用于生长SiC晶体的SiC原料的制备方法和制备装置

    公开(公告)号:CN109844185B

    公开(公告)日:2020-11-03

    申请号:CN201780054385.1

    申请日:2017-03-30

    IPC分类号: C30B29/36 C30B23/06

    摘要: 提供用于生长SiC晶体的SiC原料的制备方法和装置。该方法包括:将SiC粉料装入第一石墨坩埚中,在第一石墨坩埚上倒置安装第二石墨坩埚;将安装好的两个石墨坩埚放入加热装置中,将加热装置抽真空并升温至预设温度;其中,第一石墨坩埚位于相对高温区,第二石墨坩埚位于相对低温区,SiC粉料升华并被输运至第二石墨坩埚中而结晶,以获得结晶的SiC原料,该原料将被用于生长SiC晶体。该装置包括第一、第二石墨坩埚以及加热装置,且自第二石墨坩埚底部向上设置隔离件,该隔离件与第二石墨坩埚的侧壁间隔预定距离。该方法和装置能够降低由此原料制得的SiC晶体中的杂质含量,减少微观包裹物,降低位错密度,提供中后期SiC晶体的生长速率和产率。

    用于生长SiC晶体的SiC原料的制备方法和制备装置

    公开(公告)号:CN109844185A

    公开(公告)日:2019-06-04

    申请号:CN201780054385.1

    申请日:2017-03-30

    IPC分类号: C30B29/36 C30B23/06

    摘要: 提供用于生长SiC晶体的SiC原料的制备方法和装置。该方法包括:将SiC粉料装入第一石墨坩埚中,在第一石墨坩埚上倒置安装第二石墨坩埚;将安装好的两个石墨坩埚放入加热装置中,将加热装置抽真空并升温至预设温度;其中,第一石墨坩埚位于相对高温区,第二石墨坩埚位于相对低温区,SiC粉料升华并被输运至第二石墨坩埚中而结晶,以获得结晶的SiC原料,该原料将被用于生长SiC晶体。该装置包括第一、第二石墨坩埚以及加热装置,且自第二石墨坩埚底部向上设置隔离件,该隔离件与第二石墨坩埚的侧壁间隔预定距离。该方法和装置能够降低由此原料制得的SiC晶体中的杂质含量,减少微观包裹物,降低位错密度,提供中后期SiC晶体的生长速率和产率。