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公开(公告)号：CN103314474B
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201180062654.1
申请日：2011-12-27
Applicant: 古河电气工业株式会社
CPC classification number: H05K1/09 , C22F1/08 , C23C22/24 , C25D1/04 , C25D3/38 , C25D5/10 , C25D5/16 , C25D5/48 , C25D7/0614 , H01M4/0404 , H01M4/043 , H01M4/0471 , H01M4/133 , H01M4/134 , H01M4/1395 , H01M4/661 , H01M4/667 , H01M10/0525 , H01M2004/021 , H05K2201/0355 , H05K2203/0307 , H05K2203/1105 , Y02E60/122 , Y10T428/12431
Abstract: 本发明提供一种锂离子二次电池负极用电解铜箔，利用其可制作即使重复充放电循环容量保持率也不会降低、寿命长、负极集流体不会变形的锂离子二次电池。构成锂离子二次电池的负极集流体的电解铜箔，其200～400℃下加热处理后的0.2%的屈服强度为250N/mm2以上，伸长率为2.5%以上，在电解铜箔的设置活性物质层的表面被实施过防锈处理或者被实施过粗化处理和防锈处理。另外，作为二次离子质谱仪（SIMS）对铜箔的厚度方向的深度剖面（深度方向）进行分析的结果，含有浓度各为1017～5×1020原子/cm3的氯（Cl）、碳（C）、氧（O），并且含有浓度各为1015～1019原子/cm3的硫（S）以及氮（N）。
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公开(公告)号：CN104508878B
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201480001959.5
申请日：2014-04-24
Applicant: 古河电气工业株式会社
IPC: H01M4/66
CPC classification number: H01M4/661 , H01M4/667 , H01M10/052
Abstract: 本发明将改善铜箔(集电体)与活性物质之间的密合性以及铜箔的防锈性，提供一种锂离子二次电池负极集电体用电解铜箔以及使用该铜箔作为负极集电体的锂离子二次电池。本发明所述铜箔中含有的杂质，即碳、硫、氧、氮、氯的含量总计为20ppm以下，更优选为10ppm以下，且通过XPS(X射线光电子能谱分析)检测出的大于氮及碳背景值的深度范围为0.2nm以上，不足2.0nm，更优选为0.2nm以上1.0nm以下。该铜箔在铜箔表面形成有机防锈皮膜，NMP(N-甲基吡咯酮)接触角为15°以下。
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公开(公告)号：CN105492660A
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201480042286.8
申请日：2014-07-30
Applicant: 古河电气工业株式会社
CPC classification number: C25D1/04 , H01B1/026 , H05K1/0393 , H05K1/09 , H05K2201/0355
Abstract: 本发明提供一种铜箔，其是FCCL或FPC等配线基板用铜箔所要求的厚度为18μm以下的薄箔，在卷对卷搬运中不会产生断裂或皱褶，以聚酰亚胺硬化温度进行加热处理后可充分软化，发挥高弯折性和可挠性。本发明的配线基板用铜箔特征在于，其是一种由铜或包含铜的合金组成的厚度为18μm以下的配线基板用铜箔，在400℃以下的范围内，式(1)所表示的抗拉强度的斜率S最大时的温度Tmax为150℃以上、370℃以下，此时斜率Smax为0.8以上，并且以Tmax加热处理1小时后抗拉强度为常态的80％以下。式(1)为S＝(Ts(T-50)-Ts(T))/50，其中，Ts(T)是以T℃加热处理1小时后的抗拉强度。
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公开(公告)号：CN104540981A
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201480002113.3
申请日：2014-01-28
Applicant: 古河电气工业株式会社
IPC: C25D1/04 , C22C9/00 , C22F1/08 , C25D1/00 , H01M4/13 , H01M4/64 , H01M4/66 , C22F1/00 , C22F1/02
Abstract: 本发明提供一种电解铜箔，其在300℃×1小时的热处理后常温下测定的拉伸强度为500MPa以上。此外，提供一种电解铜箔，其在贴合聚酰亚胺薄膜的印刷线路板方面，机械强度优异。进而，提供一种铜合金箔，其作为使用Si或Sn合金类活性物质的锂离子二次电池用集电体(铜箔)，通过聚酰亚胺粘合剂保持与活性物质的紧贴性，不会变形或断裂。该电解铜箔含有0.06wt％～0.5wt％的钨，且剩余部分由铜构成。该电解铜箔在300℃×1小时的热处理后常温下测定的拉伸强度为500MPa以上。此外，提供一种二次电池，其使用所述电解铜箔作为集电体。
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公开(公告)号：CN103460462A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201280009193.6
申请日：2012-06-27
Applicant: 古河电气工业株式会社
CPC classification number: H01M4/0404 , H01M4/0452 , H01M4/661 , H01M4/667 , H01M10/052 , H01M2004/021 , H01M2004/027
