涂敷一层中间材料；步骤5：在中间材料的部位将紫铜黄铜与实施激光焊接；步骤6：自然冷却，完成制备。本发明具有黄铜与紫铜连接效率高、连接质量好的优点。
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公开(公告)号：CN103334104A
公开(公告)日：2013-10-02
申请号：CN201310288716.1
申请日：2013-07-10
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 本发明公开了一种获得低稀释率涂层的激光熔覆方法，该方法是采用高斯分布或近似高斯分布的激光束进行激光熔覆，采用负离焦方式，激光束焦平面位于工件表面下方；利用高斯分布或近似高斯分布的激光束在传播路径上光束截面能量密度分布的特点，采用负离焦方式进行激光熔覆，激光熔覆过程中控制负离焦量在4mm～50mm范围内；最终获得稀释率极低，且与工件良好冶金结合的激光熔覆涂层。
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公开(公告)号：CN105134452B
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：CN201510520760.X
申请日：2015-08-24
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: F02P23/04
Abstract: 本发明提供一种采用连续、脉冲双模式激光，以靶部击穿方式产生等离子火花，从而进行点火的装置及方法。其中，装置主要具备脉冲激光发射端、连续激光发射端、燃料喷射装置、靶部、燃烧室、汽缸盖、活塞等，且激光发射端不伸入燃烧室内。根据本发明采用连续、脉冲双模式激光靶部击穿方式下的点火装置及方法，始终能够可靠地产生等离子火花对燃烧室内的燃料空气混合物进行点火，并且能够有效提高点火速度，降低点火调整难度、增加点火可靠性，增大燃烧面积、提高燃烧效率、节省燃料。
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公开(公告)号：CN103752818B
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201410027410.5
申请日：2014-01-21
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 本发明公开了一种用于激光熔覆的含有高铬含量的铁基复合粉末，该铁基复合粉末是由Cr3C2、Cr和Fe的化合物，以及Ni、Mo、Si和B元素构成。该铁基复合粉末中各元素的质量百分比为：Cr：38～40％；C：4.2～4.5％；Ni：3～5％；Mo：0.05～0.08％；Si：0.8～1.02％；B：1.2～1.78％；其余为Fe。该铁基复合粉末的粒度介于+140目～-325目之间。该粉末含有较高含量的C、Cr元素，可有效的提高涂层的硬度，可满足和适用于碳钢、不锈钢等铁基基材的激光熔覆工艺要求，其样品熔覆层无裂纹、无宏观气孔、成分分布均匀，硬度可达到HV0.21000，是基体硬度的5倍，且高Cr含量提高了铁基复合粉末熔覆层的耐腐蚀性，可用于常温和高温耐磨和耐腐蚀的工作条件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105215007A
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201510628659.6
申请日：2015-09-28
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: B08B7/00
Abstract: 一种物体表面污染物清洗用的光路系统，包括：一激光器，其发出圆形光斑；一方形光斑整形器，该方形光斑整形器将圆形光斑变换成发散的方形光斑；一第一、第二透镜，其依序位于激光器的输出光路上，该第一柱透镜用于将方形光斑的一边长a方向进行准直，该第二透镜用于将方形光斑另一边长b方向进行准直；一第一、第二扫描镜，其依序位于激光器的输出光路上，该第一、第二扫描振镜用于控制清洗用扫描光斑摆动位置，控制清洗；一聚焦场镜，其位于第二扫描镜的光路上，该聚焦场镜用于将平行长方形光斑聚焦形成尺寸为百微米级的清洗用长方形光斑。本发明可实现聚焦方形光斑两边长方向不同尺寸调节，长方形聚焦光斑清洗可在减少重叠率的基础上，消除清洗盲区，提高清洗质量及清洗效率。
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公开(公告)号：CN103752818A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201410027410.5
申请日：2014-01-21
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 本发明公开了一种用于激光熔覆的含有高铬含量的铁基复合粉末，该铁基复合粉末是由Cr3C2、Cr和Fe的化合物，以及Ni、Mo、Si和B元素构成。该铁基复合粉末中各元素的质量百分比为：Cr：38～40％；C：4.2～4.5％；Ni：3～5％；Mo：0.05～0.08％；Si：0.8～1.02％；B：1.2～1.78％；其余为Fe。该铁基复合粉末的粒度介于+140目～-325目之间。该粉末含有较高含量的C、Cr元素，可有效的提高涂层的硬度，可满足和适用于碳钢、不锈钢等铁基基材的激光熔覆工艺要求，其样品熔覆层无裂纹、无宏观气孔、成分分布均匀，硬度可达到HV0.21000，是基体硬度的5倍，且高Cr含量提高了铁基复合粉末熔覆层的耐腐蚀性，可用于常温和高温耐磨和耐腐蚀的工作条件。
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公开(公告)号：CN103695901A
公开(公告)日：2014-04-02
申请号：CN201310741495.9
申请日：2013-12-27
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: C23C24/10
Abstract: 本发明提供了一种消除多道激光熔覆搭接孔洞的方法。该方法通过激光功率密度与单道熔覆层宽高比关系，确定最优单道熔覆层宽高比；根据工艺参数与单道熔覆层宽高比关系式，可以计算确定所采用的工艺参数，以及搭接间距，以消除多道激光熔覆的搭接孔洞。本发明消除多道激光熔覆搭接孔洞方法不仅可以消除熔覆层中的搭接孔洞，还可以降低熔覆层开裂敏感性，提高熔覆层寿命。
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公开(公告)号：CN105134453B
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201510520845.8
申请日：2015-08-24
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: F02P23/04
Abstract: 本发明提供一种采用连续、脉冲双模式激光，以气体击穿方式产生等离子火花，从而进行点火的装置及方法。其中，装备主要具备连续激光发射端、脉冲激光发射端、燃料喷射装置、汽缸盖、燃烧室、活塞等，且激光发射端不伸入燃烧室内。根据本发明采用连续、脉冲双模式激光气体击穿方式下的点火装置及方法，始终能够可靠地产生等离子火花对燃烧室内的燃料空气混合物进行点火，并且能够有效增加点火路径/范围、提高点火速度，增大燃烧面积、提高燃烧效率、节省燃料。
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公开(公告)号：CN103753021B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201410022690.0
申请日：2014-01-17
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: B23K26/21
Abstract: 一种紫铜与黄铜的激光焊接方法，包括如下步骤：步骤1：对待焊接的紫铜与黄铜进行清洗；步骤2：将待焊接的黄铜的焊接部位加工一焊口；步骤3：将待焊接的黄铜与紫铜在焊口处对接固定；步骤4：在黄铜的焊口处通过激光熔覆方法涂敷一层中间材料；步骤5：在中间材料的部位将紫铜黄铜与实施激光焊接；步骤6：自然冷却，完成制备。本发明具有黄铜与紫铜连接效率高、连接质量好的优点。
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