一种量子阱红外探测器焦平面的制备方法

    公开(公告)号:CN1787234A

    公开(公告)日:2006-06-14

    申请号:CN200510027144.7

    申请日:2005-06-24

    IPC分类号: H01L31/18

    CPC分类号: Y02P70/521

    摘要: 一种量子阱红外探测器(QWIP)焦平面(FPA)的制备方法,制备从两异质晶片,硅晶片和GaAs晶片开始,硅晶片和GaAs晶片上分别制有硅基读出集成电路和终止层、下电极层、量子阱层、上电极层、二维光栅,首先用化学机械平坦化工艺,使制有硅基读出集成电路的硅晶片的表面光滑、平整、清洁,接着在把同样光滑、平整、清洁的GaAs晶片的上电极与硅晶片上的对应的金属电极对位,用低温异质晶片键合方法对两晶片进行预键合、低温热处理,直至两晶片键合在一起,然后减薄GaAs晶片的籿底,选择刻蚀蚀去剩余的籿底,用腐蚀液蚀去终止层,最后完成量子阱红外探测器与硅基读出集成电路对应电极的连接,得产品,量子阱红外探测器焦平面。该方法具有制造成本低、产品机械强度高和可靠性好等优点。

    一种量子阱红外探测器焦平面的制备方法

    公开(公告)号:CN100442545C

    公开(公告)日:2008-12-10

    申请号:CN200510027144.7

    申请日:2005-06-24

    IPC分类号: H01L31/18

    CPC分类号: Y02P70/521

    摘要: 一种量子阱红外探测器(QWIP)焦平面(FPA)的制备方法,制备从两异质晶片,硅晶片和GaAs晶片开始,硅晶片和GaAs晶片上分别制有硅基读出集成电路和终止层、下电极层、量子阱层、上电极层、二维光栅,首先用化学机械平坦化工艺,使制有硅基读出集成电路的硅晶片的表面光滑、平整、清洁,接着在把同样光滑、平整、清洁的GaAs晶片的上电极与硅晶片上的对应的金属电极对位,用低温异质晶片键合方法对两晶片进行预键合、低温热处理,直至两晶片键合在一起,然后减薄GaAs晶片的衬底,选择刻蚀蚀去剩余的衬底,用腐蚀液蚀去终止层,最后完成量子阱红外探测器与硅基读出集成电路对应电极的连接,得产品,量子阱红外探测器焦平面。该方法具有制造成本低、产品机械强度高和可靠性好等优点。

    基于步进扫描的红外调制光致发光谱的方法及装置

    公开(公告)号:CN1804591A

    公开(公告)日:2006-07-19

    申请号:CN200610023133.6

    申请日:2006-01-06

    IPC分类号: G01N21/64 G01N21/88

    摘要: 一种基于步进扫描的红外调制光致发光谱的方法及装置,该装置包括傅立叶变换红外光谱测量系统、作为激发光源的激光器、以及联结傅立叶变换红外光谱仪中探测器与电路控制板的锁相放大器、置于样品与激光器之间光路上的斩波器,从而使连续激发光变为调制激发光,并馈入锁相放大器的输入参考端来控制锁相。该方法使用上述装置进行红外调制光致发光谱测量,包括消除室温背景辐射;消除傅立叶频率和增强中、远红外波段光致发光微弱信号的探测能力三个功能。经过对低x组分Hg1-xCdxTe材料光致发光谱的测试,表明:本发明显著提高探测灵敏度和光谱信噪比,并具有快速、便捷的优点,特别适用于中、远红外光电材料微弱光致发光特性的检测。

    单色仪分光红外椭圆偏振光谱仪

    公开(公告)号:CN1095539C

    公开(公告)日:2002-12-04

    申请号:CN99113698.5

    申请日:1999-05-13

    IPC分类号: G01J3/447

    摘要: 一种单色仪分光红外椭圆偏振光谱仪,包括沿着光源发射的测量光束c前进方向上,依次置有聚光镜,调制盘,作为分光元件的红外单色仪,光束准直元件,由固定和旋转两起偏器构成相对待测样品为入射光臂的起偏器。待测样品被吸附在垂直于水平方向装在置于转台上的调节样品架上的样品吸附板上。检偏器与探测器构成相对于待测样品的带步进马达的出射光臂。探测器的输出通过前置和锁向两放大器与计算机相联。红外椭偏光谱测量准确到10-3量级。

    镧锶钴氧导电薄膜材料的制备方法

    公开(公告)号:CN1327085A

    公开(公告)日:2001-12-19

    申请号:CN01112710.4

    申请日:2001-04-25

    IPC分类号: C23C18/02 C23C18/12

    摘要: 本发明提供了一种镧锶钴氧导电薄膜材料的制备方法,该方法包括先驱体溶液的配制,即将溶剂醋酸、去离子水、乙酰丙酮和溶质醋酸镧、醋酸锶和醋酸钴以0.2-0.4M的浓度在一定的温度下混合和将配制好的先驱体溶液用匀胶机甩开得到干膜,然后在快速热退火炉中分段升温进行热处理,得到所需厚度的LSCO薄膜材料。该薄膜性能优良,电阻率值为0.95mΩ·cm,晶粒尺寸为50~100nm,表面粗糙度为2.7nm,用该薄膜做铁电存储器的电极经标准铁电测量系统测试,3×109次翻转后不显示疲劳。表明此薄膜材料适合做铁电存储器的电极。

    镍酸镧导电金属氧化物薄膜材料的制备方法

    公开(公告)号:CN1152439C

    公开(公告)日:2004-06-02

    申请号:CN01139083.2

    申请日:2001-12-07

    摘要: 本发明提供了一种镍酸镧导电金属氧化物薄膜材料的制备方法,该方法包括:前驱体溶液的配制,即将溶剂醋酸、去离子水和添加剂甲酰胺与溶质醋酸镍、硝酸镧以0.3M的浓度在一定的温度下混合得到前驱体溶液和薄膜材料的制备,即将配制好的前驱体溶液采用旋转镀膜方式在基片上得到凝胶膜,然后在快速退火炉中分段进行热处理,形成薄膜材料。用该方法得到的薄膜具有高度的择优取向和良好的金属特性,在室温下的电阻率约为7.6×10-4Ωcm。用该薄膜可在其上制备出高质量的铁电薄膜材料或可作为铁电薄膜器件的底电极。