TA15合金表面反应磁控溅射制备AlN/AlCrN薄膜的方法

    公开(公告)号:CN108193181B

    公开(公告)日:2019-10-01

    申请号:CN201810128781.0

    申请日:2018-02-08

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/06 C23C14/02

    摘要: 本发明涉及一种TA15合金表面反应磁控溅射制备AlN/AlCrN薄膜的方法,选用TA15钛合金试样作为基体,以Al靶和AlCr合金靶(70at%Al‑30at%Cr)为溅射靶材,以氩气为工作气体,氮气为反应气体,采用磁控溅射方法在TA15合金试样表面制备出AlN/AlCrN薄膜;AlN/AlCrN薄膜厚度为3~6μm,硬度为25.69~32.18GPa;制备方法依次包括装炉、抽真空、通氩气、起辉、通氮气、保温和出炉等步骤。本发明制备得到的AlN/AlCrN薄膜与TA15基体结合良好,可有效提高钛合金表面摩擦磨损性能。

    一种Q235钢表面耐海洋污损渗铜层及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN109338324A

    公开(公告)日:2019-02-15

    申请号:CN201811423902.0

    申请日:2018-11-27

    IPC分类号: C23C14/46 C23C14/16 C23C10/08

    摘要: 本发明公开一种Q235钢表面耐海洋污损渗铜层及其制备方法与应用。该渗铜层是通过双辉等离子表面技术获得沉积在Q235钢表面上,所述渗铜层包括由Q235钢表面向外方向的扩散层和Cu沉积层;所述扩散层的厚度为20-40μm,扩散层中铜呈梯度分布,且含量逐步下降;所述Cu沉积层的厚度为60-100μm,且铜含量高达80%。上述Q235钢表面耐海洋污损渗铜层在制备海洋石油平台,码头、海底管道、储油罐或海水淡化装置中应用。本发明制得的渗铜防护涂层与Q235钢基体结合性能优越,整个涂层由外部较疏松的沉积层和内部致密的扩散层组成,实现了涂层与基体的冶金结合,能够在海洋服役条件下有效保护Q235钢。

    一种TA15合金表面抗冲蚀磨损CrAlN-CrAl涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN110257787B

    公开(公告)日:2021-11-30

    申请号:CN201910525285.3

    申请日:2019-06-18

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/06 C23C14/16

    摘要: 本发明公开了一种TA15合金表面抗冲蚀磨损CrAlN‑CrAl涂层及其制备方法。该涂层是指在TA15合金表面采用射频磁控溅射技术依次沉积CrAl中间层和CrAlN沉积层,所述CrAlN沉积层的厚度为3~5μm;所述CrAl中间层的厚度在5~10μm,其中,CrAlN沉积层中Cr和N含量随着与CrAlN涂层的表层距离增加而降低,Al含量则是从CrAlN涂层的表层向TA15合金方向先增加后减小。利用本发明方法制备的涂层与合金具有良好的结合力,在改善基体抗冲蚀磨损性的同时也使改性层与基体具有良好的结合能力,避免涂层在服役过程中发生脱落,从而起到保护工件,延长工件寿命的效果。

    一种TA15合金表面耐磨Nb-N共渗层及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN109554667B

    公开(公告)日:2021-05-28

    申请号:CN201811473601.9

    申请日:2018-12-04

    摘要: 本发明公开一种TA15合金表面耐磨Nb‑N共渗层及其制备方法与应用。该Nb‑N共渗层采用双层辉光等离子冶金技术获得沉积在TA15合金表面的Nb‑N共渗层,所述Nb‑N共渗层包括由TA15合金表面向外的扩散层和沉积层,所述沉积层厚度为6‑8μm;所述扩散层为2‑3μm,所述扩散层中Nb‑N含量从扩散层的表面向TA15合金内部逐渐降低。上述TA15合金表面耐磨Nb‑N共渗层在汽车,航空等工业中应用。本发明制得的Nb‑N共渗层与TA15合金基体结合性能优越,整个涂层由外部的沉积层和内部的扩散层组成,实现了涂层与基体的冶金结合,能够在服役过程中有效保护TA15合金。

    TA15合金表面反应磁控溅射制备AlN/AlCrN薄膜的方法

    公开(公告)号:CN108193181A

    公开(公告)日:2018-06-22

    申请号:CN201810128781.0

    申请日:2018-02-08

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/06 C23C14/02

    摘要: 本发明涉及一种TA15合金表面反应磁控溅射制备AlN/AlCrN薄膜的方法,选用TA15钛合金试样作为基体,以Al靶和AlCr合金靶(70at%Al-30at%Cr)为溅射靶材,以氩气为工作气体,氮气为反应气体,采用磁控溅射方法在TA15合金试样表面制备出AlN/AlCrN薄膜;AlN/AlCrN薄膜厚度为3~6μm,硬度为25.69~32.18GPa;制备方法依次包括装炉、抽真空、通氩气、起辉、通氮气、保温和出炉等步骤。本发明制备得到的AlN/AlCrN薄膜与TA15基体结合良好,可有效提高钛合金表面摩擦磨损性能。

    一种适用于等离子多元渗金属的格栅状靶材

    公开(公告)号:CN116083863A

    公开(公告)日:2023-05-09

    申请号:CN202211548481.0

    申请日:2022-12-05

    IPC分类号: C23C14/34 C23C14/06

    摘要: 本发明公开了一种适用于等离子多元渗金属的格栅状靶材。本发明通过串联多种不同元素的纯金属片,并利用空心阴极效应,使用简单的工装设计实现多元素源极靶材的制备,以满足简易、高效、多元、环保的要求。本发明涉及的多元格栅状靶材是由不锈钢棒和多片长方形片状纯金属串联组成,相邻金属片之间的间距为5~25 mm且金属片表面至少由两个通孔。本发明可通过调节金属片的元素成分、数量和装配位置来调控靶材溅射的成分均匀性,用于解决多种元素等离子渗金属用靶材制备困难、成本高、溅射率不足的问题。