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公开(公告)号：CN103358702A
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201310123781.9
申请日：2013-04-10
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： B41J2/16
CPC分类号： B41J2/14 , B41J2/14129 , B41J2/1603 , B41J2/1626 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1639 , B41J2/1642 , B41J2/1645 , B41J2/1646 , B41J2202/13
摘要： 本发明涉及液体排出头及其制造方法。本发明的液体排出头的制造方法包括以下步骤：在基板的第一面上，在对应于形成独立供给口的区域的部分上形成蚀刻停止层；从第二面侧对所述基板进行干法蚀刻处理，直到被蚀刻的部分到达所述蚀刻停止层；并且在进行所述干法蚀刻处理之后，通过各向同性蚀刻去除所述蚀刻停止层以形成独立供给口，其中所述各向同性蚀刻是以在所述蚀刻停止层的侧面周围形成对所述各向同性蚀刻具有耐蚀刻性的侧部蚀刻阻止部的状态进行。
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公开(公告)号：CN103213398A
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN201310024376.1
申请日：2013-01-23
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： B41J2/1628 , B41J2/14 , B41J2/14145 , B41J2/1603 , B41J2/1623 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1635 , B41J2/1639 , B41J2002/14467
摘要： 液体喷出头及其制造方法。一种液体喷出头的制造方法，包括下述步骤：（1）在基板的第二表面形成凹部以形成共用供给口，（2）形成蚀刻掩模，蚀刻掩模规定独立供给口的在共用供给口的底面的开口位置，以及（3）在采用蚀刻掩模作为掩模的状态下使用等离子体进行离子蚀刻，由此形成独立供给口。蚀刻掩模中形成的开口图案使得从喷出能量产生元件到与该喷出能量产生元件邻近的两个独立供给口的在基板的第一表面侧的开口的各自的距离彼此相等。
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公开(公告)号：CN102741155B
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：CN201180005841.6
申请日：2011-01-13
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： B41J2/1603 , B41J2/1623 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1634 , B41J2/1639 , B41J2/1642
摘要： 一种硅基板的加工方法，其包括：设置第一硅基板、第二硅基板和包括多个凹部的中间层的组合，所述中间层设置在第一硅基板和第二硅基板之间；在第一硅基板的与中间层的接合面相对的表面上，通过使用第一掩模，进行第一硅基板的蚀刻而形成贯通第一硅基板的第一贯通口，并露出对应于中间层的多个凹部的中间层部分；通过去除构成多个凹部的底部的部分而在中间层上形成多个开口；和借助使用在其上形成多个开口的中间层作为掩模，通过进行第二硅基板的第二蚀刻而形成贯通第二硅基板的第二贯通口。
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公开(公告)号：CN101746143A
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200910259421.5
申请日：2009-12-18
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： B41J2/1404 , B41J2/1603 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1634 , B41J2/1639 , B41J2/1645 , B41J2002/14467 , Y10T29/494
摘要： 本发明涉及液体排出头和液体排出头用基板的制造方法。液体排出头包括Si基板和液体供给口，所述Si基板设置有产生用于排出液体的能量的元件，设置所述液体供给口以从第一表面至背面穿过所述Si基板，从而向所述元件供给液体。所述基板的制造方法包括以下步骤：在面取向为{100}的Si基板背面上形成多个凹部，所述凹部面向所述第一表面并沿所述Si基板的 方向成行排列；和使用Si基板{100}面的蚀刻速率比Si基板{110}面的蚀刻速率慢的蚀刻液，经由凹部，通过在Si基板上进行晶轴各向异性蚀刻而形成多个液体供给口。
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公开(公告)号：CN1976811A
公开(公告)日：2007-06-06
申请号：CN200580021431.5
申请日：2005-06-27
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： B41J2/1639 , B41J2/1603 , B41J2/1631 , B41J2002/14475 , G03F7/038
摘要： 根据本发明，排液头的制造方法包括以下步骤：在其上设置有能量产生元件的基材上沉积用于形成流路的固体层，该能量产生元件用来产生用于排出液体的能量，在其中安装有该固体层的基材上形成用于覆盖该固体层的涂层，通过光刻工艺，在该固体层上形成的涂层中形成用来排出液体的排出口，和将该固体层除去以形成与该能量元件和该排出口连通的流路，其中用于该涂层的材料包含阳离子可聚合化合物、阳离子光致聚合作用引发剂和阳离子光致聚合作用的抑制剂，和其中与其中形成该涂层的排出口的部分形成边界的固体层的材料包含甲基丙烯酸酐和甲基丙烯酸酯的共聚物。
