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公开(公告)号：CN107012431A
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201710310386.X
申请日：2017-05-04
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
CPC分类号： C23C14/243 , C23C14/543
摘要： 本发明实施例提供一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法，涉及真空蒸发镀膜领域，能够解决现有的掺杂蒸镀过程中，无法对同一膜层的多种蒸镀材料蒸发速率实时控制以实现膜层梯度掺杂的问题。包括至少两个相邻设置的子蒸镀源，每一个子蒸镀源包括有蒸镀坩埚以及设置在蒸镀坩埚上的蒸镀出口，在至少一个子蒸镀源的蒸镀出口覆盖有速率调节部件。速率调节部件包括透过区域，移动速率调节部件可调节透过区域与蒸镀出口的重合面积。
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公开(公告)号：CN102712994B
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201080060061.7
申请日：2010-12-24
申请人： 韩商SNU精密股份有限公司
IPC分类号： C23C14/24
CPC分类号： C23C16/4485 , B01D1/0017 , B01D1/0082 , C23C14/24 , C23C14/543 , C23C16/52
摘要： 本发明揭示一种汽化装置及其控制方法，包含：汽化坩埚（vaporization crucible），用以容置原料；汽化加热单元，用以藉由加热所述汽化坩埚而汽化所述原料；温度量测单元，用以量测所述汽化坩埚的温度；功率量测单元，用以量测所述汽化加热单元的施加功率；以及控制单元，用以根据所述温度量测单元的温度变化值与所述功率量测单元的功率变化值其中之任一者，控制所述原料的汽化量。所述汽化装置使用非接触式/电子方法，所述非接触式/电子方法藉由原料的汽化期间的温度变化值与功率变化值而量测汽化量。因此，因不同于接触式方法，汽化量量测单元并不直接接触原料气体，故可供应各种原料并可达成大量原料供应或长时间原料供应而不会使功能劣化。另外，因所述电子方法能够精确地量测汽化量，故可提高原料供应的精确度。
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公开(公告)号：CN102712994A
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201080060061.7
申请日：2010-12-24
申请人： 韩商SNU精密股份有限公司
IPC分类号： C23C14/24
CPC分类号： C23C16/4485 , B01D1/0017 , B01D1/0082 , C23C14/24 , C23C14/543 , C23C16/52
摘要： 本发明揭示一种汽化装置及其控制方法，包含：汽化坩埚（vaporization crucible），用以容置原料；汽化加热单元，用以藉由加热所述汽化坩埚而汽化所述原料；温度量测单元，用以量测所述汽化坩埚的温度；功率量测单元，用以量测所述汽化加热单元的施加功率；以及控制单元，用以根据所述温度量测单元的温度变化值与所述功率量测单元的功率变化值其中之任一者，控制所述原料的汽化量。所述汽化装置使用非接触式/电子方法，所述非接触式/电子方法藉由原料的汽化期间的温度变化值与功率变化值而量测汽化量。因此，因不同于接触式方法，汽化量量测单元并不直接接触原料气体，故可供应各种原料并可达成大量原料供应或长时间原料供应而不会使功能劣化。另外，因所述电子方法能够精确地量测汽化量，故可提高原料供应的精确度。
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公开(公告)号：CN1487116A
公开(公告)日：2004-04-07
申请号：CN03178764.9
申请日：2003-07-18
申请人： LG电子株式会社
CPC分类号： C23C14/12 , C23C14/243 , C23C14/543 , H01L51/56
摘要： 本发明提供了可以补偿加热装置与蒸镀材料表面之间的间隔变化的、用于形成有机场致发光膜的蒸镀源。包括：容器，由上部板、侧壁和底构件构成；加热装置，对蒸镀材料提供热量；以及移动装置，根据探测装置的信号进行工作，移动加热装置，加热装置借助于移动装置向下移动，使得加热装置与蒸镀材料表面之间的间隔维持初始设定值。探测装置和加热装置设置在上部板上，移动装置包括：多个缸筒，使上部板上下移动；以及控制装置，接收探测装置的信号，当上部板与蒸镀材料表面之间的间隔比设定的间隔大时，使缸筒工作，沿侧壁向下移动上部板。
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公开(公告)号：CN107604313A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201710550629.7
申请日：2017-07-07
申请人： 三星显示有限公司
CPC分类号： H01L51/001 , C23C14/24 , C23C14/243 , C23C14/52 , C23C14/54 , C23C14/543 , C23C14/56 , C23C14/564 , H01L21/67109 , H01L21/67248 , H01L21/67253 , H01L22/12 , H01L51/56
摘要： 公开了一种沉积设备，该沉积设备包括：腔室；第一级和第二级，用于在腔室内支承衬底；蒸发源组件，在与第一级对应的第一级区和与第二级对应的第二级区之间移动，并且包括多个喷嘴，其中，源材料通过该多个喷嘴被喷射；以及拍照组件，设置在第一级与第二级之间，并为多个喷嘴拍照。
