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公开(公告)号：CN110079838A
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201910329836.9
申请日：2019-04-23
申请人： 北京控制工程研究所
摘要： 本发明涉及一种基于电铸镍复制制造掠入射软X射线反射镜片的工艺，工艺流程为芯轴模具镀金→电铸镍镜壳→镜片端面修平→镜片脱模，可以获得厚度0.3～1.5mm(各处偏差最大0.1mm)、镜面粗糙度优于RMS0.5nm、低内应力变形小的单次反射或二次反射镜片。本发明在芯轴模具镀金前对其进行自然钝化，减小镀金层与芯轴模具的结合力，有利于脱模；电铸镍镜壳前在芯轴模具两端面贴覆绝缘塑料挡边，控制电铸的边缘效应；电铸时进行内应力监控并采取控制措施，保证电铸层较低的内应力状态；采用增大芯轴模具/镜片降温温差和简易脱模工装分别增加径向和轴向脱模应力，提高脱模成功率。
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公开(公告)号：CN108303857B
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201810073945.4
申请日：2018-01-25
申请人： 北京控制工程研究所
摘要： 一种提高双面光刻一致性的方法、系统和存储介质，研制非标的双面曝光机，采用了水平位置调整装置调整和固定工件的位置，减少曝光过程中的移动，引入了接触力的概念，采用接触力可调整的装置，解决了曝光过程中接触力较小的问题，并可使曝光时的接触力可调。本发明降低了双面曝光机使用时工艺重复性误差，改变了单面曝光机单面对准、单面曝光、中途翻转的方式，解决了小尺寸圆柱形光学零件双面光刻一致性较差的问题，使工件上下两面图形的同轴度≤0.03mm，峰峰值不对称度符合产品技术要求。使双面曝光的一致性误差由原来的不小于0.005mm降低到0.003mm以内。可有效提高双面光刻一致性。
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公开(公告)号：CN106772936B
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：CN201611124355.7
申请日：2016-12-08
申请人： 北京控制工程研究所
摘要： 本发明为一种小型化高精度星敏感器用光学系统，本发明的光学系统采用了准高斯透镜结构，共由6片透镜组成，全部采用球面透镜，第一透镜玻璃采用熔石英材料，使其即可用于校正像差，也可充当光学系统的保护玻璃。本发明光学系统具有宽光谱、大视场、大相对孔径等特点；在较大的光谱范围和视场内具有很小的畸变量，各视场弥散斑能量集中度分布均匀，成像质量良好。系统可以工作于‑50℃到+70℃，可以在各温度点具有良好的像质和离焦量，可以满足工作于空间恶劣温度环境下的高精度星敏感器的姿态测量需求。
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公开(公告)号：CN106772936A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201611124355.7
申请日：2016-12-08
申请人： 北京控制工程研究所
CPC分类号： G02B13/005 , G01C25/00 , G02B27/0012
摘要： 本发明为一种小型化高精度星敏感器用光学系统，本发明的光学系统采用了准高斯透镜结构，共由6片透镜组成，全部采用球面透镜，第一透镜玻璃采用熔石英材料，使其即可用于校正像差，也可充当光学系统的保护玻璃。本发明光学系统具有宽光谱、大视场、大相对孔径等特点；在较大的光谱范围和视场内具有很小的畸变量，各视场弥散斑能量集中度分布均匀，成像质量良好。系统可以工作于‑50℃到+70℃，可以在各温度点具有良好的像质和离焦量，可以满足工作于空间恶劣温度环境下的高精度星敏感器的姿态测量需求。
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公开(公告)号：CN112034579B
公开(公告)日：2022-05-24
申请号：CN202010790094.2
申请日：2020-08-07
申请人： 北京控制工程研究所
IPC分类号： G02B7/00
摘要： 本发明涉及一种基于非共面标记线的柱面镜与码盘玻璃粘接装置和方法，属于光电探测器技术领域。该装置以底座上表面为测量系统坐标系的XOY平面，垂直于XOY平面的坐标轴为测量坐标系的Z轴，二维移动平台位于底座上表面能够沿测量系统坐标系的X轴方向和Y方向移动；码盘柱面镜粘接模具位于二维移动平台上，用于叠放码盘和柱面镜，能够沿测量系统坐标系的X轴方向和Y方向，调整码盘或者柱面镜相对于二维移动平台的位置；立柱垂直安装在底座上，显微镜光学系统和CCD相机安装在立柱上，显微光学系统用于对叠放的码盘和柱面镜成像，CCD相机的镜头对准显微光学系统的目镜，用于对显微光学系统所成的图像进行光电转换，并上传至计算机。
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公开(公告)号：CN110079838B
