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公开(公告)号:CN101057349A
公开(公告)日:2007-10-17
申请号:CN200580038386.4
申请日:2005-11-09
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: C23C14/542 , C23C14/12 , C23C14/246 , H01L51/001
Abstract: 一种用于控制蒸发的有机材料在基底表面上的沉积的方法,它包括提供具有至少一个缝隙的总管,蒸发的有机材料穿过该缝隙用以沉积在基底表面上;和提供一定体积的有机材料,并将该有机材料的温度维持在第一状态,使得其蒸汽压力低于在基底上有效地形成一层所需要的蒸汽压力,和在第二状态把占该有机材料的初始体积的一定体积百分数的有机材料加热,使得被加热的有机材料的蒸汽压力足以有效地形成一层。
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公开(公告)号:CN101052738A
公开(公告)日:2007-10-10
申请号:CN200580037923.3
申请日:2005-10-26
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: C23C14/542 , C23C14/12 , C23C14/24 , H01L51/001 , H01L51/56
Abstract: 用于控制气化有机材料沉积在基片表面的方法,包括提供加热装置以产生气化有机材料;提供具有至少一个孔的歧管,气化有机材料穿过该孔,在所述基片表面沉积;提供控制器,其独立于所述加热装置运行,并在第一条件有效,用于限制气化有机材料穿过所述孔的通过,以及在第二条件有效,用于促进气化有机材料穿过所述孔的通过;且其中所述加热装置,或所述控制器,或两者都邻近于所述歧管。
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