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公开(公告)号：CN1968815B
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN200580019601.6
申请日：2005-06-27
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： G03F7/038 , B41J2/1603 , B41J2/1631 , B41J2/1639 , B41J2002/14475 , Y10T29/49401
摘要： 根据本发明，一种用于制造排液头的方法包括步骤：在其上排列有能量产生元件(2)以产生用于排出液体的能量的基板(1)上，形成用于形成流路的固体层(3)；在其上设置有固体层的基板上形成用于覆盖固体层的涂层(4)；在沉积在固体层的涂层中通过光刻工艺形成用于排出液体的排出口(7)；和去除固体层以形成与能量元件和排出口连通的流路(8)，其中用于涂层的材料包含阳离子聚合性化合物，阳离子光聚合反应引发剂和阳离子光聚合反应的抑制剂，和其中固体层的材料包含甲基丙烯酸和甲基丙烯酸酯的共聚物，所述固体层与其中形成涂层的排出口的那部分形成边界。
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公开(公告)号：CN102741155A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201180005841.6
申请日：2011-01-13
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： B41J2/1603 , B41J2/1623 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1634 , B41J2/1639 , B41J2/1642
摘要： 一种硅基板的加工方法，其包括：设置第一硅基板、第二硅基板和包括多个凹部的中间层的组合，所述中间层设置在第一硅基板和第二硅基板之间；在第一硅基板的与中间层的接合面相对的表面上，通过使用第一掩模，进行第一硅基板的蚀刻而形成贯通第一硅基板的第一贯通口，并露出对应于中间层的多个凹部的中间层部分；通过去除构成多个凹部的底部的部分而在中间层上形成多个开口；和借助使用在其上形成多个开口的中间层作为掩模，通过进行第二硅基板的第二蚀刻而形成贯通第二硅基板的第二贯通口。
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公开(公告)号：CN1977219A
公开(公告)日：2007-06-06
申请号：CN200580021473.9
申请日：2005-06-27
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： B41J2/1603 , B41J2/1404 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1634 , B41J2/1639 , B41J2/1645 , B41J2202/11 , G03F7/095 , Y10T29/49401
摘要： 一种用于制造微细结构的方法，包括：形成要由第一波长范围的致电离辐射曝光的第一致电离辐射分解型正性抗蚀剂层的步骤；在第一正性光敏材料层上形成要由第二波长范围的致电离辐射曝光的第二致电离辐射分解型正性抗蚀剂层的步骤；通过在作为上层的上述第二正性光敏材料层中进行分解反应而不在上述第一正性光敏材料层中进行分解反应，并用显影液进行显影，从而在所述第二正性光敏材料层中形成所需的图案的步骤；以及，通过在预定区域中进行分解反应并进行显影，在作为下层的所述第一正性光敏材料层中形成所需的图案的步骤。从而，在所述衬底中制造出凸形图案。
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公开(公告)号：CN1951696A
公开(公告)日：2007-04-25
申请号：CN200610136289.5
申请日：2006-10-17
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： B41J2/1404 , B41J2/1603 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1639 , B41J2/1645 , Y10T29/49401
摘要： 一种液体排送头，其包括：基底，其具有能量发生元件，用于产生排送液体所需的能量；排送端口，其用于排送液体，并被设置成与能量发生元件成相对的关系；壁板构件，其围成了腔室，该腔室适于存贮由能量发生元件产生的、排送液体所需的能量；排送部分，其形成了连接腔室与排送端口的流体通路；供应通路，其便于将液体输送到所述腔室中；以及成对的中空部分，它们被设置在壁板构件中，其中，中空部分相互对置，且在从排送端口到基底的方向上，中空部分至少夹置着整个排送端口，且中空部分与腔室是独立的。
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公开(公告)号：CN103213398B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201310024376.1
申请日：2013-01-23
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： B41J2/1628 , B41J2/14 , B41J2/14145 , B41J2/1603 , B41J2/1623 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1635 , B41J2/1639 , B41J2002/14467
摘要： 液体喷出头及其制造方法。一种液体喷出头的制造方法，包括下述步骤：（1）在基板的第二表面形成凹部以形成共用供给口，（2）形成蚀刻掩模，蚀刻掩模规定独立供给口的在共用供给口的底面的开口位置，以及（3）在采用蚀刻掩模作为掩模的状态下使用等离子体进行离子蚀刻，由此形成独立供给口。蚀刻掩模中形成的开口图案使得从喷出能量产生元件到与该喷出能量产生元件邻近的两个独立供给口的在基板的第一表面侧的开口的各自的距离彼此相等。
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