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公开(公告)号：CN107402485B
公开(公告)日：2020-09-04
申请号：CN201710772131.5
申请日：2017-08-31
Applicant: 合肥京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: G02F1/1362 , G02F1/1341 , G02F1/1333
Abstract: 本发明的实施例提供了一种阵列基板及其制作方法，制作方法包括：在衬底上依次形成第一金属图案层、第一绝缘层、第二金属图案层和第二绝缘层；在第二绝缘层上涂覆光致抗蚀剂；对光致抗蚀剂进行曝光和显影而形成光致抗蚀剂图案，并且形成蚀刻保护层，其中，在阵列基板的第一区中，光致抗蚀剂图案暴露第二绝缘层的顶表面的部分，并且通过蚀刻保护层与第二绝缘层接合；以及在所述第一区中，以光致抗蚀剂图案作为掩模而蚀刻掉蚀刻保护层并且蚀刻第二绝缘层的至少部分而不蚀刻第一绝缘层，从而暴露第二金属图案层的部分并且形成液晶导流槽。本发明的实施例还提供了一种液晶显示设备及其制作方法。
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公开(公告)号：CN114792618A
公开(公告)日：2022-07-26
申请号：CN202210431750.9
申请日：2022-04-22
Applicant: 合肥京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: H01J37/32
Abstract: 本公开提供一种等离子体设备的下电极结构和等离子体设备。该下电极结构包括：下电极、绝缘层和基座，绝缘层设置在基座上，下电极设置在绝缘层上，在基座上设有排气通道并在基座的上表面形成至少一个排气口，下电极结构还包括整流结构，整流结构为绝缘材料并且高度超出下电极，整流结构位于排气口的朝向下电极的一侧，以减缓下电极的靠近排气口区域处的排气流速。该下电极结构有助于提高工艺结果的一致性。
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公开(公告)号：CN108153072A
公开(公告)日：2018-06-12
申请号：CN201810001653.X
申请日：2018-01-02
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方显示技术有限公司
IPC: G02F1/136
Abstract: 本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，所述阵列基板包括位于衬底基板上的第一金属图形和覆盖所述第一金属图形的绝缘层，所述绝缘层形成有用于导流取向液的导流槽，所述导流槽在所述衬底基板上的正投影完全落入所述第一金属图形在所述衬底基板上的正投影内。本发明的技术方案能够提高阵列基板的良率和寿命，同时可以确保导流槽的功能。
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公开(公告)号：CN105633015A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201610134916.5
申请日：2016-03-09
Applicant: 合肥京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
CPC classification number: H01L27/1288 , G02F1/13394 , H01L27/124 , H01L27/1248 , H01L21/77 , H01L27/1214 , H01L2021/775
Abstract: 本发明公开了一种阵列基板的制造方法、阵列基板及显示装置，以减少彩膜工艺的加工工序，并进一步减少显示装置的制造工序，节省生产成本和时间。阵列基板的制造方法包括：在衬底基板上形成薄膜晶体管；通过半色调掩模构图工艺，在薄膜晶体管的前侧形成具有过孔的钝化层，及在所述钝化层的前侧形成隔垫物。采用该方法制造阵列基板，无需在彩膜基板背侧制备隔垫物，减少了彩膜工艺的加工工序，进而减少了显示装置的制备工序，节省了生产成本和加工时间。
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公开(公告)号：CN108153072B
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN201810001653.X
申请日：2018-01-02
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方显示技术有限公司
IPC: G02F1/136
Abstract: 本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，所述阵列基板包括位于衬底基板上的第一金属图形和覆盖所述第一金属图形的绝缘层，所述绝缘层形成有用于导流取向液的导流槽，所述导流槽在所述衬底基板上的正投影完全落入所述第一金属图形在所述衬底基板上的正投影内。本发明的技术方案能够提高阵列基板的良率和寿命，同时可以确保导流槽的功能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105633015B
