离子注入方法及离子注入装置

    公开(公告)号:CN108091534A

    公开(公告)日:2018-05-29

    申请号:CN201710945609.X

    申请日:2017-10-12

    Abstract: 本发明提供一种离子注入方法及离子注入装置。本发明的课题在于以高精确度迅速调整离子束的能量。所述离子注入方法具备以下步骤:测定从根据暂定的高频参数进行动作的高能量多级线性加速单元输出的离子束的射束能量的步骤;基于测定出的射束能量调整高频参数的值的步骤;及使用从根据经调整的高频参数进行动作的高能量多级线性加速单元输出的离子束来进行离子注入的步骤。暂定的高频参数对至少包含最终级的一部分级的高频谐振器赋予与赋予设计上的最大加速的高频参数的值不同的值。调整步骤包括变更对至少包括最终级的一部分级的高频谐振器设定的电压振幅及相位中的至少一方的步骤。

    监测中子射线的方法及离子注入装置

    公开(公告)号:CN118901120A

    公开(公告)日:2024-11-05

    申请号:CN202380027613.1

    申请日:2023-02-13

    Abstract: 本发明涉及监测中子射线的方法及离子注入装置,该方法包括:将时序数据记录于记录装置,该时序数据将包括沿着离子注入装置内的射束线传输的离子束的离子种类、能量及射束电流的射束条件与在离子注入装置内的规定的测定位置测定的中子剂量率建立对应关系;沿着射束线传输高能量离子束;获取在传输高能量离子束时在规定的测定位置测定的中子剂量率的测定值;使用时序数据和高能量离子束的射束条件,运算在传输高能量离子束时在规定的测定位置推断的中子剂量率的推断值;及比较测定值与推断值。

    离子注入方法及离子注入装置

    公开(公告)号:CN108091534B

    公开(公告)日:2020-07-24

    申请号:CN201710945609.X

    申请日:2017-10-12

    Abstract: 本发明提供一种离子注入方法及离子注入装置。本发明的课题在于以高精确度迅速调整离子束的能量。所述离子注入方法具备以下步骤:测定从根据暂定的高频参数进行动作的高能量多级线性加速单元输出的离子束的射束能量的步骤;基于测定出的射束能量调整高频参数的值的步骤;及使用从根据经调整的高频参数进行动作的高能量多级线性加速单元输出的离子束来进行离子注入的步骤。暂定的高频参数对至少包含最终级的一部分级的高频谐振器赋予与赋予设计上的最大加速的高频参数的值不同的值。调整步骤包括变更对至少包括最终级的一部分级的高频谐振器设定的电压振幅及相位中的至少一方的步骤。

    离子注入方法及离子注入装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118891696A

    公开(公告)日:2024-11-01

    申请号:CN202380027612.7

    申请日:2023-02-13

    Abstract: 本发明涉及离子注入方法及离子注入装置,离子注入方法包括如下步骤:获取在沿着离子注入装置内的射束线传输包括高能量的第1离子种类的第1离子束时在离子注入装置内的规定位置测定的中子剂量率的测定值;判定测定值是否超过规定的阈值;在测定值超过规定的阈值的情况下,沿着射束线传输包括质量数大于第1离子种类的第2离子种类的第2离子束;及在传输第2离子束之后,将第1离子束沿着射束线传输并照射到晶片。

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