Abstract: 本发明提供一种电解铜箔，其不仅具有出色的活性物质糊状物的涂布性，且电池容量大，即使反复进行充放电循环电池容量的劣化也很少，两面形状相同，因而活性物质涂膜层不会从作为负极集电体的铜箔上剥离。本发明还提供一种锂离子二次电池，所述锂离子二次电池以所述电解铜箔作为集电体，在所述集电体堆积活性物质而作为负极电极，然后将所述负极电极加以组装而成。一种电解铜箔，其构成锂离子二次电池的负极集电体，其中所述电解铜箔的两面通过电解析出而形成，所述电解析出面为粒状晶体的结晶组织。此外，由构成锂离子二次电池的负极的电解铜箔构成的集电体中，所述电解铜箔的两面通过电解析出而形成，所述电解析出面由粒状晶体的结晶组织构成。
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公开(公告)号：CN103649378B
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：CN201280031824.4
申请日：2012-06-27
Applicant: 古河电气工业株式会社
CPC classification number: H01M4/667 , C25D1/04 , C25D3/38 , C25D5/50 , H01M4/0452 , H01M4/134 , H01M4/386 , H01M4/387 , H01M4/661 , H01M10/052
Abstract: 本发明提供一种电解铜箔，其350℃×1小时热处理后，拉伸强度为300MPa以上，拉伸率为3.0%以上，并提供一种铜箔，其对于Si或Sn合金类活性物质的大幅膨胀及收缩，可保持集电体铜箔）与活性物质的密合性，同时集电体（铜箔）不会断裂。本发明的电解铜箔，其经过了表面粗化，其中，该铜箔350℃×1小时加热后拉伸强度为300MPa以上，350℃×1小时加热后拉伸率为3.0%以上，粗化面与未粗化面的铜箔两面的表面积比（实际表面积／几何面积）为1.6～2.2。该电解铜箔是在硫酸铜类电解液中添加3～20ppm从含N杂环上键合了SH基这一结构的化合物或硫脲类化合物中选择的1种以上化合物作为有机添加剂，并添加0～12ppm羟乙基纤维素或低分子量(56)对比文件JP 2008226800 A,2008.09.25,CN 1401209 A,2003.03.05,CN 102168289 A,2011.08.31,JP H10330983 A,1998.12.15,JP 2001189154 A,2001.07.10,JP 2008226800 A,2008.09.25,
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公开(公告)号：CN104903495B
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201480004414.X
申请日：2014-01-20
Applicant: 古河电气工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种常态下机械强度大，即使加热到约300℃也难以热劣化的电解铜合金箔。一种电解铜箔及其制造方法，该电解铜箔含有在pH4以下的液体中以氧化物形式存在的金属或其氧化物，以超过10ppm小于50ppm的量含有氯。
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公开(公告)号：CN104812943B
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201480003179.4
申请日：2014-01-28
Applicant: 古河电气工业株式会社
CPC classification number: C22C9/00 , C25D1/04 , C25D3/38 , H01M4/661 , H01M10/052
Abstract: 本发明提供一种电解铜箔，其在常温下的拉伸强度为650MPa以上，以300℃进行1小时的热处理后在常温下测定的拉伸强度为450MPa以上，并且导电率在60％以上。该电解铜箔的特征在于，含有在pH4以下的酸性溶液中作为氧化物存在的金属，并含有0.005～0.04wt％的氯。所述电解铜箔在箔中摄入Ti、Mo、V、Bi、Te中的至少一种，在常温下的拉伸强度为650MPa以上，以300℃进行1小时的热处理后在常温下测定的拉伸强度为450MPa以上，并且导电率为60％IACS以上。本发明的电解铜箔能够适用于电池用集电体。
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公开(公告)号：CN103348041B
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201280004436.7
申请日：2012-07-30
Applicant: 古河电气工业株式会社
CPC classification number: C25D3/56 , C22C1/02 , C22C9/00 , C25D1/04 , C25D3/58 , C25D7/0614 , H01M4/134 , H01M4/662 , H01M10/052 , H05K3/022
Abstract: 本发明提供一种电解铜合金箔，其在通常状态下的机械强度大，且即使加热到300℃以上也难以发生热劣化。该电解铜箔含有钨，且剩余部分由铜构成。优选地，该电解铜箔是在铜箔中引入钨作为铜合金，在常温下的拉伸强度为650MPa以上，在300℃×1小时热处理后的拉伸强度为450MPa以上，导电率为80%以上。进一步优选地，电解铜箔在常温下的延展率为2.5%以上，300℃×1小时后的延展率为3.5%以上。该电解铜箔是在硫酸‑硫酸铜类电解液中添加硫脲类化合物、钨盐、氯离子，通过电解沉积而制得的。
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公开(公告)号：CN104903495A
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201480004414.X
申请日：2014-01-20
Applicant: 古河电气工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种常态下机械强度大，即使加热到约300℃也难以热劣化的电解铜合金箔。一种电解铜箔及其制造方法，该电解铜箔含有在pH4以下的液体中以氧化物形式存在的金属或其氧化物，以超过10ppm小于50ppm的量含有氯。
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