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201610134916.5
申请日：2016-03-09
Applicant: 合肥京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
CPC classification number: H01L27/1288 , G02F1/13394 , H01L27/124 , H01L27/1248
Abstract: 本发明公开了一种阵列基板的制造方法、阵列基板及显示装置，以减少彩膜工艺的加工工序，并进一步减少显示装置的制造工序，节省生产成本和时间。阵列基板的制造方法包括：在衬底基板上形成薄膜晶体管；通过半色调掩模构图工艺，在薄膜晶体管的前侧形成具有过孔的钝化层，及在所述钝化层的前侧形成隔垫物。采用该方法制造阵列基板，无需在彩膜基板背侧制备隔垫物，减少了彩膜工艺的加工工序，进而减少了显示装置的制备工序，节省了生产成本和加工时间。
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公开(公告)号：CN107402485A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201710772131.5
申请日：2017-08-31
Applicant: 合肥京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: G02F1/1362 , G02F1/1341 , G02F1/1333
Abstract: 本发明的实施例提供了一种阵列基板及其制作方法，制作方法包括：在衬底上依次形成第一金属图案层、第一绝缘层、第二金属图案层和第二绝缘层；在第二绝缘层上涂覆光致抗蚀剂；对光致抗蚀剂进行曝光和显影而形成光致抗蚀剂图案，并且形成蚀刻保护层，其中，在阵列基板的第一区中，光致抗蚀剂图案暴露第二绝缘层的顶表面的部分，并且通过蚀刻保护层与第二绝缘层接合；以及在所述第一区中，以光致抗蚀剂图案作为掩模而蚀刻掉蚀刻保护层并且蚀刻第二绝缘层的至少部分而不蚀刻第一绝缘层，从而暴露第二金属图案层的部分并且形成液晶导流槽。本发明的实施例还提供了一种液晶显示设备及其制作方法。
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公开(公告)号：CN102966828A
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN201210434443.2
申请日：2012-11-02
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
Abstract: 本发明涉及一种机械装置的注油设备，特别是一种新式定量型电动油枪,所述油枪腔体内设有电动马达和注油活塞，所述电动马达通过齿轮传动机构使注油活塞在所述油枪腔体内做直线运动，从而将油枪腔体内的油剂推向油枪注油端口。本发明所涉及的电动油枪可以实现自动注油，注油过程平缓，减少了人为因素的对注油作业的影响；并通过流量计量器精确控制每次的注油量，保证了设备所需要的油量以及设备的运行稳定，且可以避免额外的浪费，有效的节约了成本。
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公开(公告)号：CN102966828B
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201210434443.2
申请日：2012-11-02
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
Abstract: 本发明涉及一种机械装置的注油设备，特别是一种新式定量型电动油枪,所述油枪腔体内设有电动马达和注油活塞，所述电动马达通过齿轮传动机构使注油活塞在所述油枪腔体内做直线运动，从而将油枪腔体内的油剂推向油枪注油端口。本发明所涉及的电动油枪可以实现自动注油，注油过程平缓，减少了人为因素的对注油作业的影响；并通过流量计量器精确控制每次的注油量，保证了设备所需要的油量以及设备的运行稳定，且可以避免额外的浪费，有效的节约了成本。
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公开(公告)号：CN203259463U
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：CN201320141899.X
申请日：2013-03-26
Applicant: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: G01N21/17
Abstract: 本实用新型公开了一种洁净度检测装置和系统，所述洁净度检测装置可以包括光发射器、光接收器，所述光发射器和光接收器设置于待检测机构上；其中，所述光发射器用于向待检测机构内发射光；所述光接收器用于接收所述光发射器发射的光在待检测机构内因微粒而发生光路变化后的光，并根据接收到的光检测出待检测机构内的洁净度。所述洁净度检测系统则可以包括所述洁净度检测装置以及所述待检测机构。本实用新型属于自动检测装置，能够直接检测待检测机构内部的洁净度，在实现简单、精确的洁净度检测，提高洁净度检测效率的同时，能够节省洁净度检测中的人工成本，提高人员利用率，提高产能。并且，可以实时进行洁净度检测，能够有效保证良品率。
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