清洗装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101733258B

    公开(公告)日:2012-09-19

    申请号:CN200910173152.0

    申请日:2009-09-11

    发明人: 吴泰英 李殷河

    摘要: 本发明公开了一种清洗装置,其能够防止由于基板下垂所造成的对基板的损伤。所述清洗装置包括:等离子体照射部,其被提供有来自基板装载部的基板以通过向基板照射等离子体从基板去除污物;清污部,其被提供有来自等离子体照射部的基板以去除留在基板上的污物;最后清洗部,其清洗基板;烘干部,其烘干基板;以及基板卸载部,其卸载基板,其中等离子体照射部包括向基板照射等离子体的等离子体照射单元,以及使所述基板保持处于浮动状态的浮动单元。等离子体照射单元和浮动单元以预定间隔彼此面对,从而在他们之间形成了用于让基板通过的传输空间,浮动单元向传输空间喷射空气并同时抽回所喷射出的空气,从而保持基板的浮动状态。

    清洗装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101733258A

    公开(公告)日:2010-06-16

    申请号:CN200910173152.0

    申请日:2009-09-11

    发明人: 吴泰英 李殷河

    摘要: 本发明公开了一种清洗装置,其能够防止由于基板下垂所造成的对基板的损伤。所述清洗装置包括:等离子体照射部,其被提供有来自基板装载部的基板以通过向基板照射等离子体从基板去除污物;清污部,其被提供有来自等离子体照射部的基板以去除留在基板上的污物;最后清洗部,其被提供有来自清污部的基板以清洗基板;烘干部,其被提供有来自最后清洗部的基板以烘干基板;以及基板卸载部,其被提供有来自烘干部的基板以卸载基板,其中等离子体照射部包括向基板照射等离子体的等离子体照射单元,以及使所述基板保持处于浮动状态的浮动单元。

    清洗装置
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101664748B

    公开(公告)日:2012-07-11

    申请号:CN200810186209.6

    申请日:2008-12-17

    CPC分类号: B08B5/02 B08B5/023

    摘要: 公开了一种稳定地清洗基板的清洗装置。该清洗装置包括引导从外部供给的基板沿正确方向进入的基板入口引导单元;由所述基板入口引导单元供给所述基板以清除在所述基板上形成的灰尘的灰尘清除单元;由所述灰尘清除单元供给所述基板以清洗掉残留在所述基板上的残余灰尘的灰尘清洗单元;和控制从所述灰尘清洗单元卸下的所述基板的位置的位置控制单元。