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公开(公告)号：CN104204299A
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201380015937.X
申请日：2013-07-22
Applicant: 古河电气工业株式会社
CPC classification number: C23C22/68 , C23F11/149 , H01M4/13 , H01M4/66
Abstract: 本发明提供一种提高对电阻焊接的适应性从而提高生产率的表面处理铜箔、锂离子二次电池用负极以及锂离子二次电池。本发明提供一种表面处理铜箔，其特征在于，利用XPS(X射线光电子能谱分析)测得的铜箔的深度方向上的碳和氮的元素含有率(原子％)的合计在最外层表面为最大，且在该碳和氮的元素含有率(原子％)的合计为最外层表面的半值的深度，碳和氮的元素含有率(原子％)的合计在该铜箔的深度方向上的减少度为50％/nm以上，并且JIS-K7194：1994中规定的表面电阻为2.5～40mΩ。
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公开(公告)号：CN112805414B
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN201980063727.5
申请日：2019-09-18
Applicant: 古河电气工业株式会社 , 株式会社村田制作所
Abstract: 本发明提供一种具备优异的激光加工性的表面处理铜箔。其是对表面进行粗化处理形成粗化面的表面处理铜箔，使用三维粗糙度测量仪测定的粗化面的表面偏度Ssk在‑0.300以上且小于0的范围内，并且，顶点曲率算术平均值Ssc在0.0220nm‑1以上且小于0.0300nm‑1的范围内。
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公开(公告)号：CN104508878B
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201480001959.5
申请日：2014-04-24
Applicant: 古河电气工业株式会社
IPC: H01M4/66
CPC classification number: H01M4/661 , H01M4/667 , H01M10/052
Abstract: 本发明将改善铜箔(集电体)与活性物质之间的密合性以及铜箔的防锈性，提供一种锂离子二次电池负极集电体用电解铜箔以及使用该铜箔作为负极集电体的锂离子二次电池。本发明所述铜箔中含有的杂质，即碳、硫、氧、氮、氯的含量总计为20ppm以下，更优选为10ppm以下，且通过XPS(X射线光电子能谱分析)检测出的大于氮及碳背景值的深度范围为0.2nm以上，不足2.0nm，更优选为0.2nm以上1.0nm以下。该铜箔在铜箔表面形成有机防锈皮膜，NMP(N-甲基吡咯酮)接触角为15°以下。
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公开(公告)号：CN107078305B
公开(公告)日：2020-06-12
申请号：CN201680003056.X
申请日：2016-01-18
Applicant: 古河电气工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种通过提高铜箔加热时的防卷缩特性来防止活性物质的剥离的锂离子二次电池用表面处理电解铜箔、使用该铜箔的锂离子二次电池用电极以及使用该铜箔作为集电体的锂离子二次电池。一种锂离子二次电池用表面处理电解铜箔、使用该铜箔的锂离子二次电池用电极以及锂离子二次电池，其特征在于，加热180℃×1小时后，室温下测定的表面氧化皮膜的第一平台期电位区域中的最大电位在光泽面与无光泽面这两个面中以饱和甘汞电极作为基准电极均为‑800mV以下。
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公开(公告)号：CN110546313A
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：CN201880026487.7
申请日：2018-04-18
Applicant: 古河电气工业株式会社
Abstract: 本发明题为“表面处理铜箔”。本发明的目的在于：消除铜箔与树脂的压制接合导致的粘接不良，该铜箔利用烯烃系硅烷偶联剂对铜箔的粗化处理面实施了硅烷偶联处理而成。本发明是一种表面处理铜箔，其中，在利用接触式粗糙度测定器进行测定时，粗化处理层侧的面的表面粗糙度Rz为1.10μm以下，并且所述粗化处理侧的面的最小自相关长度Sal为0.20μm以上且0.85μm以下，并且所述粗化处理侧的面的界面扩展面积比(Sdr)为20％至300％的范围。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110832120A
公开(公告)日：2020-02-21
申请号：CN201880022508.8
申请日：2018-03-29
Applicant: 古河电气工业株式会社 , 株式会社村田制作所
