一种原位表征纳米线的方法

    公开(公告)号:CN102539462B

    公开(公告)日:2014-04-16

    申请号:CN201110356193.0

    申请日:2011-11-11

    IPC分类号: G01N23/22

    摘要: 本发明提供了一种采用SEM-CL和TEM的原位表征方法,包括步骤:1)提供一微栅;2)在微栅的表面形成一导电层;3)将纳米线置于所述导电层表面,并采用粘合剂将所纳米线固定在导电层表面;4)采用扫描电子显微镜选择一单根纳米线,拍摄其具体形貌并记录其尺寸;5)采用阴极荧光测试装置记录所述单根纳米线不同位置的发光性质,并利用阴极荧光测试装置的线扫描功能在所述单根纳米线上标定一第二标记;6)采用透射电子显微镜记录所述单根纳米线上的第二标记处的结构信息。本发明利用特殊的精细的制样和测试方法,将TEM获得的结构信息与SEM-CL获得发光性质直接联系起来,构建材料纳米结构和材料发光性质间的桥梁。

    一种等离子激元增益波导

    公开(公告)号:CN102662210A

    公开(公告)日:2012-09-12

    申请号:CN201210061093.X

    申请日:2012-03-09

    IPC分类号: G02B6/122 G02B6/10

    摘要: 本发明涉及光波导技术领域。本发明提供一种等离子激元增益波导,包括基底层、介质层、隔离层和增益波导,所述介质层置于基底层的裸露表面,所述隔离层介于所述介质层和所述增益波导之间,所述增益波导靠近所述介质层的一端为楔形且尖端朝向所述介质层,所述增益波导的折射率大于所述隔离层的折射率。本发明优点在于,在增益波导靠近介质层一端为楔形结构,固定楔形结构的顶端和金属的距离,保留低折射率的隔离层,可以通过调节楔形顶角的角度改善增益波导和金属的等离子激元耦合。

    一种生长纳米柱阵列的方法

    公开(公告)号:CN102583236A

    公开(公告)日:2012-07-18

    申请号:CN201110356194.5

    申请日:2011-11-11

    IPC分类号: B82B3/00 B82Y40/00

    摘要: 本发明属于材料制备领域。本发明提供一种生长纳米柱阵列的方法,包括步骤:1)在具有一斜切角度的蓝宝石片的裸露表面上生长一金属膜;2)对蓝宝石片表面生长的金属膜实施退火;3)将生长有金属膜的蓝宝石片置于氢化物气相外延生长系统的反应腔中,在金属膜的表面生长化合物半导体材料的纳米柱阵列。本发明的优点在于,提供了一种生长纳米柱阵列的方法,利用HVPE生长系统中原生的高温HCl气体对于不同金属的腐蚀作用,调控金属的催化作用,进而控制纳米柱阵列的形态。

    一种等离子激元增益波导

    公开(公告)号:CN102662210B

    公开(公告)日:2013-06-19

    申请号:CN201210061093.X

    申请日:2012-03-09

    IPC分类号: G02B6/122 G02B6/10

    摘要: 本发明涉及光波导技术领域。本发明提供一种等离子激元增益波导,包括基底层、介质层、隔离层和增益波导,所述介质层置于基底层的裸露表面,所述隔离层介于所述介质层和所述增益波导之间,所述增益波导靠近所述介质层的一端为楔形且尖端朝向所述介质层,所述增益波导的折射率大于所述隔离层的折射率。本发明优点在于,在增益波导靠近介质层一端为楔形结构,固定楔形结构的顶端和金属的距离,保留低折射率的隔离层,可以通过调节楔形顶角的角度改善增益波导和金属的等离子激元耦合。

    一种生长纳米柱阵列的方法

    公开(公告)号:CN102583236B

    公开(公告)日:2013-12-18

    申请号:CN201110356194.5

    申请日:2011-11-11

    IPC分类号: H01L21/205

    摘要: 本发明属于材料制备领域。本发明提供一种生长纳米柱阵列的方法,包括步骤:1)在具有一斜切角度的蓝宝石片的裸露表面上生长一金属膜;2)对蓝宝石片表面生长的金属膜实施退火;3)将生长有金属膜的蓝宝石片置于氢化物气相外延生长系统的反应腔中,在金属膜的表面生长化合物半导体材料的纳米柱阵列。本发明的优点在于,提供了一种生长纳米柱阵列的方法,利用HVPE生长系统中原生的高温HCl气体对于不同金属的腐蚀作用,调控金属的催化作用,进而控制纳米柱阵列的形态。

    一种原位表征纳米线的方法

    公开(公告)号:CN102539462A

    公开(公告)日:2012-07-04

    申请号:CN201110356193.0

    申请日:2011-11-11

    IPC分类号: G01N23/22

    摘要: 本发明提供了一种采用SEM-CL和TEM的原位表征方法,包括步骤:1)提供一微栅;2)在微栅的表面形成一导电层;3)将纳米线置于所述导电层表面,并采用粘合剂将所纳米线固定在导电层表面;4)采用扫描电子显微镜选择一单根纳米线,拍摄其具体形貌并记录其尺寸;5)采用阴极荧光测试装置记录所述单根纳米线不同位置的发光性质,并利用阴极荧光测试装置的线扫描功能在所述单根纳米线上标定一第二标记;6)采用透射电子显微镜记录所述单根纳米线上的第二标记处的结构信息。本发明利用特殊的精细的制样和测试方法,将TEM获得的结构信息与SEM-CL获得发光性质直接联系起来,构建材料纳米结构和材料发光性质间的桥梁。

    微米级颗粒透射电子显微镜样品的制备方法

    公开(公告)号:CN110595848A

    公开(公告)日:2019-12-20

    申请号:CN201810601158.2

    申请日:2018-06-12

    IPC分类号: G01N1/28

    摘要: 本发明公开了一种微米级颗粒透射电子显微镜样品的制备方法,其包括在聚焦离子束-扫描电镜双束系统中进行的以下工艺:选取待测的微米尺寸量级的样品颗粒;应用离子束沉积工艺在所述样品颗粒的外表面沉积第一材料,形成包覆所述样品颗粒的保护层;将包覆有保护层的所述样品颗粒焊接到样品载网上;应用离子束切割工艺对包覆有保护层的所述样品颗粒进行切割,在所述样品载网上形成厚度为纳米尺寸量级的测试样品。该方法可以简化微米级颗粒透射电子显微镜样品的制样过程,提升了制样速度,并且提高了制样的成功率。