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN201910329836.9
申请日：2019-04-23
申请人： 北京控制工程研究所
摘要： 本发明涉及一种基于电铸镍复制制造掠入射软X射线反射镜片的工艺，工艺流程为芯轴模具镀金→电铸镍镜壳→镜片端面修平→镜片脱模，可以获得厚度0.3～1.5mm(各处偏差最大0.1mm)、镜面粗糙度优于RMS0.5nm、低内应力变形小的单次反射或二次反射镜片。本发明在芯轴模具镀金前对其进行自然钝化，减小镀金层与芯轴模具的结合力，有利于脱模；电铸镍镜壳前在芯轴模具两端面贴覆绝缘塑料挡边，控制电铸的边缘效应；电铸时进行内应力监控并采取控制措施，保证电铸层较低的内应力状态；采用增大芯轴模具/镜片降温温差和简易脱模工装分别增加径向和轴向脱模应力，提高脱模成功率。
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公开(公告)号：CN110125615B
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：CN201910329799.1
申请日：2019-04-23
申请人： 北京控制工程研究所
IPC分类号： B23P15/00
摘要： 本发明涉及用于复制制造掠入射反射镜片的亚纳米级芯轴及制造工艺，该芯轴由镜片复制段和其两端面的夹头段组成，芯轴上设有盲孔，该盲孔沿芯轴轴线贯穿小端夹头段和镜片复制段，所述芯轴一端夹头段沿芯轴轴线平行的方向设有制造工艺各步骤通用的统一装夹接口，另一端夹头段沿与芯轴轴线垂直的方向设有制造工艺各步骤通用的统一装夹接口。制造工艺包括：根据芯轴双夹头接口及内部结构进行芯轴的粗加工，然后进行高低温处理，其后精密车削，然后超精密车削，然后在芯轴表面镀镍磷合金，然后再次进行超精密车削，然后进行磁流变修形抛光以及手动保形抛光，完成掠入射亚纳米级芯轴的加工。本发明保证了芯轴的亚纳米级表面精度并可提高后续反射镜片脱模的成功率。
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公开(公告)号：CN112034579A
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：CN202010790094.2
申请日：2020-08-07
申请人： 北京控制工程研究所
IPC分类号： G02B7/00
摘要： 本发明涉及一种基于非共面标记线的柱面镜与码盘玻璃粘接装置和方法，属于光电探测器技术领域。该装置以底座上表面为测量系统坐标系的XOY平面，垂直于XOY平面的坐标轴为测量坐标系的Z轴，二维移动平台位于底座上表面能够沿测量系统坐标系的X轴方向和Y方向移动；码盘柱面镜粘接模具位于二维移动平台上，用于叠放码盘和柱面镜，能够沿测量系统坐标系的X轴方向和Y方向，调整码盘或者柱面镜相对于二维移动平台的位置；立柱垂直安装在底座上，显微镜光学系统和CCD相机安装在立柱上，显微光学系统用于对叠放的码盘和柱面镜成像，CCD相机的镜头对准显微光学系统的目镜，用于对显微光学系统所成的图像进行光电转换，并上传至计算机。
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公开(公告)号：CN110125615A
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201910329799.1
申请日：2019-04-23
申请人： 北京控制工程研究所
IPC分类号： B23P15/00
摘要： 本发明涉及用于复制制造掠入射反射镜片的亚纳米级芯轴及制造工艺，该芯轴由镜片复制段和其两端面的夹头段组成，芯轴上设有盲孔，该盲孔沿芯轴轴线贯穿小端夹头段和镜片复制段，所述芯轴一端夹头段沿芯轴轴线平行的方向设有制造工艺各步骤通用的统一装夹接口，另一端夹头段沿与芯轴轴线垂直的方向设有制造工艺各步骤通用的统一装夹接口。制造工艺包括：根据芯轴双夹头接口及内部结构进行芯轴的粗加工，然后进行高低温处理，其后精密车削，然后超精密车削，然后在芯轴表面镀镍磷合金，然后再次进行超精密车削，然后进行磁流变修形抛光以及手动保形抛光，完成掠入射亚纳米级芯轴的加工。本发明保证了芯轴的亚纳米级表面精度并可提高后续反射镜片脱模的成功率。
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公开(公告)号：CN108303857A
公开(公告)日：2018-07-20
申请号：CN201810073945.4
申请日：2018-01-25
申请人： 北京控制工程研究所
摘要： 一种提高双面光刻一致性的方法、系统和存储介质，研制非标的双面曝光机，采用了水平位置调整装置调整和固定工件的位置，减少曝光过程中的移动，引入了接触力的概念，采用接触力可调整的装置，解决了曝光过程中接触力较小的问题，并可使曝光时的接触力可调。本发明降低了双面曝光机使用时工艺重复性误差，改变了单面曝光机单面对准、单面曝光、中途翻转的方式，解决了小尺寸圆柱形光学零件双面光刻一致性较差的问题，使工件上下两面图形的同轴度≤0.03mm，峰峰值不对称度符合产品技术要求。使双面曝光的一致性误差由原来的不小于0.005mm降低到0.003mm以内。可有效提高双面光刻一致性。
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