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公开(公告)号：CN105603378A
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201610005253.7
申请日：2016-01-05
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： C23C14/54
CPC分类号： G01B11/0683 , C23C14/542 , C23C14/545 , G01B21/08
摘要： 本发明涉及一种测量工具，用于测量大尺寸基板上的特定位置处的镀膜厚度。所述测量工具包括测量部件，所述测量部件用于将基板的至少一个取样基片固定在测量部件的特定位置上，所述测量部件能够连接在掩膜的边框上，所述测量部件具有至少一个测量表面，所述至少一个取样基片可定位在所述测量表面上，其中，所述测量表面具有刻度以标示所述至少一个取样基片的规定位置，所述规定位置对应于大尺寸基板上的测量点位置。本发明还涉及一种利用上述测量工具测量大尺寸基板的镀膜厚度的方法。
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公开(公告)号：CN105603378B
公开(公告)日：2018-09-18
申请号：CN201610005253.7
申请日：2016-01-05
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： C23C14/54
摘要： 本发明涉及一种测量工具，用于测量大尺寸基板上的特定位置处的镀膜厚度。所述测量工具包括测量部件，所述测量部件用于将基板的至少一个取样基片固定在测量部件的特定位置上，所述测量部件能够连接在掩膜的边框上，所述测量部件具有至少一个测量表面，所述至少一个取样基片可定位在所述测量表面上，其中，所述测量表面具有刻度以标示所述至少一个取样基片的规定位置，所述规定位置对应于大尺寸基板上的测量点位置。本发明还涉及一种利用上述测量工具测量大尺寸基板的镀膜厚度的方法。
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公开(公告)号：CN105441878B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201610005830.2
申请日：2016-01-05
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种用于蒸镀的加热装置和蒸镀设备，涉及显示装置制作领域，能够解决现有蒸镀设备加热不均，蒸镀材料易喷射、易发生性能劣化，蒸镀镀率调整时不宜稳定的问题。本发明提供的用于蒸镀的加热装置，包括：坩埚，用于盛装蒸镀原料；可移动加热单元，设置于所述坩埚的外部且蒸镀时高于蒸镀原料；称重传感装置，设置于所述坩埚的下方，用于称重所述坩埚及坩埚内蒸镀原料的重量并输出；控制器，用于接收所述称重传感装置的输出，根据所述坩埚及坩埚内蒸镀原料的重量计算所述坩埚内蒸镀原料的液位高度，并根据所述液位高度控制所述可移动加热单元到所述蒸镀原料的高度。
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公开(公告)号：CN105441878A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201610005830.2
申请日：2016-01-05
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
CPC分类号： C23C14/543 , C23C14/12 , C23C14/243 , C23C14/26 , C23C14/54 , C23C14/541
摘要： 本发明公开了一种用于蒸镀的加热装置和蒸镀设备，涉及显示装置制作领域，能够解决现有蒸镀设备加热不均，蒸镀材料易喷射、易发生性能劣化，蒸镀镀率调整时不宜稳定的问题。本发明提供的用于蒸镀的加热装置，包括：坩埚，用于盛装蒸镀原料；可移动加热单元，设置于所述坩埚的外部且蒸镀时高于蒸镀原料；称重传感装置，设置于所述坩埚的下方，用于称重所述坩埚及坩埚内蒸镀原料的重量并输出；控制器，用于接收所述称重传感装置的输出，根据所述坩埚及坩埚内蒸镀原料的重量计算所述坩埚内蒸镀原料的液位高度，并根据所述液位高度控制所述可移动加热单元到所述蒸镀原料的高度。
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公开(公告)号：CN205258591U
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201620010104.5
申请日：2016-01-05
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
摘要： 本实用新型公开了一种用于蒸镀的加热装置和蒸镀设备，涉及显示装置制作领域，能够解决现有蒸镀设备加热不均，蒸镀材料易喷射、易发生性能劣化，蒸镀镀率调整时不宜稳定的问题。本实用新型提供的用于蒸镀的加热装置，包括：坩埚，用于盛装蒸镀原料；可移动加热单元，设置于所述坩埚的外部且蒸镀时高于蒸镀原料；称重传感装置，设置于所述坩埚的下方，用于称重所述坩埚及坩埚内蒸镀原料的重量并输出；控制器，用于接收所述称重传感装置的输出，根据所述坩埚及坩埚内蒸镀原料的重量计算所述坩埚内蒸镀原料的液位高度，并根据所述液位高度控制所述可移动加热单元到所述蒸镀原料的高度。
