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    加热设备及用于加热光学元件的方法
    3.
    发明公开
    加热设备及用于加热光学元件的方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN117859100A

    公开(公告)日：2024-04-09

    申请号：CN202280042769.2

    申请日：2022-04-05

    申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    发明人： S·贝德 ,  M·卡利斯基

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B7/00 ,  G02B7/18

    摘要： 本发明系关于加热设备及用于加热光学元件的方法，尤其是一种微光刻投影曝光装置。一种根据本发明的加热设备包含至少一个光束成形单元(12、22、32、42、52、54)，用于对从辐射源引导到至少一个光学元件(25、35、45、55a、55b)的电磁辐射进行光束成形；以及传感器设备，其具有至少一个强度传感器(13、23、33a、33b、43、53)，其中该至少一个光束成形单元包含至少一个微结构元件，当该加热设备处于操作时，该微结构元件将一些电磁辐射引导到该传感器设备。

    微光刻曝光系统的光学系统
    4.
    发明授权
    微光刻曝光系统的光学系统 有权

    公开(公告)号：CN101263432B

    公开(公告)日：2011-07-27

    申请号：CN200680033920.7

    申请日：2006-09-13

    申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    发明人： M·托特泽克 ,  S·贝德 ,  W·克劳斯 ,  H·费尔德曼 ,  D·克拉默 ,  A·多多克

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G02B5/3083 ,  G02B27/286 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70966

    摘要： 根据本发明的一个方面，一种光学系统，特别是微光刻曝光系统的照明系统或投影透镜，具有光学系统轴(0A)和由三个双折射元件(211，212，213)构成的至少一个元件组(200)，每个双折射元件由光学单轴材料制成并具有非球面，其中所述组的第一双折射元件(211)具有其光学晶轴的第一取向；所述组的第二双折射元件(212)具有其光学晶轴的第二取向，其中所述第二取向能够被描述为由所述第一取向的旋转形成，所述旋转不对应于绕光学系统轴旋转90°或其整数倍的角的旋转；所述组的第三双折射元件(213)具有其光学晶轴的第三取向，其中所述第三取向能够被描述为由所述第二取向的旋转形成，所述旋转不对应于绕光学系统轴旋转90°或其整数倍的角的旋转。