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公开(公告)号：CN106906445A
公开(公告)日：2017-06-30
申请号：CN201710200249.0
申请日：2017-03-29
申请人： 武汉华星光电技术有限公司
CPC分类号： C23C14/12 , C23C14/243 , C23C14/26 , C23C14/543
摘要： 本发明提供了一种蒸发源。蒸发源包括壳体、用于放置蒸发材料的坩埚、喷嘴、用于对加热面加热第一加热丝和升降机构，壳体包括相对设置的第一端、第二端及位于第一端和第二端之间的传输腔；当蒸发材料放置于坩埚内时，蒸发材料在坩埚内的表面形成一加热面，坩埚设置在壳体内，且位于第二端，坩埚和传输腔连通；喷嘴设置在第一端，喷嘴和传输腔连通；第一加热丝直接固定在壳体内，且第一加热丝位于坩埚和喷嘴之间；升降机构可活动的连接在壳体上，升降机构和坩埚固定连接，升降机构通过和壳体的可活动连接控制坩埚运动，使得第一加热丝和加热面两者的位置产生变化，以改变第一加热丝对蒸发材料加热而产生的蒸发速率。提高OLED器件的产量和良率。
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公开(公告)号：CN106065464A
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：CN201610245080.6
申请日：2016-04-19
CPC分类号： C23C14/54 , C03C17/245 , C03C2217/213 , C03C2218/154 , C23C14/0042 , C23C14/352 , C23C14/56 , H01J37/32449 , H01J37/32972 , H01J37/3299 , H01J37/3405 , H01J37/342 , C23C14/35 , C23C14/0036 , C23C14/3407 , C23C14/543
摘要： 本公开内容涉及膜沉积装置和膜沉积方法。膜沉积装置包括：真空室；圆柱靶，该靶的圆周面与基板相对，并且该靶在真空室中被设置为与基板的传送方向相交；驱动单元，其被配置为旋转地驱动靶；磁场产生器，其设置在靶的内侧；反应性气体流出单元，其被配置为流出反应性气体，该反应性气体流出单元设置在靶的附近；光发射监视器，其被配置为监视在基板和靶之间的位置处且在靶附近的等离子体的光发射强度；以及控制单元，其被配置为控制由驱动单元驱动的靶的旋转速度，以使得由光发射监视器监视的光发射强度接近预设的目标光发射强度。
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公开(公告)号：CN105765101A
公开(公告)日：2016-07-13
申请号：CN201480061371.9
申请日：2014-10-16
申请人： 纽升股份有限公司
CPC分类号： C23C14/546 , C23C14/0623 , C23C14/243 , C23C14/543
摘要： 揭示用于监测真空反应器设备中的蒸气的方法和系统。一种系统具有：(a)真空腔室；(b)容纳在所述真空腔室中的蒸气源，其中所述蒸气源经配置以产生蒸气；(c)容纳在所述真空腔室中且耦合到所述蒸气源的反应容器，其中所述反应容器具有通往所述真空腔室的出口，且其中所述反应容器经配置以从所述蒸气源接收所述蒸气且经由所述出口将所述所接收蒸气的一部分排放到所述真空腔室中；以及(d)容纳在所述真空腔室中的一个或多个传感器，其中所述一个或多个传感器经配置以检测经由所述出口排放的所述蒸气。
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公开(公告)号：CN103757590B
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201310753996.9
申请日：2013-12-31
申请人： 深圳市华星光电技术有限公司
CPC分类号： C23C14/243 , C23C14/26 , C23C14/543
摘要： 本发明公开了一种镀膜机坩埚设备。所述镀膜机坩埚设备(100)包括桶状结构(112)、多个加热器(120)、坩埚(110)、多个温度传感器(160)及多个驱动机构(200)，所述多个加热器(120)纵向分布在所述桶状结构(112)内并用于对所述坩埚(110)内的材料进行加热，所述多个温度传感器(160)纵向分布在所述坩埚(110)内以测量所述坩埚(110)内的温度，所述多个驱动机构(200)用于使所述多个加热器(120)中的至少一个加热器(120)纵向移动以控制所述坩埚(110)内的温度分布，所述镀膜机坩埚设备可以通过改变加热器的纵向分布密度，控制坩埚的上下温度分布，进而控制蒸镀速率而使其稳定。
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公开(公告)号：CN103757590A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201310753996.9
申请日：2013-12-31
申请人： 深圳市华星光电技术有限公司
CPC分类号： C23C14/243 , C23C14/26 , C23C14/543
摘要： 本发明公开了一种镀膜机坩埚设备。所述镀膜机坩埚设备(100)包括桶状结构(112)、多个加热器(120)、坩埚(110)、多个温度传感器(160)及多个驱动机构(200)，所述多个加热器(120)纵向分布在所述桶状结构(112)内并用于对所述坩埚(110)内的材料进行加热，所述多个温度传感器(160)纵向分布在所述坩埚(110)内以测量所述坩埚(110)内的温度，所述多个驱动机构(200)用于使所述多个加热器(120)中的至少一个加热器(120)纵向移动以控制所述坩埚(110)内的温度分布，所述镀膜机坩埚设备可以通过改变加热器的纵向分布密度，控制坩埚的上下温度分布，进而控制蒸镀速率而使其稳定。
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