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公开(公告)号：CN117652221A
公开(公告)日：2024-03-05
申请号：CN202280001969.3
申请日：2022-06-29
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H10K50/125 , H10K50/13 , H10K59/12 , H10K59/35 , H10K59/38
摘要： 发光器件、发光基板及发光装置，涉及显示技术领域。发光器件，包括：第一电极；第二电极，和所述第一电极相对设置；以及至少一个发光层，层叠设置在所述第一电极与所述第二电极之间，所述至少一个发光层包括：第一发光材料，被配置为在电流或电压的驱动下发射第一光线；以及第二发光材料，被配置为在电流或电压的驱动下发射第二光线；其中，所述第一光线与所述第二光线的颜色不同。
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公开(公告)号：CN116802553A
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN202180004179.6
申请日：2021-12-24
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1333
摘要： 提供一种阵列基板。阵列基板包括多个子像素。多个子像素中的各个子像素包括第一晶体管。第一晶体管包括：栅极(G1)；第一电极(E1)，其位于所述栅极(G1)上；半导体材料层(SML)，其位于所述第一电极(E1)远离所述栅极(G1)的一侧；第二电极(E2)，其位于所述半导体材料层(SML)远离所述第一电极(E1)的一侧；有机层(OL)，其位于所述第二电极(E2)远离所述半导体材料层(SML)的一侧；以及第三电极(E3)，其位于所述有机层(OL)远离所述第二电极(E2)的一侧。第二电极(E2)在基底(BS)上的正投影与所述有机层(OL)在所述基底(BS)上的正投影至少部分重叠。
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公开(公告)号：CN109817690B
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN201910129702.2
申请日：2019-02-21
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H01L27/32
摘要： 本发明提供一种OLED显示基板、OLED显示基板的制备方法、显示装置，属于显示技术领域，其可解决现有技术中的透明OLED显示基板受外界环境光影响较大，显示效果差的问题。本发明的OLED显示基板，其具有显示面和与所述显示面相对的非显示面；所述OLED显示基板包括：基底；设置所述基底上的多个OLED器件；所述OLED器件包括：透明的第一电极、发光层、透明的第二电极；多个光选择图案，所述光选择图案与所述OLED器件一一对应，设置于所述OLED器件靠近所述非显示面的一侧；每个所述光选择图案允许通过的光的波段范围与其所对应的OLED器件发出的光的波段范围相同。
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公开(公告)号：CN109872631B
公开(公告)日：2021-04-27
申请号：CN201910204427.6
申请日：2019-03-18
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G09F9/30
摘要： 本发明公开了一种可拉伸显示模组及其制作方法和显示设备，可拉伸显示模组包括：衬底，其上具有呈阵列分布且彼此分隔开的多个岛、以及连接多个岛的多个桥；第一可拉伸层，设置在多个桥上，且至少一桥上的第一可拉伸层上设置有多个隔断槽；和阻水层，设置在衬底上，且多个隔断槽分隔阻水层，以使得该桥上的阻水层在隔断槽处断裂或减薄，这样阻水层对该桥及该桥上的第一可拉伸层的束缚降低，拉伸时该桥不容易发生断裂，而且该桥及该桥上的第一可拉伸层的可拉伸量也增大。
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公开(公告)号：CN109830620B
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN201910120678.6
申请日：2019-02-18
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，采用该制备方法形成的显示基板具有较为平坦的表面。该制备方法包括以下步骤：S1：在衬底基板上依次形成像素界定层、辅助界定层；像素界定层具有多个间隔设置的第一开口部，辅助界定层具有多个间隔设置的第二开口部；S2：在第一开口部内打印墨水，并对墨水进行第一热处理，以去除墨水中的溶剂；像素界定层与辅助界定层的厚度之和，大于墨水去除溶剂后聚集在第一开口部内的最大厚度；S3：至少对辅助界定层进行第二热处理，以使辅助界定层熔化，形成覆盖墨水的覆盖层；S4：对覆盖层进行冷却处理，以使覆盖层固化。用于显示基板及包括该显示基板的显示装置的制备。
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