微光刻投射曝光装置中的组件

    公开(公告)号:CN110515275B

    公开(公告)日:2021-11-02

    申请号:CN201910428675.9

    申请日:2019-05-22

    摘要: 本发明关于在微光刻投射曝光装置中的组件,其具有光学元件(100、200)、至少一个重量补偿装置以及具有多个线圈(151a、151b、151c、152a、152b、152c、251a、251b、251c、252a、252b、252c)的线圈配置,其中至少一个重量补偿装置包含至少一个磁路,由此磁路所产生的磁场引起力,用于至少部分地补偿作用在光学元件上的重量的力,以及其中线圈配置可由电流来赋能以产生作用于光学元件上的补偿力,此补偿力至少部分地补偿当光学元件移动时由磁路所施加的寄生力且对作用在光学元件上的重量的力的补偿无贡献。

    基于频率确定部件的位置的测量组件

    公开(公告)号:CN112204471A

    公开(公告)日:2021-01-08

    申请号:CN201980034620.8

    申请日:2019-04-30

    IPC分类号: G03F7/20 G01B11/14 G01B9/02

    摘要: 本发明涉及一种特别是在微光刻的光学系统中基于频率确定部件的位置的测量组件,其包括至少一个光学谐振器,所述谐振器包括固定的第一谐振器反射镜、与所述部件相关联的可移动测量目标、和固定的第二谐振器反射镜,所述第二谐振器反射镜由逆向反射镜(130、330、430、530)形成,所述逆向反射镜使来自所述测量目标的测量束反射回其本身。

    用于致动光学系统中的至少一个光学元件的装置

    公开(公告)号:CN108519672A

    公开(公告)日:2018-09-11

    申请号:CN201810319528.3

    申请日:2013-11-07

    发明人: M.豪夫 A.沃格勒

    IPC分类号: G02B26/08 G03F7/20 G02B7/182

    摘要: 本发明涉及一种用于致动光学系统、尤其是投射曝光设备的光学系统中的光学元件的装置,其中,所述光学元件(101)通过具有接合件刚度的至少一个接合件(102)能够关于至少一个倾斜轴线倾斜,所述装置包含用于对所述光学元件(101)施加力的至少一个致动器(104),其中,所述致动器(104)具有致动器刚度,其至少部分地补偿所述接合件刚度。

    微光刻投射曝光装置中的组件

    公开(公告)号:CN110515275A

    公开(公告)日:2019-11-29

    申请号:CN201910428675.9

    申请日:2019-05-22

    摘要: 本发明关于在微光刻投射曝光装置中的组件,其具有光学元件(100、200)、至少一个重量补偿装置以及具有多个线圈(151a、151b、151c、152a、152b、152c、251a、251b、251c、252a、252b、252c)的线圈配置,其中至少一个重量补偿装置包含至少一个磁路,由此磁路所产生的磁场引起力,用于至少部分地补偿作用在光学元件上的重量的力,以及其中线圈配置可由电流来赋能以产生作用于光学元件上的补偿力,此补偿力至少部分地补偿当光学元件移动时由磁路所施加的寄生力且对作用在光学元件上的重量的力的补偿无贡献。