公开(公告)号：CN110767660B

公开(公告)日：2022-09-16

申请号：CN201810821680.1

申请日：2018-07-24

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方显示技术有限公司

发明人： 王守坤 ,  郭会斌 ,  韩皓 ,  付方彬 ,  贾宜訸 ,  宋勇志 ,  刘知畅 ,  刘建涛

IPC分类号： H01L27/12 ,  H01L21/77 ,  G02F1/1368 ,  H01L51/52 ,  H01L27/32

摘要： 一种阵列基板及其制备方法、显示面板。该阵列基板包括透明的衬底基板和电极结构，衬底基板包括第一主表面和与第一主表面相对的第二主表面，电极结构设置于第一主表面上，电极结构包括层叠的减反射层和第一电极层，减反射层位于第一电极层和衬底基板之间，以减小电极结构对从衬底基板的第二主表面入射到电极结构上的光的反射。电极结构可以减少阵列基板对光的反射，提高显示效果。

公开(公告)号：CN110767660A

公开(公告)日：2020-02-07

申请号：CN201810821680.1

申请日：2018-07-24

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方显示技术有限公司

发明人： 王守坤 ,  郭会斌 ,  韩皓 ,  付方彬 ,  贾宜訸 ,  宋勇志 ,  刘知畅 ,  刘建涛

IPC分类号： H01L27/12 ,  H01L21/77 ,  G02F1/1368 ,  H01L51/52 ,  H01L27/32

摘要： 一种阵列基板及其制备方法、显示面板。该阵列基板包括透明的衬底基板和电极结构，衬底基板包括第一主表面和与第一主表面相对的第二主表面，电极结构设置于第一主表面上，电极结构包括层叠的减反射层和第一电极层，减反射层位于第一电极层和衬底基板之间，以减小电极结构对从衬底基板的第二主表面入射到电极结构上的光的反射。电极结构可以减少阵列基板对光的反射，提高显示效果。

公开(公告)号：CN109073943A

公开(公告)日：2018-12-21

申请号：CN201880000450.7

申请日：2018-05-22

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  重庆京东方光电科技有限公司

发明人： 陈虞龙 ,  王念念 ,  熊永 ,  刘知畅 ,  田晓瑞 ,  卢玲珑 ,  王子威 ,  魏孟 ,  张祥

IPC分类号： G02F1/1362 ,  G02F1/1368 ,  G02F1/133 ,  G09G3/36 ,  H01L27/12 ,  H01L21/77

摘要： 本申请公开了一种阵列基板。阵列基板在多个子像素区域中的每一个中包括：第一薄膜晶体管，其具有与多条栅线中的一条连接的第一栅极、与多条数据线中的一条连接的第一源极、以及与像素电极连接的第一漏极；第二薄膜晶体管，其具有第二栅极、与所述多条数据线中的所述一条连接的第二源极、以及与所述像素电极连接的第二漏极；以及第三薄膜晶体管，其具有与所述多条数据线中的所述一条连接的第三栅极、与所述多条栅线中的所述一条连接的第三源极、以及与第二栅极和多条辅助信号线中的一条连接的第三漏极。

公开(公告)号：CN109870880A

公开(公告)日：2019-06-11

申请号：CN201910279647.5

申请日：2019-04-09

申请人： 合肥京东方显示技术有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 汪涛 ,  高锦成 ,  刘泽旭 ,  张瑞锋 ,  李涛 ,  钱海蛟 ,  刘知畅

IPC分类号： G03F7/16 ,  G02F1/13

摘要： 本申请公开了一种涂胶设备及涂胶方法，涂胶设备，包括基板放置区，所述基板放置区用于放置待涂胶基板，所述基板放置区上方设有可移动喷头，所述喷头用于喷涂光刻胶，所述基板放置区下方设有多个激光器。根据本申请实施例提供的技术方案，通过在涂胶设备中增加多个激光器进行基板的边涂胶边固化，能够有效防止基板在传送的过程中引起的光刻胶不规则流动，提高了曝光前光刻胶膜层的均一性，提升了曝光的精度，有效防止了光刻胶残留等不良，同时将光刻胶涂覆和固化进行整合，节省了后续的步骤，降低了单件产品的生产时间。