Abstract: 本发明题为“表面处理铜箔、以及使用该表面处理铜箔的覆铜板及印刷电路布线板”。本发明的表面处理铜箔(11)具有表面处理覆膜，所述表面处理覆膜至少包含在铜箔基体的至少一个面形成有粗化粒子(111)的粗化处理表面。在通过扫描式电子显微镜对该表面处理铜箔(11)的剖面进行观察时，在表面处理覆膜的表面，粗化粒子(111)的粒子高度的标准偏差为0.16μm以上且0.30μm以下，且粗化粒子(111)的粒子高度与粒子宽度之比(粒子高度/粒子宽度)的平均值为2.30以上且4.00以下。
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公开(公告)号：CN107078305A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201680003056.X
申请日：2016-01-18
Applicant: 古河电气工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种通过提高铜箔加热时的防卷缩特性来防止活性物质的剥离的锂离子二次电池用表面处理电解铜箔、使用该铜箔的锂离子二次电池用电极以及使用该铜箔作为集电体的锂离子二次电池。一种锂离子二次电池用表面处理电解铜箔、使用该铜箔的锂离子二次电池用电极以及锂离子二次电池，其特征在于，加热180℃×1小时后，室温下测定的表面氧化皮膜的第一平台期电位区域中的最大电位在光泽面与无光泽面这两个面中均为‑800mV以下(vs.SCE)。
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公开(公告)号：CN103348041B
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201280004436.7
申请日：2012-07-30
Applicant: 古河电气工业株式会社
CPC classification number: C25D3/56 , C22C1/02 , C22C9/00 , C25D1/04 , C25D3/58 , C25D7/0614 , H01M4/134 , H01M4/662 , H01M10/052 , H05K3/022
Abstract: 本发明提供一种电解铜合金箔，其在通常状态下的机械强度大，且即使加热到300℃以上也难以发生热劣化。该电解铜箔含有钨，且剩余部分由铜构成。优选地，该电解铜箔是在铜箔中引入钨作为铜合金，在常温下的拉伸强度为650MPa以上，在300℃×1小时热处理后的拉伸强度为450MPa以上，导电率为80%以上。进一步优选地，电解铜箔在常温下的延展率为2.5%以上，300℃×1小时后的延展率为3.5%以上。该电解铜箔是在硫酸‑硫酸铜类电解液中添加硫脲类化合物、钨盐、氯离子，通过电解沉积而制得的。
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公开(公告)号：CN103348041A
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201280004436.7
申请日：2012-07-30
Applicant: 古河电气工业株式会社
CPC classification number: C25D3/56 , C22C1/02 , C22C9/00 , C25D1/04 , C25D3/58 , C25D7/0614 , H01M4/134 , H01M4/662 , H01M10/052 , H05K3/022
Abstract: 本发明提供一种电解铜合金箔，其在通常状态下的机械强度大，且即使加热到300℃以上也难以发生热劣化。该电解铜箔含有钨，且剩余部分由铜构成。优选地，该电解铜箔是在铜箔中引入钨作为铜合金，在常温下的拉伸强度为650MPa以上，在300℃×1小时热处理后的拉伸强度为450MPa以上，导电率为80%以上。进一步优选地，电解铜箔在常温下的延展率为2.5%以上，300℃×1小时后的延展率为3.5%以上。该电解铜箔是在硫酸-硫酸铜类电解液中添加硫脲类化合物、钨盐、氯离子，通过电解沉积而制得的。
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公开(公告)号：CN110832120B
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN201880022508.8
申请日：2018-03-29
Applicant: 古河电气工业株式会社 , 株式会社村田制作所
Abstract: 本发明题为“表面处理铜箔、以及使用该表面处理铜箔的覆铜板及印刷电路布线板”。本发明的表面处理铜箔(11)具有表面处理覆膜，所述表面处理覆膜至少包含在铜箔基体的至少一个面形成有粗化粒子(111)的粗化处理表面。在通过扫描式电子显微镜对该表面处理铜箔(11)的剖面进行观察时，在表面处理覆膜的表面，粗化粒子(111)的粒子高度的标准偏差为0.16μm以上且0.30μm以下，且粗化粒子(111)的粒子高度与粒子宽度之比(粒子高度/粒子宽度)的平均值为2.30以上且4.00以下。
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