一种用于物理气相传输法生长晶体的坩埚

    公开(公告)号:CN117089933A

    公开(公告)日:2023-11-21

    申请号:CN202311310602.2

    申请日:2023-10-11

    Abstract: 本发明实施例提供了一种用于物理气相传输法生长晶体的坩埚,该坩埚包括坩埚体和坩埚盖,坩埚盖的下表面用于安置籽晶,坩埚盖的一部分同轴地位于坩埚体的侧壁内表面之内,坩埚盖与坩埚体之间的间隙最小且位置最高之处为密封面,坩埚盖的下表面与密封面之间的轴向距离为H,满足1mm≤H≤100mm。本发明实施例通过控制坩埚盖的下表面与密封面之间的距离在1mm≤H≤100mm范围内,使得坩埚内的原料蒸气在晶体生长开始之前,先在坩埚盖与坩埚体侧壁密封面的缝隙处沉积以使其封闭,极大地提高了物理气相传输法晶体生长过程中坩埚的气密性,减少了原料蒸气的泄漏及其对坩埚外炉膛和测温/控温光路的污染。

    一种多步反复合成制备稀土掺杂钆镓铝单晶原料的方法

    公开(公告)号:CN108360062B

    公开(公告)日:2021-11-12

    申请号:CN201810107491.8

    申请日:2018-02-02

    Abstract: 本发明提供一种多步反复合成制备稀土掺杂钆镓铝单晶原料的方法,包括以下操作:1)称取用于掺杂的稀土和制备钆镓铝单晶的原料,放入坩埚中预烧;2)将预烧后的粉料混合均匀;3)将混合均匀的粉料放入坩埚,在温度1300~1600℃下烧结;4)使用陶瓷研钵研磨烧结过的混料,研磨后过筛,之后再混合5~10小时;5)重复2~5遍;6)将粉料放入等静压模具中,压制成型。本发明提出的方法,通过反复研磨、烧结、混合的方法制备混料,能够更加充分的得到成分一致的多晶料,为后续生长优质单晶提供了重要的保障。使用等静压压制成型使得压块各处的一致性较好,在单晶合成时能够快速熔化,减少原料挥发及分解。

    一种高纯度氮化铝粉体及氮化铝粉体提纯方法

    公开(公告)号:CN110015648B

    公开(公告)日:2021-05-04

    申请号:CN201910243035.0

    申请日:2019-03-28

    Abstract: 本发明涉及一种高纯度氮化铝粉体及氮化铝粉体提纯方法。利用还原气体对Al粉与AlN粉的混合粉体所在的合成腔体进行高温气洗处理,用于去除所述合成腔体内的氧气;真空状态下,在第一提纯温度下,去除所述混合粉体杂质中的氢氧化物,在第二提纯温度下,去除所述混合粉体杂质中的碳,在第三提纯温度下,利用所述Al蒸汽去除所述混合粉体杂质中的氧化铝。提纯方法简单,通过杂质去除顺序及相应提纯步骤的合理设计,加之Al粉的加入,有效抑制了提纯过程中AlN粉体的分解,减少原料的损耗,通过高频燃烧红外吸收法和惰气脉冲红外热导法测试得本发明所得氮化铝粉体的碳含量为42PPM,氧含量为220PPM,纯度高。

    单晶生长装置、单晶生长炉及单晶生长方法

    公开(公告)号:CN116791191A

    公开(公告)日:2023-09-22

    申请号:CN202310786508.8

    申请日:2023-06-29

    Abstract: 本申请提供一种单晶生长装置、单晶生长炉及单晶生长方法,包括:坩埚盖和坩埚,坩埚盖盖合于坩埚的顶部开口,坩埚的侧壁和底壁受热;坩埚内设有至少一个导热件,其底端与坩埚底壁接触,顶端与坩埚盖之间具有预设距离;坩埚内设有位于导热件远离坩埚底壁的一侧的隔板及位于隔板靠近坩埚底壁的一侧的原料;隔板包括遮挡部和流通部,遮挡部为圆环形结构,遮挡部的外缘与坩埚侧周壁抵接,流通部用于升华气体通过;坩埚盖的内侧设有籽晶,坩埚内还设有导流罩,导流罩设于隔板远离坩埚底壁的一侧,用于将升华气体导向籽晶表面;导热件的制作材料为耐高温且不与AlN反应的金属材料。该装置能提高原料的温度分布的均匀性。

    温场调控装置及单晶炉
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119372785A

    公开(公告)日:2025-01-28

    申请号:CN202411430656.7

    申请日:2024-10-14

    Abstract: 本申请实施例提供一种温场调控装置及单晶炉,该装置包括:坩埚、内反射屏和辅助侧反射屏,坩埚至少部分位于加热器内部,包括坩埚体和盖合于坩埚体的坩埚盖,坩埚盖内部用于设置籽晶,坩埚体包括上段、中段和下段,中段的内径大于上段和下段,中段包括与上段和下段内径一致的中间部和直径大于上段和下段的环形部,中间部和下段用于容纳原料;内反射屏设于环形部内,用于向远离坩埚体的方向反射热量;辅助侧反射屏设于坩埚外部,且支撑于中段上,辅助侧反射屏的顶端高于坩埚盖的顶端。该温场调控装置可以增大坩埚上段与下段之间的温度梯度,使得满足晶体生长的需要,提高晶体生长质量。

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