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公开(公告)号：CN115524938A
公开(公告)日：2022-12-27
申请号：CN202210939995.2
申请日：2022-08-05
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种极紫外运输盒及释放极紫外罩幕静电的方法，极紫外(EUV)微影系统利用EUV运输盒的基底板自EUV扫描仪内的卡盘卸载EUV倍缩光罩。基底板包含顶表面及自顶表面延伸的支撑销。当倍缩光罩卸载至基底板上时，支撑销将倍缩光罩固持在距基底板的顶表面相对大的距离处。支撑销具有相对低的电阻。大距离及低电阻有助于确保在卸载期间粒子不会自基底板行进至倍缩光罩。
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公开(公告)号：CN110858058B
公开(公告)日：2022-01-25
申请号：CN201810973109.1
申请日：2018-08-24
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本公开提供一种光刻设备，包括一激发腔、一标的发射器、一主激光发射器、以及一激光真空装置。标的发射器用以朝向激发腔内的一激发区域发射一标的。主激光发射器用以发射一主脉冲激光至激发区域内的标的。激光真空装置用以发射一真空激光至至激发腔内，且以于激发腔内形成一真空通道。激光真空装置发射真空激光之后，标的发射器发射标的通过真空通道进入激发区域。本公开提供的光刻设备可增加主激光发射器击中标的的精准度。
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公开(公告)号：CN108808427A
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201810399543.3
申请日：2018-04-28
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Abstract: 一种激光系统，包含：激光源、激光放大器及剩余增益监测器。激光源可操作以提供激光光束。激光放大器包含输入埠及输出埠，且可操作以放大激光光束，激光光束沿主要光束路径从输入埠穿过激光放大器至输出埠。剩余增益监测器可操作以提供探测激光光束，探测激光光束沿探测光束路径从输出埠穿过激光放大器至输入埠，其中剩余增益监测器系根据探测激光光束来计算激光放大器的剩余增益。
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公开(公告)号：CN109814338A
公开(公告)日：2019-05-28
申请号：CN201810819905.X
申请日：2018-07-24
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本公开公开了一种极紫外光源净化设备，以及一种用于监测和去除极紫外光微影(extreme ultraviolet lithography，EUVL)辐射源容器的窗口上的锡污染的设备和使用上述设备的方法，包括埋设在一个或多个监控单元中的光学感测模块，上述监控单元用于检查极紫外光辐射源。上述光学感测模块测量红外线(infrared，IR)辐射的强度。上述设备还包括加热元件、氢气供应模块和气体去除模块，上述气体去除模块用于当红外线辐射的强度下降到对应于实质上未被污染的窗口的基准强度的阈值以下时去除锡污染物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115524920A
公开(公告)日：2022-12-27
申请号：CN202210282260.7
申请日：2022-03-21
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Abstract: 一种倍缩光罩载体及其操作的方法，倍缩光罩载体用以快速放电倍缩光罩上的剩余电荷，以防止倍缩光罩载体中的粒子吸附至或转移至倍缩光罩。倍缩光罩载体可用以在倍缩光罩载体的内底板与倍缩光罩之间提供减小的电容。电容的减小可减小用于放电倍缩光罩上剩余电荷的电阻电容(RC)时间常数，这可提高经由倍缩光罩载体的支撑销放电剩余电荷的放电速度。放电速度的提高可降低倍缩光罩载体中的静电力将倍缩光罩载体中的粒子吸附至倍缩光罩的可能性。这可减少转移至基板的使用倍缩光罩来图案化的图案缺陷，可提高半导体装置制造品质及产率。
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公开(公告)号：CN114944350A
公开(公告)日：2022-08-26
申请号：CN202210272158.9
申请日：2022-03-18
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Abstract: 提供一种用于微影罩幕检查的方法及系统，特别是一种用于检查极紫外罩幕及用于此类罩幕的罩幕舱的方法及系统。极紫外罩幕检查工具检查自罩幕舱撷取的罩幕，该罩幕舱置放在位于罩幕检查工具外部的装载端口上。检查制程在选定时间段内执行。检查制程开始后，机器人搬运机制(诸如，机械臂或自动化材料搬运系统)拾取罩幕舱且检查罩幕舱是否有外来颗粒。罩幕舱检查工具基于选定的交换准则判定罩幕舱是否需要清洗或更换。罩幕舱自罩幕舱检查工具撷取且在选定时间段过去之前置放在装载端口上。该方法及系统促进减少检查罩幕及罩幕舱所需的总时间。
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公开(公告)号：CN109426084B
公开(公告)日：2021-07-16
申请号：CN201710735382.6
申请日：2017-08-24
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本公开提供一种标靶材料供应系统，包括一标靶液滴产生器、一标靶液滴收集器及一标靶材料处理装置。标靶液滴产生器配置以产生多个标靶液滴，可供一极紫外光微影设备利用以产生极紫外光。标靶液滴收集器配置以收集上述标靶液滴的未被利用部分。标靶材料处理装置配置以将一熔融状态的一标靶材料供应至标靶液滴产生器，及配置以将从标靶液滴收集器回收的标靶液滴的未被利用部分重新供应至标靶液滴产生器。
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公开(公告)号：CN109818256A
公开(公告)日：2019-05-28
申请号：CN201811331139.9
申请日：2018-11-09
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Abstract: 本公开提供一种主振荡器功率放大器系统的对准方法。此方法包括将输入至主振荡器功率放大器系统的激光放大器链接部的泵功率输入斜升，直到泵功率输入达到操作泵功率输入电平；调整主振荡器功率放大器系统的种子激光的种子激光功率输出，直到种子激光功率输出在第一电平，其中第一电平小于操作种子激光功率输出电平；以及当泵功率输入在操作泵功率输入电平、并且种子激光功率输出在第一电平以及主振荡器功率放大器系统达到稳定操作热状态时，对主振荡器功率放大器系统执行第一光学对准程序。
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公开(公告)号：CN109752927A
公开(公告)日：2019-05-14
申请号：CN201811074418.1
申请日：2018-09-14
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本公开部分实施例提供一种燃料标靶产生器。上述燃料标靶产生器包括一缓冲腔体，配置用于接收一标靶燃料。上述燃料标靶产生器还包括一存储腔体，连结至缓冲腔体并配置用于接收来自缓冲腔体的标靶燃料。上述燃料标靶产生器也包括一阀构件，配置用于控制标靶燃料从缓冲腔体到存储腔体的流动。另外，上述燃料标靶产生器包括一喷嘴，连结至存储腔体并配置用于供应标靶燃料。
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