掺杂二氧化钛的石英玻璃元件及制备方法

    公开(公告)号:CN101639624A

    公开(公告)日:2010-02-03

    申请号:CN200910158613.7

    申请日:2009-07-07

    IPC分类号: G03F1/14 C03B20/00

    摘要: 本发明涉及掺杂二氧化钛的石英玻璃元件及制备方法,该石英玻璃元件具有反射至多70nm波长的EUV光的表面,其中该表面中的折射率分布在该元件的中心80%区域内仅具有一个极点。该掺杂二氧化钛的石英玻璃元件具有高精度水平的表面且因此可形成为平整度和热膨胀性能得到改善的EUV光刻法光掩模衬底。该石英玻璃元件的制备方法包括:提供掺杂二氧化钛的石英玻璃坯锭;在空气中于700-1300℃下将该坯锭保持1-200小时以退火;以1-20℃/h的速率将该坯锭缓慢冷却至500℃;将该坯锭置于在炉子中旋转的成型坩埚中,所述炉子的温度分布具有在1700℃下至少1.5℃/cm的温度梯度;在该坩埚中热加工该掺杂二氧化钛的石英玻璃。

    制造用于受激准分子激光的合成石英玻璃的方法

    公开(公告)号:CN101798168A

    公开(公告)日:2010-08-11

    申请号:CN201010138731.4

    申请日:2010-01-19

    IPC分类号: C03B20/00

    摘要: 本发明公开了一种制造用于受激准分子激光的合成石英玻璃的方法,该方法通过如下方式来制造上述合成石英玻璃:在靶上沉积氧化硅颗粒以形成多孔氧化硅母材,所述氧化硅颗粒通过使氧化硅原材料在真空烧结炉中的氢氧焰中气相水解或氧化分解得到;将所述多孔氧化硅母材玻璃化;并对玻璃化的材料进行热成型、退火处理及氢掺杂处理,其中多孔氧化硅母材的玻璃化包括:(a)在400℃以上、且低于900℃的温度范围,将真空压力保持在20.0Pa以下的步骤;(b)在900℃以上、且低于1100℃的温度范围,将真空压力保持在10.0Pa以下的步骤;及(c)在1100℃至透明玻璃化温度的温度范围,将真空压力保持在3.0Pa以下的步骤。

    制造用于受激准分子激光的合成石英玻璃的方法

    公开(公告)号:CN101798168B

    公开(公告)日:2014-03-26

    申请号:CN201010138731.4

    申请日:2010-01-19

    IPC分类号: C03B20/00

    摘要: 本发明公开了一种制造用于受激准分子激光的合成石英玻璃的方法,该方法通过如下方式来制造上述合成石英玻璃:在靶上沉积氧化硅颗粒以形成多孔氧化硅母材,所述氧化硅颗粒通过使氧化硅原材料在真空烧结炉中的氢氧焰中气相水解或氧化分解得到;将所述多孔氧化硅母材玻璃化;并对玻璃化的材料进行热成型、退火处理及氢掺杂处理,其中多孔氧化硅母材的玻璃化包括:(a)在400℃以上、且低于900℃的温度范围,将真空压力保持在20.0Pa以下的步骤;(b)在900℃以上、且低于1100℃的温度范围,将真空压力保持在10.0Pa以下的步骤;及(c)在1100℃至透明玻璃化温度的温度范围,将真空压力保持在3.0Pa以下的步骤。

    掺杂二氧化钛的石英玻璃元件及制备方法

    公开(公告)号:CN101639624B

    公开(公告)日:2013-08-07

    申请号:CN200910158613.7

    申请日:2009-07-07

    IPC分类号: C03B20/00

    摘要: 本发明涉及掺杂二氧化钛的石英玻璃元件及制备方法,该石英玻璃元件具有反射至多70nm波长的EUV光的表面,其中该表面中的折射率分布在该元件的中心80%区域内仅具有一个极点。该掺杂二氧化钛的石英玻璃元件具有高精度水平的表面且因此可形成为平整度和热膨胀性能得到改善的EUV光刻法光掩模衬底。该石英玻璃元件的制备方法包括:提供掺杂二氧化钛的石英玻璃坯锭;在空气中于700-1300℃下将该坯锭保持1-200小时以退火;以1-20℃/h的速率将该坯锭缓慢冷却至500℃;将该坯锭置于在炉子中旋转的成型坩埚中,所述炉子的温度分布具有在1700℃下至少1.5℃/cm的温度梯度;在该坩埚中热加工该掺杂二氧化钛的石英玻璃。