公开(公告)号：CN118369620A

公开(公告)日：2024-07-19

申请号：CN202280081250.5

申请日：2022-12-02

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： M·曼格 ,  R·克里斯特

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/00

Abstract: 本发明涉及一种用于校准微光刻投射曝光设备(110)的可操纵光学模块(12)的方法，该模块包括至少一个操纵元件(16)，用于设置光学模块的光学特性的至少一维局部变化轮廓(18)。该方法包括以下步骤:将随时间变化的激励信号(43)施加到所述至少一个操纵元件；通过测量装置(40)测量在激励信号变化期间不同时间产生的特定局部变化轮廓(18)来确定原始测量数据集(62)；在原始测量数据集的变化轮廓(18)中估计由激励信号(43)的时间变化引起的随时间变化的缩放(73)；通过将随时间变化的缩放(73)拟合到原始测量数据集的变化轮廓(18)来确定光学特性的全效应轮廓(64)；以及基于全效应轮廓(64)确定可操纵光学模块的校准数据(64，66)。

公开(公告)号：CN119998733A

公开(公告)日：2025-05-13

申请号：CN202380069495.0

申请日：2023-09-19

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： J·利珀特 ,  S·赫姆巴彻 ,  M·曼格 ,  M·拉布 ,  A·拉巴 ,  J·韦伯 ,  M·比克森许茨

IPC: G03F7/20 ,  G02B7/00 ,  G01K7/16 ,  G01K11/3206

Abstract: 本发明涉及一种反射镜装置，特别是用于微光刻投射曝光系统的反射镜装置，包括反射镜(20)、传感器单元(41、42、44、47、49)和控制单元(38)。反射镜(20)包括反射镜本体(23)和设置在反射镜本体(23)上的反射表面(24)。传感器单元(41、42、44、47、49)包括传感器元件(41、49)和信号路径(50)，所述信号路径(50)延伸到所述控制单元(38)，以便将表示传感器元件(41、49)的温度的测量信号传输到控制单元(38)。传感器元件(41、49)设置在反射镜体(23)的基板中，传感器元件包括集成在反射镜体(23)的基板中的多个电导体路径(41)，并且电导体路径(41)形成多个交叉点(51)，并且所述电导体路径(41)在交叉点(51)处彼此导电连接。本发明还涉及一种用于测量反射镜(20)的温度的方法。

公开(公告)号：CN119998726A

公开(公告)日：2025-05-13

申请号：CN202380068851.7

申请日：2023-09-14

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： A·拉巴 ,  M·曼格 ,  H·M·史蒂潘 ,  J·韦伯

IPC: G03F7/00

Abstract: 本发明涉及一种反射镜装置，特别是用于微光刻投射曝光系统的反射镜装置，包括反射镜(20)、传感器单元(26)和控制单元(38)。反射镜(20)包括反射镜本体(23)和设置在反射镜本体(23)上的反射表面(24)。传感器单元(26)被设计成检测由反射镜本体(23)发出的红外辐射，以便从其导出温度测量值，并将温度测量值发送到控制单元(38)。反射镜(20)包括具有增加的红外辐射发射率的目标(37)。本发明还涉及一种用于测量反射镜(20)的温度的方法。

公开(公告)号：CN117377913A

公开(公告)日：2024-01-09

申请号：CN202280037833.8

申请日：2022-05-20

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： M·拉布 ,  S·特罗格 ,  S·比莱迪斯特尔 ,  T·波拉克 ,  A·沃格勒 ,  K·格沃施 ,  A·柯尼格 ,  M·曼格

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种用于光刻系统(100，200)的光学装置(1)，具有包括光学表面(3)的至少一个光学元件(2)并且具有用于使所述光学表面(3)变形的一个或多个致动器(4)。根据本发明，提供应变仪设备(5)用于确定所述光学表面(3)的变形，所述应变仪设备(5)包括至少一根光纤(6)并且光纤(6)保持偏振。

公开(公告)号：CN116209939A

公开(公告)日：2023-06-02

申请号：CN202180051929.5

申请日：2021-08-02

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： M·拉布 ,  A·拉巴 ,  J·利珀特 ,  M·曼格

IPC: G02B26/06

Abstract: 本发明涉及一种用于半导体光刻的光学组件(20)，包括光学元件(21)和用于使光学元件(21)变形的致动器(26.4)，其中致动器(26.4)由至少三个截面段(27)构成。在这种情况下具有可在不同情况下借助于控制器控制的至少第一组(31)和第二组(32)的截面段(27)，其中第一组(31)用于粗略致动，第二组(32)用于精细致动。控制器(29)被配置成彼此独立地控制组(31、32)以及共同地控制组(31、32)中的截面段(27)。控制器还被配置成可变地设置每组(31、32)中共同控制的截面段(27)的数量。此外，本发明涉及配备有根据本发明的组件(20)的投射曝光设备(1、101)，并且涉及用于控制光学组件(20)的方法。

公开(公告)号：CN119547015A

公开(公告)日：2025-02-28

申请号：CN202380051942.X

申请日：2023-05-23

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： D·巴德 ,  M·曼格 ,  M·拉布 ,  A·拉巴

IPC: G03F7/00

Abstract: 本发明涉及一种用于半导体光刻的投射曝光系统(1、101)的光学元件(Mx、117)，该光学元件包括基座元件(30)和连接到基座元件(30)的至少一个致动器(40)，其中致动器(40)被设计为环形致动器。本发明还涉及一种用于半导体光刻的投射曝光系统，其设置有对应的光学元件，以及一种光学元件，其包括用于确定光学有效表面的变形的传感器，其中传感器被设计为检测允许与光学有效表面的变形相关的信号。

公开(公告)号：CN118151496A

公开(公告)日：2024-06-07

申请号：CN202410080506.1

申请日：2019-04-30

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： M·曼格 ,  A·凯尼格 ,  A·沃格勒

IPC: G03F7/20 ,  G01B9/02018 ,  G01B9/02017 ,  G01B9/02001 ,  G01B9/02003

Abstract: 本发明涉及一种特别是在微光刻的光学系统中基于频率确定部件的位置的测量组件，其包括至少一个光学谐振器，所述谐振器包括固定的第一谐振器反射镜、与所述部件相关联的可移动测量目标、和固定的第二谐振器反射镜，所述第二谐振器反射镜由逆向反射镜(130、330、430、530)形成，所述逆向反射镜使来自所述测量目标的测量束反射回其本身。